本发明专利技术涉及对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。本发明专利技术的课题是即使标记拍摄构件的光轴相对于与掩模平行的面倾斜，也能够进行高精度的对准。一种对准装置，其使保持基板的基板工作台与保持掩模的掩模工作台相对地移动而进行所述基板与所述掩模的对准，其特征在于，所述对准装置具备：标记拍摄构件，其拍摄形成于所述基板的基板侧标记和形成于所述掩模的掩模侧标记；控制构件，其基于通过所述标记拍摄构件得到的图像信息、所述标记拍摄构件的光轴倾斜度信息、以及所述基板的面与所述掩模的面之间的间隙信息，决定使所述基板工作台和所述掩模工作台相对移动的移动量。移动的移动量。移动的移动量。
【技术实现步骤摘要】
对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法
[0001]本专利技术涉及进行基板与掩模的对准的对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。
技术介绍
[0002]作为以往的对准方法，已知有例如专利文献1所记载的方法。在该专利文献1中，基板与掩模的面方向相对位置的位置偏移的测定通过如下方式进行：利用相机(标记拍摄构件)对形成于基板的对准标记(基板侧标记)和形成于掩模的对准标记(掩模侧标记)从与平行于掩模的面正交的方向进行拍摄。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2010-67705号公报
技术实现思路
[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]然而，在拍摄对准标记的相机的光学系统的光轴相对于与掩模或基板平行的面倾斜的情况下，即使在相机的显示上，看到基板侧标记与掩模侧标记的位置匹配，正投影于掩模面的基板侧标记和掩模侧标记的位置也发生偏移。以下，将该位置偏移称为光轴角度引起的偏移。在实现成膜的像素图案的高精度化方面，无法忽视光轴角度引起的偏移。
[0008]关于这一点，在专利文献1中，进行能够利用对准用相机的图像确认的误差的校正，而未考虑无法利用对准用相机的图像确认的光轴角度引起的偏移。
[0009]另外，作为校正的观点，考虑使用评价用的基板的测定结果预先准备误差表，因此在每次不同厚度的基板进入的情况下，无法考虑基板的厚度误差的影响。
[0010]本专利技术是为了解决上述的现有技术的问题而完成的，其目的在于提供即使标记拍摄构件的光轴相对于与掩模平行的面倾斜，也能够进行高精度的对准的对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。
[0011]用于解决课题的手段
[0012]为了实现上述目的，本专利技术为一种对准装置，
[0013]其使保持基板的基板工作台与保持掩模的掩模工作台相对地移动来进行所述基板与所述掩模的对准，其特征在于，所述对准装置具备：
[0014]标记拍摄构件，所述标记拍摄构件拍摄形成于所述基板的基板侧标记和形成于所述掩模的掩模侧标记；以及
[0015]控制构件，所述控制构件基于利用所述标记拍摄构件得到的图像信息、所述标记拍摄构件的光轴倾斜度信息、以及所述基板的面与所述掩模的面之间的间隙信息，决定使所述基板工作台和所述掩模工作台相对移动的移动量。
[0016]另外，本专利技术的对准方法，其特征在于，
[0017]将基板与掩模以能够相对移动的方式配置，
[0018]利用标记拍摄构件对形成于所述基板的基板侧标记和形成于所述掩模的掩模侧标记进行拍摄，
[0019]使用由所述标记拍摄构件拍摄到的标记的图像信息、所述标记拍摄构件的光轴倾斜度信息、以及所述基板的面与所述掩模的面之间的间隙信息，使所述基板与所述掩模相对移动。
[0020]另外，本专利技术的成膜装置，
[0021]其在真空容器内将掩模重叠于或接近于基板并保持，使成膜材料堆积于未被所述掩模覆盖的所述基板表面而进行成膜，其特征在于，
[0022]所述成膜装置具备对准装置，所述对准装置使保持基板的基板工作台与保持掩模的掩模工作台相对地移动而进行所述基板与所述掩模的对准，所述对准装置具备：
[0023]标记拍摄构件，所述标记拍摄构件拍摄形成于所述基板的基板侧标记和形成于所述掩模的掩模侧标记；以及
[0024]控制构件，所述控制构件基于利用所述标记拍摄构件得到的图像信息、所述标记拍摄构件的光轴倾斜度信息、以及所述基板的面与所述掩模的面之间的间隙信息，决定使所述基板工作台和所述掩模工作台相对移动的移动量。
[0025]另外，本专利技术的成膜方法，
[0026]在所述成膜方法中，在真空容器内将掩模重叠于或接近于基板并保持，使成膜材料堆积于未被所述掩模覆盖的所述基板表面，其特征在于，
[0027]将所述基板与所述掩模以能够相对移动的方式配置，
[0028]利用标记拍摄构件对形成于所述基板的基板侧标记和形成于所述掩模的掩模侧标记进行拍摄，
[0029]使用由所述标记拍摄构件拍摄到的标记的图像信息、所述标记拍摄构件的光轴倾斜度信息、以及所述基板的面与所述掩模的面之间的间隙信息，使所述基板与所述掩模相对移动。
[0030]另外，本专利技术的电子器件的制造方法，其特征在于，
