一种金属掩膜条的张网装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及金属掩膜条的张网工艺技术领域，特别涉及一种金属掩膜条的张网装置，包括张网机构，张网机构的一侧面的相对两端分别滑动连接有夹爪机构，张网机构的一侧面上还设有支撑框架，支撑框架的内部中空，支撑框架位于两个夹爪机构之间且两个夹爪机构关于支撑框架对称，支撑框架内部设有驱动机构和电永磁铁，电永磁铁位于驱动机构上方且电永磁铁与驱动机构固定连接，夹爪机构被配置为将外设的金属掩膜条移动至电永磁铁上方，驱动机构被配置为将电永磁铁移动至金属掩膜条正下方，这样使得能够通过电永磁铁对金属掩膜条的吸附能力，将其紧贴于电永磁铁再进行张网，则吸附区域受磁力影响受力均匀，有效改善褶皱问题。有效改善褶皱问题。有效改善褶皱问题。

【技术实现步骤摘要】
一种金属掩膜条的张网装置


[0001]本技术涉及金属掩膜条的张网工艺
，特别涉及一种金属掩膜条的张网装置。

技术介绍

[0002]现有的有机发光二极管(英文全称为Organic Light Emitting Diode，缩写为 OLED)制程中，蒸镀制程需要采用高精细金属掩膜板(Fine Metal Mask)遮挡无需蒸镀的区域，保证像素点镀膜的精准度；而高精细金属掩膜板主要由高精细金属掩膜条(Fine sheet)组成，金属掩膜条的平坦度直接决定了掩膜板与基板的贴合度，若二者贴合不良，则易产生镀膜不均或混色；但在张网工艺中，高精细金属掩膜条需要通过左右两端受力拉伸后焊接于掩膜框上，由于设备的局限，通常一条金属掩膜条只有2
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4个受力点，而受力点不均与各机构施力不同都会导致金属掩膜条产生褶皱，加之金属掩膜条厚度以μm计，十分纤薄；因此，高精细金属掩膜条的平坦度不良是张网工艺中难以攻克的一大问题。

