【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及基板处理装置和夹持机构。
技术介绍
1、在半导体器件领域、平板显示器(fpd)领域中，作为对基板(被处理对象)形成各种薄膜的成膜装置，已知有溅射装置和沉积装置。
2、在溅射装置中，在维持减压气氛的腔室内，以与被安装于阴极的靶相对的方式配置基板，从靶将材料分子弹出，对在掩模的开口露出的基板进行成膜。
3、另外，例如在专利文献1中所公开的沉积装置中，在维持减压气氛的腔室内，从沉积源使材料分子蒸发，对在掩模的开口露出的基板进行成膜。
4、专利文献1：日本特开2010-165571号公报
5、在成膜装置中使用使得基板与保持基板的基板保持部紧贴的多个夹持机构。在基板保持部的外周区域设置有多个开口部。夹持机构被收纳于多个开口部中每个开口部的内部。
6、因此，从靶或沉积源所产生的材料分子以通过掩模与基板之间的间隙的方式飞翔。进一步地，材料分子通过收纳夹持机构的多个开口部而侵入构成基板保持部的多个结构零部件之间的空间。在该空间中，材料分子直接附着于结构零部件的表面，或者在被结构零部件的表面反射之后附着于结构零部件的表面。这样的材料分子成为堆积于结构零部件的表面的堆积物。存在该堆积物容易从结构零部件的表面剥离而成为颗粒产生源的问题。
7、进一步地，为了预先抑制颗粒的产生，需要在暂时停止成膜装置的运行而使成膜装置的内部的气氛成为大气压气氛的状态下，拆分基板保持部，进行将附着有堆积物的使用后的结构零部件与使用前的结构零部件进行更换的维护。但是，存在不能减少进行维护的
技术实现思路
1、本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其要达到以下的目的。
2、1、抑制在基板处理装置中通过掩模与基板之间的间隙的材料分子侵入基板保持部的内部这一情况。
3、2、抑制颗粒的产生。
4、3、意图减少用于维护的时间和成本，从而提升装置的生产率。
5、本专利技术一方式的基板处理装置包括：对基板实施表面处理的处理室；被配置于所述处理室内的基板保持部，所述基板保持部包括载置所述基板的基板载置部及能够支撑载置于所述基板载置部上的所述基板的夹持机构；以及具有框部的掩模，所述框部包括具有与所述基板的处理对象区域相对应的形状的掩模开口部，所述夹持机构具有从所述基板保持部的侧面露出的可动臂以及能够支撑所述基板的夹持部，所述夹持部具有被支撑于所述可动臂上的臂支撑部、在所述基板载置部上能够与所述基板接触的基板接触部、以及位于所述臂支撑部和所述基板接触部之间的延伸臂，所述延伸臂延伸的方向与所述可动臂延伸的方向相互交叉。
6、换言之，延伸臂在相对于基板载置部大致平行的方向上，从臂支撑部延伸到基板接触部。可动臂在相对于基板载置部大致垂直的方向例如铅锤方向上延伸。可动臂与基板保持部的侧面相对。延伸臂和可动臂在臂支撑部上相互连接，并且延伸臂和可动臂形成大致l字形状。即，延伸臂和可动臂可称为l字臂。l字臂面向基板保持部的上表面与侧面之间的角部。
7、根据该结构，不需要在基板保持部的内部设置可动臂。即，不需要在基板保持部上设置以往那样的用于收纳可动臂的开口部。从而，在基板处理装置中飞翔的材料分子虽然以通过掩模与基板之间的间隙的方式飞翔，但是抑制材料分子侵入基板保持部的内部。因此，能够抑制材料分子向构成基板保持部的多个结构零部件之间的空间的侵入。具体地，能够抑制材料分子对结构零部件的表面的直接附着。另外，能够抑制材料分子在结构零部件的表面反射后材料分子附着于结构零部件的表面的情况。由此，能够抑制材料分子对结构零部件的表面的堆积。从而，能够抑制由结构零部件的表面的材料分子堆积物引起的颗粒的产生。
8、进一步地，能够抑制材料分子对构成基板保持部的结构零部件的表面的堆积，由此在维持抑制颗粒的产生的状态下，能够长时间地使用构成基板保持部的结构零部件。从而，能够减少将使用后的结构零部件与使用前的结构零部件进行更换的维护的频率。因此，能够减少用于维护的时间和成本，能够更长时间地连续使用成膜装置，能够提高基板处理装置的生产率。
