蒸镀源以及蒸镀装置制造方法及图纸

技术编号:29043495 阅读:31 留言:0更新日期:2021-06-26 05:54
本发明专利技术提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔。第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置在收纳箱的一方向上的比中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔。分别位于收纳箱的一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比蒸镀对象物的上述一方向上的长度长,在第二喷嘴的射出蒸镀材料的气化物质的开口端中,一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于中央区域侧的部分距离假想基准面的高度低,所述假想基准面是与第二喷嘴孔的孔轴正交的面。孔轴正交的面。孔轴正交的面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀源以及蒸镀装置


[0001]本专利技术涉及一种具有对蒸镀对象物射出蒸镀材料的喷嘴的蒸镀源以及蒸镀装置。

技术介绍

[0002]例如,在专利文献1中,公开了一种具有长条状的蒸镀源的蒸镀装置,该蒸镀源设置有对基板射出蒸镀材料的多个喷嘴。蒸镀源具有收纳蒸镀材料的收纳箱和多个喷嘴。
[0003]在专利文献1所记载的蒸镀装置中,为了抑制掩蔽效应(Mask effect)并获得均匀的膜厚分布的薄膜,以将位于蒸镀源的长度方向的两侧方区域各自的最外方的喷嘴之间的间隔设为比基板的宽度窄,并将分别位于蒸镀源的两侧方区域的多个喷嘴的孔轴向外方大幅倾斜的方式进行配置,进而,高密度地配置分别位于两侧方区域的多个喷嘴。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:国际公开第2018/025637号

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]在这种蒸镀装置中,期望一种能够相对于蒸镀对象物获得均匀的膜厚分布且能够长时间连续生产的蒸镀源。为了实现这种长时间连续生产,需要不产生喷嘴的堵塞,使蒸镀材料不劣化。
[0009]鉴于以上情况,本专利技术提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。
[0010]用于解决问题的手段
[0011]为了达成上述目的,本专利技术的一形态的蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。
[0012]上述收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。
[0013]上述第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在上述收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔,该第一喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过。
[0014]上述第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置在上述收纳箱的上述一方向上的比上述中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔,该第二喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过。
[0015]分别位于上述收纳箱的上述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比上述蒸镀对象物的上述一方向上的长度长。
[0016]在上述第二喷嘴的射出上述蒸镀材料的气化物质的开口端中,上述一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于上述中央区域侧的部分距离上述假想基准面的高度低,上述假想基准面是与上述第二喷嘴孔的孔轴正交的面。
[0017]根据本专利技术的这样的结构,通过使用第二喷嘴,能够控制从第二喷嘴射出的蒸镀材料的射出角度,能够进行膜厚分布均匀的成膜。
[0018]也可以为,上述一方向上的位于外方侧的部分的端面位于比包含假想线的假想倾斜面靠上述蒸镀对象物侧的位置,上述假想线穿过上述第二喷嘴的开口端的内缘部中的位于上述中央区域侧的部分与上述一方向上的位于外方侧的部分,并在投影于上述假想基准面时沿着上述一方向,上述假想倾斜面相对于上述假想基准面以上述假想线与上述假想基准面所成的角度倾斜。
[0019]也可以为,将上述第二喷嘴孔的孔轴投影于由上述收纳箱的深度方向和上述一方向所规定的平面而形成的线相对于上述蒸镀对象物的蒸镀面或上述蒸镀面的延长面正交,或者向所述中央区域侧倾斜。
[0020]也可以为,上述第二喷嘴的开口端的形状在与上述一方向正交的方向上具有长度方向。
[0021]也可以为,上述第二喷嘴由沿着与上述一方向正交的方向配置的多个副喷嘴构成。
[0022]也可以为,上述第一喷嘴具有开口端,该开口端射出上述气化物质,距离上述假想基准面的高度沿该开口端的周缘相同。
[0023]为了达成上述目的,本专利技术的一形态的蒸镀装置具有蒸镀源和掩膜件。
[0024]蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组,上述收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料,上述第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在上述收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔,该第一喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过,上述第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置在上述收纳箱的上述一方向上的比上述中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔,该第二喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过,分别位于上述收纳箱的上述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比上述蒸镀对象物的上述一方向上的长度长,在上述第二喷嘴的射出上述蒸镀材料的气化物质的开口端中,上述一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于上述中央区域侧的部分距离上述假想基准面的高度低,上述假想基准面是与上述第二喷嘴孔的孔轴正交的面。
[0025]上述掩膜件配置在上述蒸镀对象物与上述蒸镀源之间,具有限制上述气化物质相对于上述蒸镀对象物的附着范围的多个开口。
[0026]也可以为,上述掩膜件的开口的内表面具有从上述蒸镀源起在厚度方向上逐渐变细的锥面,
[0027]在上述第二喷嘴的开口端,在将作为上述第二开口端与上述假想基准面所成的角度的倾斜角设为θ,将上述锥面相对于上述掩膜件的板面的角度设为θm时,满足:
[0028][公式1][0029]θ>θm