技术实现思路

[0003]为了克服上述现有技术的缺陷，本技术所要解决的技术问题是：提供一种能够改善金属掩膜条张网平坦度的张网装置。
[0004]为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：
[0005]一种金属掩膜条的张网装置，包括张网机构，所述张网机构的一侧面的相对两端分别滑动连接有夹爪机构，所述张网机构的一侧面上还设有支撑框架，所述支撑框架的内部中空，所述支撑框架位于两个夹爪机构之间且两个夹爪机构关于支撑框架对称，所述支撑框架内部设有驱动机构和电永磁铁，所述驱动机构与支撑框架滑动连接，所述电永磁铁位于驱动机构上方且电永磁铁与驱动机构固定连接，所述夹爪机构被配置为将外设的金属掩膜条移动至电永磁铁上方，所述驱动机构被配置为将电永磁铁移动至金属掩膜条正下方。
[0006]进一步的，所述电永磁铁靠近金属掩膜条的一侧面的表面平坦度为0μm
‑
10 μm。
[0007]进一步的，所述电永磁铁的颜色为纯黑色。
[0008]进一步的，所述金属掩膜条的材质为invar36。
[0009]进一步的，所述支撑框架为方形支撑框架，所述电永磁铁的形状为方体，所述金属掩膜条的形状为方体，所述电永磁铁靠近金属掩膜条的一侧面的宽度大于金属掩膜条的宽度。
[0010]本技术的有益效果在于：
[0011]通过在张网机构的一侧面的相对两端分别滑动连接有夹爪机构，在张网机构的一侧面上设置支撑框架，支撑框架的内部中空，支撑框架位于两个夹爪机构之间且两个夹爪机构关于支撑框架对称，在支撑框架内部设置驱动机构和电永磁铁，驱动机构与支撑框架滑动连接，电永磁铁位于驱动机构上方且电永磁铁与驱动机构固定连接，这样使得能够通
过电永磁铁对金属掩膜条的吸附能力，将其紧贴于电永磁铁再进行张网，则吸附区域受磁力影响受力均匀，有效改善褶皱问题；与此同时，本方案设计的金属掩膜条的张网装置还可用于材料入料检，则可在各类掩膜条无拉力情况下使其保持平整状态，直接进行像素检查；电永磁铁是一种可受电力控制的磁铁，经过电子线路后可通过开关控制它的充磁与消磁状态，通过这种方式实现对掩膜条的吸附与释放，可方便有效得减小掩膜条受力不均带来的褶皱，从而能够有效改善金属掩膜条张网的平坦度。
附图说明
[0012]图1所示为根据本技术的一种金属掩膜条的张网装置的俯视结构示意图；
[0013]图2所示为根据本技术的一种金属掩膜条的张网装置的俯视结构示意图；
[0014]图3所示为根据本技术的一种金属掩膜条的张网装置的俯视结构示意图；
[0015]图4所示为根据本技术的一种金属掩膜条的张网装置的俯视结构示意图；
[0016]标号说明：
[0017]1、张网机构；2、夹爪机构；3、支撑框架；4、电永磁铁；5、金属掩膜条； 6、装货端；7、截线；8、电荷耦合器件。
具体实施方式
[0018]为详细说明本技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
[0019]请参照图1所示，本技术提供的技术方案：
[0020]一种金属掩膜条的张网装置，包括张网机构，所述张网机构的一侧面的相对两端分别滑动连接有夹爪机构，所述张网机构的一侧面上还设有支撑框架，所述支撑框架的内部中空，所述支撑框架位于两个夹爪机构之间且两个夹爪机构关于支撑框架对称，所述支撑框架内部设有驱动机构和电永磁铁，所述驱动机构与支撑框架滑动连接，所述电永磁铁位于驱动机构上方且电永磁铁与驱动机构固定连接，所述夹爪机构被配置为将外设的金属掩膜条移动至电永磁铁上方，所述驱动机构被配置为将电永磁铁移动至金属掩膜条正下方。
[0021]从上述描述可知，本技术的有益效果在于：
[0022]通过在张网机构的一侧面的相对两端分别滑动连接有夹爪机构，在张网机构的一侧面上设置支撑框架，支撑框架的内部中空，支撑框架位于两个夹爪机构之间且两个夹爪机构关于支撑框架对称，在支撑框架内部设置驱动机构和电永磁铁，驱动机构与支撑框架滑动连接，电永磁铁位于驱动机构上方且电永磁铁与驱动机构固定连接，这样使得能够通过电永磁铁对金属掩膜条的吸附能力，将其紧贴于电永磁铁再进行张网，则吸附区域受磁力影响受力均匀，有效改善褶皱问题；与此同时，本方案设计的金属掩膜条的张网装置还可用于材料入料检，则可在各类掩膜条无拉力情况下使其保持平整状态，直接进行像素检查；电永磁铁是一种可受电力控制的磁铁，经过电子线路后可通过开关控制它的充磁与消磁状态，通过这种方式实现对掩膜条的吸附与释放，可方便有效得减小掩膜条受力不均带来的褶皱，从而能够有效改善金属掩膜条张网的平坦度。
[0023]进一步的，所述电永磁铁靠近金属掩膜条的一侧面的表面平坦度为0μm
‑
10 μm。
[0024]从上述描述可知，将电永磁铁靠近金属掩膜条的一侧面的表面平坦度设为0 μm
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10μm，能够进一步改善金属掩膜条的平坦度。
[0025]进一步的，所述电永磁铁的颜色为纯黑色。
[0026]从上述描述可知，由于电永磁铁的遮挡，像素位置无法使用背光量测，故电永磁铁的颜色采用纯黑色，在进行CCD量测时开启正光，此时像素孔洞在正光照射下显示为黑色(电永磁铁的颜色)，非孔洞(Invar材料)区域因反光显示为白色，则可正常抓取各像素开口的位置。
[0027]进一步的，所述金属掩膜条的材质为invar36。
[0028]从上述描述可知，invar36具有一定的磁性，可通过电永磁铁对其吸附能力，将其紧贴于电永磁铁再进行张网，则吸附区域受磁力影响受力均匀，有效改善褶皱问题。
[0029]进一步的，所述支撑框架为方形支撑框架，所述电永磁铁的形状为方体，所述金属掩膜条的形状为方体，所述电永磁铁靠近金属掩膜条的一侧面的宽度大于金属掩膜条的宽度。
[0030]请参照图1至图4所示，本技术的实施例一为：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属掩膜条的张网装置，其特征在于，包括张网机构，所述张网机构的一侧面的相对两端分别滑动连接有夹爪机构，所述张网机构的一侧面上还设有支撑框架，所述支撑框架的内部中空，所述支撑框架位于两个夹爪机构之间且两个夹爪机构关于支撑框架对称，所述支撑框架内部设有驱动机构和电永磁铁，所述驱动机构与支撑框架滑动连接，所述电永磁铁位于驱动机构上方且电永磁铁与驱动机构固定连接，所述夹爪机构被配置为将外设的金属掩膜条移动至电永磁铁上方，所述驱动机构被配置为将电永磁铁移动至金属掩膜条正下方。2.根据权利要求1所述的金属掩膜条的...

【专利技术属性】
技术研发人员：金华君，沈志昇，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：