本发明专利技术的基板处理装置是处理基板的装置。所述基板处理装置具备处理室、后背室、掩模和旋转支撑机构。所述旋转支撑机构具有旋转轴和基板保持部。所述旋转支撑机构使支撑所述基板的所述基板保持部在水平搬运位置与成膜直立位置之间旋转。在所述水平搬运位置上，所述基板保持部以向水平方向的方式支撑所述基板，以使所述基板在所述水平方向上能经由所述搬运口移动。在所述成膜直立位置上，所述基板保持部以在对所述基板进行表面处理时所述基板与所述掩模相对的方式支撑所述基板。在所述基板保持部的从所述水平搬运位置向所述成膜直立位置的旋转方向上，所述成膜直立位置上的所述基板保持部的重心的位置不超过所述旋转轴在铅垂方向上的正上方的位置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及基板处理装置。特别是，本专利技术涉及在立式(成膜直立位置)处理被处理基板的、沉积、溅射、cvd等成膜处理、加热处理等对基板的处理中使用的基板处理装置。
技术介绍
1、在半导体器件领域、平板显示器(fpd)领域中，作为在基板(被处理体)上形成各种薄膜的方法，使用溅射或沉积。在溅射装置中，在维持减压气氛的腔室内，以与安装在阴极上的靶相对的方式配置掩模和基板，并对基板进行成膜。在沉积装置中，在维持减压气氛的腔室内，在沉积源与基板之间配置掩模，并对基板进行成膜。
2、以往，如专利文献1所公开的那样，已知有在水平搬运位置与成膜直立位置之间一边支撑基板一边使基板旋转的旋转支撑机构。旋转支撑机构具有保持基板的基板保持部和使基板保持部旋转的旋转轴。在具备这样的旋转支撑机构的基板处理装置中，基板保持部支撑水平搬运到腔室内部的基板。旋转轴使基板保持部旋转，基板保持部处于垂直状态。由此，基板处于大致垂直地直立的状态。在成膜时，在与基板保持部一起垂直地直立基板的状态下，对基板进行立式成膜。
3、专利文献1：日本特开2010-165571号公报
4、在通过将基板的位置从水平搬运位置改变到成膜直立位置而使基板大致垂直地直立的旋转操作中，由基板保持部支撑的基板的重心及基板保持部的重心移动。伴随着该重心移动，有时基板的位置、构成旋转支撑机构的部件(以下称为结构部件)之间的相对位置变动。近年来，伴随着基板的大型化，使基板旋转的旋转支撑机构的重量增大，如上所述的重心移动引起的部件的位置变动变得不能忽视。
>5、特别是，当结构部件的位置伴随着旋转支撑机构的驱动而变动时，在结构部件之间产生冲击，有可能因该冲击的产生而产生颗粒。6、而且，由于基板大型化，因此当结构部件的位置伴随着旋转支撑机构的驱动而变动时，在远离旋转轴的位置上变动量较大。因此，存在基板的对准精度降低、成膜源与基板之间的距离变化而在基板上形成的膜的厚度不能成为所希望厚度的问题。另外，在结构部件的位置因旋转驱动而变动而导致对准精度降低的情况下，存在结构部件相互接触，无法维持必要的电位的问题。因此，有可能无法将成膜条件维持在所要求的状态。
7、这样，因在水平搬运位置与成膜直立位置之间使基板旋转的操作，产生结构部件之间的位移和冲击，由此，存在fpd制造中的成品率有可能降低的问题。
技术实现思路
1、本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其要达到以下的目的。
2、1、通过将基板的位置从水平搬运位置改变到成膜直立位置，从而在将基板大致垂直地直立的旋转操作中，抑制构成旋转支撑机构的结构部件上产生的冲击。
3、2、抑制因基板的旋转而引起的成膜条件变动。
4、3、抑制颗粒的产生。
5、4、实现作业性的提高。
6、本专利技术人对利用旋转支撑机构进行旋转驱动时的结构部件之间产生位移和冲击的原因进行深入研究的结果，注意到有可能因旋转支撑机构的重心移动而产生这样的结构部件之间的位移和冲击。
7、具体而言，在基板保持部位于水平搬运位置的情况下，基板保持部的重心位于从旋转轴观察的沿大致水平方向延伸的线上。当旋转轴的旋转开始时，支撑基板的基板保持部以从水平搬运位置直立的方式开始旋转，并逐渐接近成膜直立位置。基板保持部的重心的位置也伴随着旋转轴的旋转而移动。在基板保持部到达成膜直立位置之前，支撑基板的基板保持部的重心的位置通过从旋转轴沿铅垂方向延伸的线(以下称为铅垂方向线)上的位置。换言之，伴随着旋转轴的旋转，支撑基板的基板保持部的重心的位置以跨越铅垂方向线的方式移动。当基板保持部到达成膜直立位置时，基板保持部的旋转停止。此时，从旋转轴来看，成膜直立位置上的基板保持部的重心的位置位于水平搬运位置上的基板保持部的重心的相反侧。