15
°

[0030]也可以为,在将上述蒸镀对象物的上述一方向上的长度设为Lw,将上述第一喷嘴能够配置于上述收纳箱的上述一方向上的长度设为L1,将上述蒸镀对象物与上述第二喷嘴之间的距离设为H时,
[0031]上述第一喷嘴被配置在上述一方向上的从上述收纳箱的上述一方向上的中心起
由以下公式求出的L1/2的长度的区域内:
[0032][公式2][0033][0034]也可以为,在将分别位于上述收纳箱的上述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔设为L,将上述收纳箱的内尺寸的上述一方向上的长度设为L2时,满足:
[0035][公式3][0036]0.8≤L/L2<1。
[0037]也可以为,还具有移动单元,该移动单元使上述蒸镀对象物相对于上述蒸镀源向上述一方向相对移动。
[0038]也可以为,具有3个沿上述一方向排列的上述蒸镀源,
[0039]设置于3个上述蒸镀源中的位于中央的蒸镀源的第一喷嘴的孔轴与上述蒸镀对象物的蒸镀面正交,第二喷嘴的孔轴相对于上述蒸镀面或上述蒸镀面的延长面正交,或者向上述中央区域侧倾斜,
[0040]设置于3个上述蒸镀源中的分别位于上述中央的蒸镀源的两侧的蒸镀源的第一喷嘴的孔轴向上述中央的蒸镀源侧倾斜,第二喷嘴的孔轴向上述中央区域侧倾斜且向上述中央的蒸镀源侧倾斜。
[0041]专利技术的效果
[0042]如上所述,根据本专利技术,能够进行均匀的膜厚分布的成膜。
附图说明
[0043]图1是说明本专利技术的实施方式的蒸镀装置的局部立体图。
[0044]图2是从正面侧观察上述蒸镀装置时的蒸镀装置的局部剖视图。
[0045]图3是设置于上述蒸镀装置的蒸镀源的概要俯视图。
[0046]图4是设置于上述蒸镀源的第一喷嘴的立体图本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种蒸镀源,具有:收纳箱,收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料,第一喷嘴组,由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在所述收纳箱的一方向上的中央区域并具有第一喷嘴孔,该第一喷嘴孔供朝向所述蒸镀对象物射出的所述蒸镀材料的气化物质通过,以及第二喷嘴组,由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置在所述收纳箱的所述一方向上的比所述中央区域靠外方的各侧的侧方区域并具有第二喷嘴孔,该第二喷嘴孔供朝向所述蒸镀对象物射出的所述蒸镀材料的气化物质通过,所述蒸镀源的特征在于,分别位于所述收纳箱的所述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比所述蒸镀对象物的所述一方向上的长度长,在所述第二喷嘴的射出所述蒸镀材料的气化物质的开口端中,所述一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于所述中央区域侧的部分距离所述假想基准面的高度低,所述假想基准面是与所述第二喷嘴孔的孔轴正交的面。2.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述第二喷嘴的开口端的所述一方向上的位于外方侧的部分的端面位于比包含假想线的假想倾斜面靠所述蒸镀对象物侧的位置,所述假想线穿过所述第二喷嘴的开口端的内缘部中的位于所述中央区域侧的部分与所述一方向上的位于外方侧的部分,并在投影于所述假想基准面时沿着所述一方向,所述假想倾斜面相对于所述假想基准面以所述假想线与所述假想基准面所成的角度倾斜。3.根据权利要求1或2所述的蒸镀源,其特征在于,将所述第二喷嘴孔的孔轴投影于由所述收纳箱的深度方向和所述一方向所规定的平面而形成的线相对于所述蒸镀对象物的蒸镀面或所述蒸镀面的延长面正交,或者向所述中央区域侧倾斜。4.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述第二喷嘴的开口端的形状在与所述一方向正交的方向上具有长度方向。5.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述第二喷嘴由沿着与所述一方向正交的方向配置的多个的副喷嘴构成。6.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述第一喷嘴具有开口端,该开口端射出所述气化物质,距离所述假想基准面的高度沿着该开口端的周缘相同。7.一种蒸镀装置,其特征在于,具有:蒸镀源,具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组,所述收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料,所述第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在所述收纳箱的一方向上的中央区域并具有第一喷嘴孔,该第一喷嘴孔供朝向所述蒸镀对象物射出的所述蒸镀材料的气化物质通过,所述第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置...

【专利技术属性】
技术研发人员:藤井严菊地诚
申请(专利权)人:株式会社爱发科
类型:发明
国别省市:

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