掩膜板及蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种掩膜板及蒸镀装置，本发明专利技术实施例中的技术方案，掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括蒸镀区和遮挡区，所述掩膜板还包括：支撑条，位于所述掩膜板本体的第一侧的所述遮挡区；隔离部，位于所述掩膜板本体的第二侧的所述遮挡区，所述第一侧与所述第二侧分别位于所述掩膜板本体的相对的两侧。通过在掩膜板的第一侧和第二侧分别设置支撑条和隔离部，分别给掩膜板本体和基板以支撑，减小了掩膜板的侧向偏移，减小蒸镀偏位。减小蒸镀偏位。减小蒸镀偏位。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板及蒸镀装置


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种掩模板及蒸镀装置。

技术介绍

[0002]有机电致发光显示(Organic Light Emitting Display，OLED)是一种极具发展前景的显示技术。OLED显示装置不仅具有十分优异的显示性能，还具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性，被誉为“梦幻显示器”，得到了各大显示器厂家的青睐，已成为显示
主力军。
[0003]OLED需要将有机发光材料通过掩膜板蒸镀到基板上，在张网和蒸镀过程中，掩膜板和基板均会下垂，但是因为自身重量和材料不同等原因，其下垂量不同，因此基板的中央位置下垂最先接触到掩膜板，然后在掩膜板表面摊开展平，因此掩膜板不同位置受到应力不同，容易导致掩模板侧向偏移，导致蒸镀偏位。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种掩模板及蒸镀系统，减少张网和蒸镀过程中，掩膜板侧向偏移引起的蒸镀偏位。
[0005]在本专利技术的一个实施例中，掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括蒸镀区和遮挡区，所述掩膜板还包括：
[0006]支撑条，位于所述掩膜板本体的第一侧的所述遮挡区；
[0007]隔离部，位于所述掩膜板本体的第二侧的所述遮挡区，所述第一侧与所述第二侧分别位于所述掩膜板本体的相对的两侧。
[0008]在本专利技术的一个实施例中，可选地，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述隔离部投影的宽度小于所述支撑条的宽度。
[0009]在本专利技术的一个实施例中，可选地，所述支撑条与所述隔离部均为条形结构，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述支撑条的投影与所述隔离部的投影至少部分重合。
[0010]在本专利技术的一个实施例中，可选地，多个所述支撑条沿第一方向延伸并沿第二方向排列，多个所述隔离部沿第二方向延伸并沿第一方向排列，所述第一方向与所述第二方向交叉。
[0011]在本专利技术的一个实施例中，可选地，所述支撑条为分别沿第一方向和第二方向延伸的网格状结构，所述隔离部为分别沿所述第一方向和所述第二方向延伸的网格状结构，所述第一方向和所述第二方向交叉，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述支撑条的投影完全覆盖所述隔离部的投影。
[0012]在本专利技术的一个实施例中，可选地，所述支撑条为条形结构或网状结构，所述隔离部为位于所述掩膜板本体第二侧表面并向远离所述第二侧表面延伸的若干凸起，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述支撑条的投影完全覆盖所述凸起的投影。
[0013]在本专利技术的一个实施例中，可选地，所述凸起具有靠近掩膜板本体的第一面与远
离掩膜板本体的第二面，所述第一面的面积大于所述第二面的面积。
[0014]在本专利技术的一个实施例中，可选地，所述凸起在所述掩膜板本体上的密度由所述掩膜板的中心区域向边缘区域逐渐减小。
[0015]在本专利技术的一个实施例中，可选地，所述隔离部的厚度小于10um。
[0016]在本专利技术的一个实施例中，可选地，所述支撑条和所述隔离部的材质为因瓦合金或镍铁中的一种。
[0017]在本专利技术的另一实施例中，包括一蒸镀装置，包括如上任一项中所述的掩膜板，还包括蒸镀源和待蒸镀基板，其中：
[0018]所述支撑条位于所述掩膜板靠近蒸镀源的一侧，所述隔离部位于所述掩膜板靠近待蒸镀基板的一侧。