8、在这样的旋转支撑机构的驱动中，伴随着旋转轴的旋转，支撑基板的基板保持部的重心的位置跨越从旋转轴沿铅垂方向延伸的线而向水平方向移动。因此，在旋转轴延伸的方向上观察旋转支撑机构的情况下，在旋转轴上产生的力矩的方向伴随着支撑基板的基板保持部的重心的移动而从顺时针方向转换到逆时针方向。或者，在与旋转轴延伸的上述方向相反的方向上观察旋转支撑机构的情况下，在旋转轴上产生的力矩的方向伴随着支撑基板的基板保持部的重心的移动而从逆时针方向转换到顺时针方向。
9、本专利技术人发现，由于支撑基板的基板保持部的重心以跨越从旋转轴沿铅垂方向延伸的线的方式移动，换言之，由于在旋转轴上产生的力矩的方向从一个方向转换到另一个方向，产生结构部件之间的位移和冲击。
10、特别是，伴随着基板的大型化，支撑大型基板的基板保持部的重心的位置与旋转轴的旋转中心之间的距离也变大。因此，在旋转轴使基板保持部旋转的旋转驱动中，在旋转轴上产生的力矩也变大。认为这增加了结构部件之间的位移量和冲击的大小。进而，在进行成膜处理和加热处理的真空气氛中，旋转支撑机构的结构部件产生热变形。难以实际测量由热变形引起的结构部件之间的偏移和间隙的产生。认为在这样的部件之间产生的偏移和间隙对结构部件之间的位移量和冲击的大小的增大产生影响。
11、因此，本专利技术人认为，只要能够得到实现以下点的结构，就能够抑制构成旋转支撑机构的包括基板保持部的结构部件之间的位移和冲击。
12、·抑制在基板保持部上产生的载荷的变动。
13、·抑制在构成对旋转轴赋予旋转力的减速器的驱动齿轮中产生的齿隙。
14、·抑制在旋转轴上产生的扭转。
15、·抑制基板保持部的挠曲等变形。
16、·抑制旋转支撑机构的结构部件之间的间隙的变动。
17、·抑制旋转支撑机构的结构部件之间产生的偏移。
18、·抑制基板保持部跨越从旋转轴沿铅垂方向延伸的线的移动。
19、本专利技术的一个方案所涉及的基板处理装置，包括：处理室，对所述基板实施表面处理；后背室，与所述处理室邻接，并且具有供所述基板通过的搬运口，且在所述处理室中的表面处理时支撑所述基板；掩模，配置在所述后背室内，以与所述处理室相对的方式直立设置；以及旋转支撑机构，具有能够绕旋转中心旋转的旋转轴和安装在所述旋转轴上并且能够在所述后背室内支撑所述基板的基板保持部，所述旋转支撑机构用于使支撑有所述基板的所述基板保持部在水平搬运位置与成膜直立位置之间旋转。在所述基板的所述水平搬运位置上，所述基板保持部以向所述水平方向的方式支撑所述基板，以使所述基板在水平方向上能够经由所述搬运口移动。在所述基板的所述成膜直立位置上，所述基板保持部以在对所述基板进行表面处理时所述基板与所述掩模相对的方式支撑所述基板。在所述基板保持部的从所述水平搬运位置向所述成膜直立位置的旋转方向上，所述成膜直立位置上的所述基板保持部的重心的位置不会超过所述旋转轴在铅垂方向上的正上方的位置。
20、换言之，即使进行使基板保持部从水平搬运位置旋转到成膜直立位置的旋转驱动，成膜直立位置上的基板保持部的重心在水平方向上的本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，用于处理基板，所述基板处理装置包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述旋转支撑机构具备：
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，
8.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，用于处理基板，所述基板处理装置包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述旋转支撑机构具备：
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
4.根据权利要求1所述的基板处理装...
【专利技术属性】
技术研发人员：吉田大介，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：
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