【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及阵列基板生产，特别涉及一种制程防污染管控方法、系统、设备及介质。
技术介绍
1、在阵列基板制程工艺中，未完成当前工序的阵列基板玻璃不能进入下一道工序。然而在阵列基板的实际生产过程中，设备有时会发生宕机，导致产品异常没有完成当前制程。
2、现有技术的解决方案是通过人为介入处理。但是若人员判定错漏会造成产品在mes帐料与产品在实际制程站点不一致，从而导致异常产品后流。如果未按标准工序完成制程站点直接进入下一工序制程，会产生产品报废、甚至机台污染的情况，直接造成经济损失。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题，在于提供一种制程防污染管控方法、系统、设备及介质，通过增加制程防污染管控，杜绝人员处理异常产品的错漏。
2、第一方面，本专利技术提供了一种制程防污染管控方法，包括：
3、设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；
4、在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停当前制程；
5、在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
6、进一步地，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的
7、进一步地，所述制程旗标包括cvd flag、metal flag、oc prflag以及prflag，分别对应cvd成膜制程、metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
8、进一步地，所述制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程id中的至少一项进行设定。
9、第二方面，本专利技术提供了一种制程防污染管控系统，包括：
10、旗标设定模块，用于设定制程旗标维护表，所述制程旗标维护表包括每一制程上机台的判定标准以及制程完成时对制程旗标的操作；
11、旗标判定模块，用于在每一阵列基板玻璃上机台时，获取其对应的制程旗标；根据制程旗标维护表判定该阵列基板玻璃是否满足上机台的标准，如果满足，则正常进行制程；当一阵列基板玻璃对应的制程旗标不满足制程旗标维护表中上当前机台的判定标准时，暂停当前制程；
12、制程完成模块，用于在制程完成后，根据旗标维护表对该阵列基板玻璃执行产生新的制程旗标，或者消除指定制程旗标的操作，或者保持当前制程旗标。
13、进一步地，所述旗标设定模块中，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
14、进一步地，所述旗标设定模块中，制程旗标包括cvdflag、metal flag、oc prflag以及prflag，分别对应cvd成膜制程、metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
15、进一步地，所述旗标设定模块中，制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程id中的至少一项进行设定。
16、第三方面，本专利技术提供了一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现第一方面所述的方法。
17、第四方面，本专利技术提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现第一方面所述的方法。
18、本专利技术实施例中提供的技术方案，至少具有如下优点：
19、通过设定制程旗标维护表，在阵列基板玻璃经过机台时判定是否满足上机台的标准，并在制程完成时根据制程旗标维护表进行对应的旗标操作，防止未完成正常工序的产品后流至下个工序机台，造成机台污染风险；同时也可杜绝异常品后流至下一道工序，造成产品报废风险。
20、上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本专利技术的具体实施方式。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种制程防污染管控方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
3.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于：所述制程旗标包括Cvd Flag、MetalFlag、OC prFlag以及PRFlag，分别对应Cvd成膜制程、Metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程ID中的至少一项进行设定。
5.一种制程防污染管控系统，其特征在于，包括：
6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于：所述旗标设定模块中，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
7.根据权利要求5或6所述的系统，其特征在于：所述旗标设定模块中，制程旗标包括Cvd Flag、Metal Flag、OC prFlag以及PR Flag，分别对应Cvd成膜制程、Metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显
8.根据权利要求5所述的系统，其特征在于：所述旗标设定模块中，制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程ID中的至少一项进行设定。
9.一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1至4任一项所述的方法。
10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现如权利要求1至4任一项所述的方法。
...【技术特征摘要】
1.一种制程防污染管控方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组设置对应的制程旗标。
3.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于：所述制程旗标包括cvd flag、metalflag、oc prflag以及prflag，分别对应cvd成膜制程、metal成膜制程、有机光阻显影制程以及正型光阻显影制程。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述制程旗标维护表根据机台群组、途程标识符以及制程id中的至少一项进行设定。
5.一种制程防污染管控系统，其特征在于，包括：
6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于：所述旗标设定模块中，对于在制程中会将对应材料遗留在阵列基板玻璃中的机台群组...
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