本发明提供一种不会损害可冷却真空室内设置的防附着板这一功能，并可实施防附着板的烘烤处理的真空处理装置。具有真空室(1)并对该真空室中安装的被处理基板(Sw)实施规定的真空处理的本发明的真空处理装置(SM)，在真空室内设置防附着板(82)...

抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞。在蒸镀源中，蒸发容器具有容器主体和顶板，容器主体包括底部和与上述底部连接设置的侧壁部，顶板与上述底部相向且设置有喷出喷嘴，在由上述容器主体和上述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料。第一加热机构与上述侧壁部...

均匀地对溅射靶（14）进行溅射。在阴极电极（21）的单面配置有溅射靶（14），在相反的一侧的面平行地配置有多个磁铁装置（301、311~314、302）。在磁铁装置（301、311~314、302）的两端配置有可变磁场（47），所述可变...

本发明提供一种通过简单的结构就可冷却真空室内设置的可动防尘板的真空处理置。具有真空室(1)并对该真空室中安装的被处理基板(Sw)实施规定的真空处理的发明的真空处理装置(SM)，其特征在于：在真空室内设置防尘板(8)，防尘板由真室中固定配...

本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有...

本发明提供一种高可靠性、提高了扫描性的电子枪装置。电子枪装置中，磁轭板具有：第一主面，上述第一主面相反侧的第二主面，和与从第一主面朝向第二主面的方向正交的中心线。电子束源位于磁轭板的第一主面侧，能从磁轭板的上述第一主面侧向磁轭板的第二主...

本发明涉及一种成膜装置，具有：具有成膜室的腔室、支承基板的工作台、光源单元、气体供给部以及加热部。上述光源单元具有照射能量射线的照射源，并且与所述成膜室相向地配置。上述气体供给部具有喷淋板和气体扩散室。上述喷淋板使上述能量射线进行透射，...

本发明提供一种可任意设置对成膜对象物的蒸镀方向的具有多用性的真空蒸镀装置用蒸镀源。用于在真空室(Vc)内对成膜对象物(Sw)进行蒸镀的真空蒸镀装置(DM)用的蒸镀源(ES1，ES2)构成为具有：主筒体(6)，其具有填充蒸镀材料(Em)的...

本发明提供一种真空处理装置，其在真空室内用热板将台架上设置的被处理基制在比室温高的规定温度的同时实施真空处理的情况下，可尽量抑制例如导致薄膜劣化这类对真空处理的不良影响。台架(4)具有基台(41)和设置在该基台上可加处理基板(Sw)的热...

本发明的目的是提供一种可简便地设置与目标薄膜厚度对应的被处理基板的公转角速度和自转角速度的最佳值的成膜方法。本发明的成膜方法，其中在真空室(1)内，在同一平面内使被处理基板(Sw)绕公转轴(22)公转，并使被处理基板以被处理基板中心(S...

本发明提供一种在基板上形成规定的薄膜时，可在其整个面上得到更为均匀的薄膜厚度分布的磁控管溅射装置用磁铁单元。以靶(3)受溅射的溅射面侧为下，配置在靶上方的磁控管溅射装置用磁铁单元(4)具有：磁轭(41)，其与靶相对配置，由磁性材料制成；...

本发明提供能够保持基板的位置精度且提高基板的输送效率的基板输送装置和基板输送方法。具备：驱动部(20)，使臂(11)上升而使末端执行器(12)接收基板(S)；以及控制装置(30)，对驱动部(20)的输出进行控制来设定臂(11)的上升速度...

本发明提供一种溅射装置，其设置为在通过靶的溅射形成介电膜时，可长时间有效抑制阳极消失。溅射装置(SM)包括配置有靶(2)的真空室(1)以及向靶施加给定电力的溅射电源(Ps)，通过向靶施加电力在真空室内形成等离子体气氛，并对靶进行溅射，从...

本发明提供一种抑制气体体积的急剧增加、稳定地支承基板的静电吸盘、真空处理装置及基板处理方法。静电吸盘具有吸盘板，所述吸盘板具有支承基板的第一面和与第一面相反一侧的第二面。在吸盘板中设置有排气通路，在第一面支承基板时，在基板与第一面之间，...

本发明提供一种在基板上形成薄膜时，可在其整个面上得到更为均匀的薄膜厚度分布的溅射装置。溅射装置(SM)具有：真空室(1)，其中相对配置有基板(W)和靶(3)；等离子体产生装置，其在真空室内产生等离子体；以及磁铁单元(4)，其配置在靶的上...

以高量产性且更均匀的膜厚分布在基板上形成膜。在成膜装置中，基板支架支撑至少一个与第一靶相向的基板，以第一中心轴为中心旋转，基板能够以偏离上述第一中心轴的第二中心轴为中心旋转。真空容器收纳上述第一靶和基板支架。电力源向第一靶供给放电电力。...

本发明提供能够扩大设计自由度的基板输送装置和基板输送方法。基板输送装置具备：臂；末端执行器，与所述臂连结；驱动部，使所述臂上升来使所述末端执行器接收基板；以及控制部，对所述驱动部的输出进行控制来变更所述臂的上升速度，所述控制部构成为，一...

一种用于石英晶体振荡式薄膜厚度监视器的传感器头，其具有配置有驱动装置的传感器头主体，由驱动装置旋转驱动且在同一圆周上间隔设置有多个石英振子保持件，设置在传感器头主体上的掩膜体，并覆盖设置有各石英振子的保持件的上表面，且开设有朝向任意一个...

本发明的真空处理装置具备电极框。电极框具有上板部、下板部和纵板部。上板部被安装在电极法兰上，在俯视中形成为框形状且具有上外侧区域。下板部具有与滑动板的一部分接触的接触面且与上板部平行延伸，在俯视中形成为框形状且具有下外侧区域。纵板部具有...

本发明的一个方式涉及的成膜装置具有腔室、工作台、光源单元、气体供给部以及清洗单元。所述腔室具有：腔室主体，其具有成膜室；顶板，其安装在所述腔室主体，具有窗部。所述工作台配置在所述成膜室，具有支承基板的支承面。所述光源单元设置在所述顶板，...