[0019]本专利技术实施例中的技术方案，通过在掩膜板的第一侧和第二侧分别设置支撑条和隔离部，分别给掩膜板本体和基板以支撑，减小了掩膜板的侧向偏移，减小蒸镀偏位。
附图说明
[0020]图1为现有技术中的掩膜板和蒸镀装置；
[0021]图2为图1中掩膜板的仰视图；
[0022]图3和图4为蒸镀过程中基板和掩膜板的下垂量；
[0023]图5为本专利技术一实施例中隔离部的示意图；
[0024]图6为本专利技术一实施例中支撑条的示意图；
[0025]图7为本专利技术一实施例中掩膜板的示意图；
[0026]图8为图7中实施例中沿AA
’
的截面图；
[0027]图9为本专利技术另一实施例中隔离部的示意图；
[0028]图10为本专利技术另一实施例中支撑条的示意图；
[0029]图11为本专利技术又一实施例中掩膜板的示意图；
[0030]图12为图11实施例中掩膜板沿BB
’
的截面图。
[0031]附图标记：
[0032]1‑
蒸镀源
[0033]2‑
掩膜板
[0034]21
‑
掩膜板本体
[0035]22
‑
支撑条
[0036]23、23
’‑
隔离部
[0037]210
‑
蒸镀区
[0038]211
‑
遮挡区
[0039]2101
‑
像素开口
[0040]3‑
基板
具体实施方式
[0041]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便
于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0042]本专利技术实施例所涉及到的“上”“下”“左”“右”等方向词语，指的是在坐标轴中的相对位置，而不是绝对位置。本专利技术实施例所涉及到的“上”、“上方”可以理解为相互接触或不接触，由本领域技术人员根据实际情况设置，不能理解为对本专利技术的限制。
[0043]如图1和图2所示，图2为图1中掩膜板2的仰视图。在OLED的制备过程中，蒸镀源1需要通过掩膜板2将有机发光材料蒸镀到基板3上，掩膜板2包括掩膜板本体21和支撑条22，支撑条22位于掩膜板本体2的一侧，一般是位于掩膜板本体靠近蒸镀源的一侧，用于支撑掩膜板本体，减小掩膜板本体由于重力或其他原因引起的下垂。基板位于掩膜板远离蒸镀源的一侧，掩膜板本体包括蒸镀区210和遮挡区211，每个蒸镀区210包括若干像素开口2101，蒸发源发出的材料可通过掩膜板本体蒸镀区的像素开口附着到基板上以完成有机发光材料的蒸镀。
[0044]请继续参考图3和图4，在张网和蒸镀过程中，掩膜板本体和基板均存在下垂现象，由于重量、材料或使用情况的不同，掩膜板本体和基板的下垂量不同，例如掩膜板本体的下垂量为a，基板的下垂量为b，且b＞a，且掩膜板本体和基板的中心区域为下垂的最低点，因此当基板和掩膜板本体贴合对位时，基板的中心区域和掩膜板本体的中心区域最先接触，接触面积逐渐增大并向中心周围散开。因此在贴合过程中，掩膜板本体受到的挤压应力是不同的，其中心区域最先受到应力且受到的应力最大，其边缘位置最后受到应力且应力最小，位于蒸镀区的像素开口受到应力挤压后，开口位置会发生偏移。由于受到的应力不同导致像素开口区的偏移尺寸不同，最终导致蒸镀的像素偏位。
[0045]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括蒸镀区和遮挡区，所述掩膜板还包括：支撑条，位于所述掩膜板本体的第一侧的所述遮挡区；隔离部，位于所述掩膜板本体的第二侧的所述遮挡区，所述第一侧与所述第二侧分别位于所述掩膜板本体的相对的两侧。2.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述隔离部投影的宽度小于所述支撑条的宽度。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑条与所述隔离部均为条形结构，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述支撑条的投影与所述隔离部的投影至少部分重合。4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，多个所述支撑条沿第一方向延伸并沿第二方向排列，多个所述隔离部沿第二方向延伸并沿第一方向排列，所述第一方向与所述第二方向交叉。5.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑条为分别沿第一方向和第二方向延伸的网格状结构，所述隔离部为分别沿所述第一方向和所述第二方向延伸的网格状结构，所述第一方向和所述第二方向交叉...

【专利技术属性】
技术研发人员：颜明哲，
申请(专利权)人：维信诺科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：