真空蒸镀装置用蒸镀源制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种可任意设置对成膜对象物的蒸镀方向的具有多用性的真空蒸镀装置用蒸镀源。用于在真空室(Vc)内对成膜对象物(Sw)进行蒸镀的真空蒸镀装置(DM)用的蒸镀源(ES1，ES2)构成为具有：主筒体(6)，其具有填充蒸镀材料(Em)的坩埚部(61)；副筒体(7)，其在比蒸镀材料更靠上方的主筒体的部分上突出设置，具有释放开口(75)；以及加热装置(8a)，其可加热坩埚部内填充的蒸镀材料；副筒体改变释放开口的相位并可装卸自如地安装在主筒体上，设置有开合自如地封闭坩埚部的上表面开口(61a)的盖体(62)，在真空气氛中在用盖体封闭坩埚部的上表面开口的状态下通过加热装置加热坩埚部内的蒸镀材料使蒸镀材料升华或气化，升华或气化了的蒸镀材料一边保持其蒸气压力，一边被运送到副筒体中，从释放开口释放。从释放开口释放。从释放开口释放。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空蒸镀装置用蒸镀源


[0001]本专利技术涉及一种用于在真空室内对成膜对象物进行蒸镀的真空蒸镀装置用蒸镀源。

技术介绍

[0002]例如，已知由于树脂材质的片状基材具有可变形性，可加工性也好，因此在其一个面或双面，或是在真空气氛中形成单个或多层的规定的金属膜或氧化物膜等的规定薄膜，或是实施蚀刻或热处理，而作为电子部件和光学部件。实施这种真空处理的成膜处理的真空处理装置例如在专利文献1中已知。其具有可形成真空气氛的真空室，在真空室内设置有：送出片状基材的送出辊；卷曲已成膜的基材的卷曲辊；以及运输从送出辊送出的片状基材的引导辊。在真空室内的底面上还设置有蒸镀源，其与在一对引导辊间水平运输的片状基材的部分相对配置。
[0003]蒸镀源具有收纳蒸镀材料的长方体状收纳箱，在收纳箱的与片状基材的部分的相对面(即垂直方向的上表面)上，设置有狭缝状释放开口(所谓线源)。而且，在将蒸镀材料填充到收纳箱内之后，在真空气氛中通过加热装置加热收纳箱内的蒸镀材料以使其升华或气化，该升华或气化了的物质由于和真空室内的压力差而从释放开口释放，附着、堆积在片状基材的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在真空室内对成膜对象物进行蒸镀的真空蒸镀装置用蒸镀源，具有：主筒体，以长边方向与垂直方向一致的姿态设置，具有填充蒸镀材料的坩埚部；副筒体，其在比填充在坩埚部内的蒸镀材料更靠上方的主筒体的部分上突出设置，具有释放开口；以及加热装置，其至少可加热坩埚部内填充的蒸镀材料；其特征在于，副筒体改变释放开口的相位并可装卸自如地安装在主筒体上；设置有开合自如地封闭坩埚部的上表面开口的盖体；在真空气氛中在用盖体封闭坩埚部的上表面开口的状态下通过加热装置加热...

【专利技术属性】
技术研发人员：斋藤修司，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：