[0031]通过上述成膜方法，在电子器件的基板成膜。
[0032]专利技术效果
[0033]根据本专利技术，即使标记拍摄构件的光轴相对于与掩模及基板平行的面倾斜，也能够校正光轴角度引起的偏移(正投影于掩模面的基板侧标记与掩模侧标记的偏移)，能够进行高精度的对准。
附图说明
[0034]图1是本专利技术的具备对准装置的成膜装置的概略图。
[0035]图2是微动工作台机构的俯视图。
[0036]图3是微动工作台机构的局部剖视图。
[0037]图4(A)、图4(B)是对准装置的概略图。
[0038]图5是光轴倾斜度检测构件的概略说明图。
[0039]图6是标记间隙检测构件的概略说明图。
[0040]图7是表示对准工序的基本序列的图。
[0041]图8是序列说明用的成膜装置的概略结构图。
[0042]图9是序列的工序说明图。
[0043]图10是序列的工序说明图。
[0044]图11是第二对准工序的详细流程图。
[0045]图12是流程图的工序说明图。
[0046]图13是基板侧标记与掩模侧标记的位置偏移的说明图。
[0047]图14是表示电子器件的一例的图。
[0048]附图标记说明
[0049]11 成膜装置；
[0050]21 真空容器；
[0051]22 微动工作台机构(移动构件)；
[0052]23 掩模支承单元(掩模工作台)；
[0053]24 基板吸附单元；
[0054]25 成膜源；
[0055]27 对准用相机单元；
[0056]28 粗动工作台机构(掩模工作台)；
[0057]29 基板支承单元；
[0058]100 控制部；
[0059]101 位置偏移信息运算部；
[0060]102 校正值运算部；
[0061]103 移动控制部；
[0062]M 掩模；
[0063]W 基板；
[0064]ma 基板侧标记；
[0065]mb 掩模侧标记；
[0066]N 光轴；
[0067]φ 光轴倾斜度；
[0068]α距离、β移动量；
[0069]d 标记间隙；
[0070]Za、Zb 峰位置；
[0071]δ 光轴角度引起的偏移量。
具体实施方式
[0072]以下，参照附图对本专利技术的优选实施方式进行说明。但本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种对准装置，其使保持基板的基板工作台与保持掩模的掩模工作台相对地移动来进行所述基板与所述掩模的对准，其特征在于，所述对准装置具备：标记拍摄构件，所述标记拍摄构件拍摄形成于所述基板的基板侧标记和形成于所述掩模的掩模侧标记；以及控制构件，所述控制构件基于利用所述标记拍摄构件得到的图像信息、所述标记拍摄构件的光轴倾斜度信息、以及所述基板的面与所述掩模的面之间的间隙信息，决定使所述基板工作台和所述掩模工作台相对移动的移动量。2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，所述对准装置使用由图像信息校正构件校正后的图像信息，所述图像信息校正构件使用所述光轴倾斜度信息和所述间隙信息来校正所述图像信息。3.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，所述对准装置具备：位置偏移信息运算构件，所述位置偏移信息运算构件根据所述图像信息求出所述基板与所述掩模之间的位置偏移信息；信息校正构件，所述信息校正构件使用所述光轴倾斜度信息和所述间隙信息来校正所述位置偏移信息；以及控制构件，所述控制构件以由所述信息校正构件校正后的位置偏移信息为基准，使所述基板工作台和所述掩模工作台向校正后的位置偏移信息减少的方向相对移动。4.根据权利要求1至3中任一项所述的对准装置，其特征在于，每当所述基板不同时测定所述间隙信息。5.根据权利要求1至3中任一项所述的对准装置，其特征在于，所述光轴倾斜度信息是在进行对准之前预先求出的信息。6.根据权利要求1至3中任一项所述的对准装置，其特征在于，所述对准装置具备光轴倾斜度检测构件，所述光轴倾斜度检测构件检测所述光轴倾斜度信息。7.根据权利要求6所述的对准装置，其特征在于，所述光轴倾斜度检测构件检测：使所述基板工作台或所述掩模工作台在与平行于所述掩模的面成直角的方向上移动时的距离；以及在所述基板工作台或所述掩模工作台移动时，利用所述标记拍摄构件得到的所述基板侧标记或所述掩模侧标记在平行于所述掩模的面内的移动量，所述光轴倾斜度检测构件根据检测出的所述距离和所述移动量求出所述光轴倾斜度信息。8.根据权利要求1至3中任一项所述的对准装置，其特征在于，所述对准装置具备检测所述间隙信息的标记间隙检测构件。9.根据权利要求8所述的对准装置，其特征在于，所述标记间隙检测构件一边使所述标记拍摄构件向与平行于所述掩模的面正交的方向移动，一边从所述标记拍摄构件得到对比度信息，根据得到该对比度信息的两个极大值
时的所述标记拍摄构件的光轴方向上的位置信息检测...
【专利技术属性】
技术研发人员：中须祥浩，青木泰一郎，铃木健太郎，冈部俊介，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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