金属掩膜板及其使用方法技术

本发明专利技术实施例提供了一种金属掩膜板及其使用方法，该金属掩膜板包括金属框架以及固定于金属框架上的掩膜网板，掩膜网板设置有凹槽，凹槽内设置有光致变形层，在光源的光照下，光致变形层发生变形，并凸出凹槽，改变待蒸镀基板与金属掩膜板之间的距离，间接改变了蒸镀有机材料和金属材料成膜区域面积，实现一个金属掩膜板先后蒸镀两种膜层，避免了更多的对位/分离设备，大大节省蒸镀腔体长度和设备费用，降低OLED器件的制备成本。降低OLED器件的制备成本。降低OLED器件的制备成本。

【技术实现步骤摘要】
金属掩膜板及其使用方法


[0001]本专利技术涉及显示器件制造
，尤其涉及一种金属掩膜板及其使用方法。

技术介绍

[0002]有机电致发光技术是一种新型的显示技术，其实施方式为：采用真空蒸镀技术制备OLED器件层，在真空环境10Pa至5Pa范围内加热有机/金属材料，材料受热升华，通过具有图案的金属掩膜板在基板表面形成具有一定形状的有机/金属薄膜，经过多种材料的连续沉积成膜形成具有多层薄膜的OLED器件。
[0003]在蒸镀制程中，由于需要蒸镀OLED器件中有机层发光层，无机层，阴极，反射层，缓冲层等各类功能层，一般而言，考虑金属阴极搭接的问题，有机层和无机层不能与金属层共用一个金属掩膜板，因此整个蒸镀制程过程中需要更换两次以上的金属掩膜板，导致蒸镀制程复杂，需要更多的对位/分离等设备，照价昂贵，增加OLED器件制备的成本。如图1所示，利用第一金属掩膜板的开口11制备有机层15，利用第二金属掩膜板的开口12制备阴极层15，阴极层15两侧分别沿有机层15的两侧与电源走线13和电源走线14电性连接，以此实现阴极层15电信号正常连接。也有厂家利用一种金属掩膜板来完成OLED器件层的制备，在制备过程中OLED器件中的金属层电性搭接存在缺陷。如图2所示，利用第三金属掩膜板的开口21依次制备有机层24和阴极层25，由于有机层24和阴极层25对应的开口面积相同，阴极层25两侧无法正常与电源走线22和电源走线23正常连接。
[0004]综上所述，需要设计出一种新的金属掩膜板，以解决现有技术中的OLED器件制备需要多种掩膜板，制备成本较高，若使用一种金属掩膜板无法确保金属层与电源走线的正常连接的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供一种金属掩膜板及其使用方法，能够解决现有技术中的OLED器件制备需要多种掩膜板，制备成本较高，若使用一种金属掩膜板无法确保金属层与电源走线的正常连接的问题。
[0006]为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：
[0007]本专利技术实施例提供一种金属掩膜板，包括金属框架以及固定于所述金属框架上的掩膜网板，所述掩膜网板在背向蒸镀源的一侧设置有凹槽，所述凹槽内设置有光致变形层，所述光致变形层光照形变后沿所述凹槽开口朝向突出。
[0008]根据本专利技术一优选实施例，所述光致变形层的材料为三苯基甲烷衍生物、肉桂酸
‑
丙烯酯类共聚物和偶氮苯累化合物中的一种或一种以上材料。
[0009]根据本专利技术一优选实施例，所述掩膜网板包括透过区和围绕所述透过区设置的遮挡区，所述凹槽设置在遮挡区中。
[0010]根据本专利技术一优选实施例，所述凹槽具有二维图形以构成围合区域，所述围合区域内至少有一行或列所述透过区，相邻的两个所述透过区之间设置有分支凹槽，所述分支
凹槽与所述围合区域相连以构成子区域。
[0011]根据本专利技术一优选实施例，所述光致变形层包括主干部和搭接在所述主干部上的分支部，所述主干部设置在所述围合区域内，所述分支部设置在所述分支凹槽内，且所述分支部至少一端延伸至所述围合区域外。
[0012]根据本专利技术一优选实施例，所述主干部为环形，所述分支部为直线形或曲线形，且所述主干部的线宽大于所述分支部的线宽。
[0013]根据本专利技术一优选实施例，相邻的两个所述透过区之间至少设置有两条平行的分支凹槽，其中一条所述分支凹槽延伸出所述围合区域一侧，另一条所述分支凹槽延伸出所述围合区域的另一侧。
[0014]根据本专利技术一优选实施例，所述掩膜网板为SUS不锈钢630、SUS不锈钢431、SUS不锈钢303或SUS不锈钢304中的一种不锈钢，所述掩膜网板的厚度为100um至200um，所述凹槽的深度10um至50um。
