一种光刻掩膜版的检查清洗装置制造方法及图纸

本技术公开了掩膜版检测技术领域的一种光刻掩膜版的检查清洗装置，包括所述支撑台架顶部为水平的中空方框，翻转框架为平板状的中空方框，所述翻转框架能沿水平轴线转动的架设在支撑台架顶部中空方框内，调节夹块和固定夹块夹持在掩膜版上下两面，能够方便的对掩膜版整体进行清洗和照明检查，而且本装置可以将翻转框架进行转动，使翻转框架上夹持的掩膜版能跟随翻转，并且还能通过翻转导轨限制翻转框架的转动角度，有效避免掩膜版翻转过度，有效避免保护膜与掩膜版脱离，并且本装置清洗和检测时检测灯位置固定，不会与掩膜版接触，同时清洗吹扫的气枪也固定架装在安装架块上，有效避免手持工具不慎将掩膜版划伤。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及掩膜版检测，特别是涉及一种光刻掩膜版的检查清洗装置。

技术介绍

1、光刻掩膜版，又称光罩，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

2、待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

3、掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，比如：集成电路、平板显示器、印刷电路板、微机电系统等。

4、掩膜版需要覆盖在透明基板上，基板一般是透明玻璃，主要使用石英玻璃、苏打玻璃和低膨胀玻璃等，也有使用透明树脂材料的。

5、光罩掩膜版上线路图像精度极高，对光罩本体洁净度要求也极高，若光罩上存在大于140微米的颗粒物，则会导致产品异常，故为了保证光罩的洁净度会对光罩进行清洁，清洁过程需要保证光罩安全。

6、目前是一个常规框架，需要将掩膜版悬空架装，然后其进行检查和吹扫清洁。玻璃价值高本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光刻掩膜版的检查清洗装置，其特征在于，包括：支撑台架(1)、翻转框架(2)、滑动架杆(3)、调节夹块(4)和固定夹块(43)；

2.根据权利要求1所述的一种光刻掩膜版的检查清洗装置，其特征在于：所述翻转框架(2)的左右两端各设置了一个翻转轴(21)，两个所述翻转轴(21)的轴线与翻转框架(2)的左右方向轴线重合，所述翻转轴(21)的轴线水平设置；

3.根据权利要求1所述的一种光刻掩膜版的检查清洗装置，其特征在于：两个所述滑动架杆(3)分别滑设在翻转框架(2)的上下两面，所述检测灯(31)设置在两个滑动架杆(3)相对的一面，所述安装架块(32)设置在两个滑动...

【技术特征摘要】

1.一种光刻掩膜版的检查清洗装置，其特征在于，包括：支撑台架(1)、翻转框架(2)、滑动架杆(3)、调节夹块(4)和固定夹块(43)；

2.根据权利要求1所述的一种光刻掩膜版的检查清洗装置，其特征在于：所述翻转框架(2)的左右两端各设置了一个翻转轴(21)，两个所述翻转轴(21)的轴线与翻转框架(2)的左右方向轴线重合，所述翻转轴(21)的轴线水平设置；

3.根据权利要求1所述的一种光刻掩膜版的检查清洗装置，其特征在于：两个所述滑动架杆(3)分别滑设在翻转框架(2)的上下两面，所述检测...

【专利技术属性】
技术研发人员：王洁，庄峻侑，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：