9、在本专利技术一方式的基板处理装置中，所述夹持机构也可以具有被支撑于所述基板保持部上的固定基部；由所述固定基部所支撑的旋转轴；以及可动基部，具有在所述可动臂延伸的方向上相对于所述固定基部能够分离或能够接近的第一可动部、位于与所述第一可动部相反的一侧并且支撑所述可动臂的第二可动部、及被设置于所述第一可动部与所述第二可动部之间并且被支撑于所述旋转轴上的轴支部。
10、根据该结构，在使可动臂从基板保持部的侧面露出的状态下，能够使可动臂在旋转轴的周围旋转。伴随着可动臂的旋转，基板接触部能够支撑基板或者能够解除基板的支撑状态。
11、在本专利技术一方式的基板处理装置中，所述夹持机构也可以具有被设置于所述固定基部与所述第一可动部之间的突出部，所述固定基部具有与所述第一可动部相对的第一固定基面和与所述第二可动部相对的第二固定基面，所述第一可动部具有第一磁铁，所述第一固定基面具有与所述第一磁铁相对的第二磁铁，所述第二可动部具有第三磁铁，所述第二固定基面具有与所述第三磁铁相对的第四磁铁，所述第一磁铁和所述第二磁铁各自具有相互吸引的磁性，所述第三磁铁和所述第四磁铁各自具有相互排斥的磁性，在所述固定基部和所述第一可动部在所述突出部处接触的状态下，所述第一磁铁和所述第二磁铁相互分离。
12、根据该结构，能够使用相互吸引的磁铁的吸力以及相互排斥的磁铁的斥力来使得处于基板夹持状态或者夹持解除状态的夹持机构的状态稳定。进一步地，通过突起部能够防止吸力作用下的两个磁铁之间的接触。换言之，在这样的夹持机构中不使用弹簧。一般地，在使用弹簧的机构中，存在着在保持弹簧的安装面与弹簧之间产生摩擦并从摩擦部分产生颗粒的问题。与此相对，在替代弹簧的恢复力而使用磁铁的吸力和斥力的机构中，能够抑制颗粒产生。
13、进一步地，通过突出部维持吸力作用下的第一磁铁与第二磁铁的非接触状态，由此能够容易地使第一磁铁和第二磁铁分离。
14、在本专利技术一方式的基板处理装置中，所述夹持部也可以具有位于所述臂支撑部与所述基板接触部之间并且被设置于所述延伸臂上的凸缘，所述基板载置部具有支撑所述基板的外周区域的外周载置部、在所述基板的厚度方向上从所述外周载置部突出的凸部、以及在与所述基板的边平行的方向上被设置于所述凸部的旁边的缺口部，所述延伸臂的一部分被插入到所述缺口部中，在从所述臂支撑部朝向所述基板接触部的方向上所述凸缘覆盖所述缺口部。
15、根据该结构，在由夹持部支撑基板的支撑状态下，基板保持部的缺口部由凸缘覆盖。从而，抑制在基板处理装置中飞翔的材料分子通过基板保持部的缺口部。能够抑制通过了缺口部的材料分子的飞散。因此，能够抑制颗粒的产生。
16、在本专利技术一方式的基板处理装置中，所述处理室也可以具有对所述基板实施表面处理的第一室以及与本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，用于处理基板，所述基板处理装置包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其中，
5.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其中，
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，
7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，
8.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，
9.一种夹持机构，在构成基板处理装置的基板保持部上支撑基板，所述夹持机构包括：
10.根据权利要求9所述的夹持机构，
11.根据权利要求9或10中的任一项所述的夹持机构，其中，
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，用于处理基板，所述基板处理装置包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其中，
5.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其中，
6.根据权利要求5所述...
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