成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够抑制对准精度降低的成膜装置。本发明专利技术的成膜装置包括：容器；容器支承体，其设置于所述容器的外部，支承所述容器的至少一部分；基板支架，其设置于所述容器内，保持基板；掩模支架，其设置于所述容器内，支承掩模；基板支架驱动机构，其驱动所述基板支架；掩模支架驱动机构，其驱动所述掩模支架；以及振动传递抑制构件，其设置于所述容器支承体与所述基板支架驱动机构之间以及所述容器支承体与所述掩模支架驱动机构之间中的至少一方。体与所述掩模支架驱动机构之间中的至少一方。体与所述掩模支架驱动机构之间中的至少一方。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置


[0001]本专利技术涉及一种用于经由掩模将规定的成膜材料蒸镀到基板上的成膜装置。

技术介绍

[0002]有机EL显示装置(有机EL显示器)的应用领域不仅为智能手机、电视机、汽车用显示器，还扩展到VR HMD(Virtual Reality Head Mount Display)等，特别是，VR HMD所使用的显示器为了降低用户的目眩等而要求以高精度形成像素图案。即，要求进一步的高分辨率化。
[0003]在这样的有机EL显示装置的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)时，将从成膜装置的成膜源放出的成膜材料经由形成有像素图案的掩模在基板上成膜，从而形成有机物层、金属层。
[0004]在这样的成膜装置中，为了提高成膜精度，在成膜工序之前，检测基板与掩模的相对位置，在相对位置发生偏移的情况下，进行使基板和/或掩模相对移动来调整(对准)位置的工序。
[0005]因此，以往的成膜装置包括与基板支承单元和/或掩模台连结并驱动基板支承单元和/或掩模台的对准台机构。/>[0006]以往本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置包括：容器；容器支承体，其设置于所述容器的外部，支承所述容器的至少一部分；基板支架，其设置于所述容器内，保持基板；掩模支架，其设置于所述容器内，支承掩模；基板支架驱动机构，其驱动所述基板支架；掩模支架驱动机构，其驱动所述掩模支架；以及振动传递抑制构件，其设置于所述容器支承体与所述基板支架驱动机构之间以及所述容器支承体与所述掩模支架驱动机构之间中的至少一方。2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述基板支架驱动机构设置于所述容器内，所述掩模支架驱动机构设置于所述容器的外部，所述振动传递抑制构件设置于所述容器支承体与所述掩模支架驱动机构之间。3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置还包括位置检测机构，所述位置检测机构设置于所述掩模支架，用于检测保持于所述基板支架的基板的位置。4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置还包括基板支架驱动机构支承体，所述基板支架驱动机构支承体构成为从所述容器支承体延伸并支承所述基板支架驱动机构。5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置还包括对准用摄像机单元，所述对准用摄像机单元设置于所述基板支架驱动机构支承体，用于测定保持于所述基板支架的基板与保持于所述掩模支架的掩模之间的相对位置偏移量。6.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述基板支架驱动机构是磁悬浮式的驱动机构，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：关谷任史，木村龙司，新海达也，冈部俊介，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：