[0015]根据本专利技术一优选实施例，所述金属掩膜板还包括位于所述光致变形层上方的蓝光光源或紫外光源，所述蓝光光源或所述紫外光源为所述光致变形层提供光照，其中，所述蓝光光源的波长为380nm至460nm范围内，所述紫外光源的波长为172nm至190nm范围内。
[0016]依据上述金属掩膜板，本专利技术实施例还提供一种金属掩膜板的使用方法，所述方法包括：
[0017]步骤S10，提供如上述实施例的金属掩膜板和待蒸镀基板。
[0018]步骤S20，将所述待蒸镀基板的蒸镀侧与所述金属掩膜板贴合设置，向所述待蒸镀基板上喷射第一蒸镀材料以形成第一材料图案层。
[0019]步骤S30，对所述金属掩膜板中的光致变形层进行光照处理，以使所述金属掩膜板中的掩膜网板与所述待蒸镀基板产生预设间隙。
[0020]步骤S40，继续向所述待蒸镀基板上喷射第二蒸镀材料以形成第二材料图案层，所述第二材料图案层覆盖所述第一材料图案层。
[0021]本专利技术的有益效果：本专利技术实施例提供了一种金属掩膜板及其使用方法，该金属掩膜板包括金属框架以及固定于金属框架上的掩膜网板，掩膜网板设置有凹槽，凹槽内设置有光致变形层，在光源的光照下，光致变形层发生变形，并凸出凹槽，以使待蒸镀基板与金属掩膜板之间产生间隙，间接改变了蒸镀有机材料和金属材料成膜区域面积，实现一个金属掩膜板先后蒸镀两种膜层，避免更多的对位/分离设备，大大节省蒸镀腔体长度和设备费用，降低OLED器件的制备成本。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为现有技术中两个金属掩膜板蒸镀OLED器件的工艺示意图。
[0024]图2为现有技术中一个金属掩膜板蒸镀OLED器件的工艺示意图。
[0025]图3a为本专利技术提供一种金属掩膜板结构示意图。
[0026]图3b为图3a中A处放大图。
[0027]图4为本专利技术提供一种金属掩膜板中的掩膜网板俯视结构示意图。
[0028]图5至图7为本专利技术提供的光致变形层的材料的分子结构在光照下发生可逆化学反应方程式。
[0029]图8为本专利技术提供的光致变形层在光照下外观结构发生一种变化示意图。
[0030]图9a至图9c本专利技术提供的第一材料图案层蒸镀的工艺结构示意图。
[0031]图10a至图10c本专利技术提供的第二材料图案层蒸镀的工艺结构示意图。
具体实施方式
[0032]以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示，图中虚线表示在结构中并不存在的，仅仅说明结构的形状和位置。
[0033]本专利技术针对现有技术中的OLED器件制备本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属掩膜板，其特征在于，包括金属框架以及固定于所述金属框架上的掩膜网板，所述掩膜网板在背向蒸镀源的一侧设置有凹槽，所述凹槽内设置有光致变形层，所述光致变形层光照形变后沿所述凹槽开口朝向突出。2.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述光致变形层的材料为三苯基甲烷衍生物、肉桂酸
‑
丙烯酯类共聚物和偶氮苯累化合物中的一种或一种以上材料。3.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述掩膜网板包括透过区和围绕所述透过区设置的遮挡区，所述凹槽设置在遮挡区中。4.根据权利要求3所述的金属掩膜板，其特征在于，所述凹槽具有二维图形以构成围合区域，所述围合区域内至少有一行或列所述透过区，相邻的两个所述透过区之间设置有分支凹槽，所述分支凹槽与所述围合区域相连以构成子区域。5.根据权利要求4所述的金属掩膜板，其特征在于，所述光致变形层包括主干部和搭接在所述主干部上的分支部，所述主干部设置在所述围合区域内，所述分支部设置在所述分支凹槽内，且所述分支部至少一端延伸至所述围合区域外。6.根据权利要求5所述的金属掩膜板，其特征在于，所述主干部为环形，所述分支部为直线形或曲线形，且所述主干部的线宽大于所述分支部的线宽。7.根据权利要求4所述的金属掩膜板，其特征在于，相邻的两个所述透...

【专利技术属性】
技术研发人员：段廷原，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：