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本发明提供一种可任意设置对成膜对象物的蒸镀方向的具有多用性的真空蒸镀装置用蒸镀源。用于在真空室(Vc)内对成膜对象物(Sw)进行蒸镀的真空蒸镀装置(DM)用的蒸镀源(ES1，ES2)构成为具有：主筒体(6)，其具有填充蒸镀材料(Em)的坩埚...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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