多层聚合物膜制造技术

本文涉及一种包括第一层和第二层的聚合物膜。第一层包含第一含氟聚合物，熔点低于１３５℃。第二层覆盖着第一层，包含第二含氟聚合物。第二层的熔点高于１３５℃。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本说明书一般涉及多层含氟聚合物膜。背景制造的制品和器件通常与聚合物膜相层叠。这些聚合物膜为制造的制品提供机械保护和化学保护。例如，具有所需机械性质的膜可以保护制品免受摩擦或冲击的影响，具有所需耐化学性的膜可保护所述制品免于暴露于化学品和环境。在一示例性的实施方式中，可以用聚合物膜为制品提供抗冲击性、防湿层和防污染性。在一具体实施例方式中，使用聚合物薄膜保护光电池、光传感器和显示器。例如，可以用透明聚合物膜保护光电池免受水分和氧气之类的环境危险因素影响，以及保护其免受冲击和摩擦之类的机械危害因素的影响。通常将乙烯乙酸乙烯酯(EVA)膜与覆盖的乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)保护层结合起来，用来包封光电池。EVA提供了适合通过熔融进行包封的低熔点软聚合物，而ETFE提供了具有耐热性和耐候性、以及防水性和防污性的较硬的表面。通常对光电池涂敷熔融的EVA，使该EVA固化或交联。EVA的固化需要很长的时间，使得用EVA连续层叠的工艺难以进行。另外，ETFE膜通常是独立挤出，并在其一面上进行预处理，以便与EVA粘合。尽管EVA和ETFE膜最初提供所需的保护，但是已知EVA很容易老化，失去光学透明度，生成腐蚀性副产物。因此，老化的EVA会减少到达光电池的太阳能的量。另外，老化的EVA会通过腐蚀性降解产物(例如在EVA降解过程中生成的乙酸)破坏下面的光电池。因此人们需要改进的聚合物膜。
技术实现思路
在一具体实施例方式中，本说明书涉及包括第一层和第二层的聚合物膜。所述第一层包含第一含氟聚合物，熔点低于135℃。第二层覆盖着第一层，包含第二含氟聚合物。第二层的熔点高于135℃。在另一示例性的实施方式中，本说明书涉及一种包括第一层和第二层的聚合物膜。第一层包含第一含氟聚合物。第二层覆盖着第一层，包含第二含氟聚合物。第一层和第二层熔点之差至少为10℃。在另一示例性的实施方式中，本说明书涉及一种包括第一层和第二层的聚合物膜。第一层包含第一含氟聚合物。第二层覆盖在第一层之上，包含第二含氟聚合物。所述第二含氟聚合物的氟含量高于第一含氟聚合物。在另一示例性实施方式中，本说明书涉及一种包括第一层和第二层的聚合物膜。所述第一层包含第一THV共聚物。第二层覆盖着第一层，与第一层直接接触。第二层包含第二THV共聚物。所述第二THV共聚物的氟化程度高于第一THV共聚物。附图说明图1和图2包括多层膜的例举性实施例。详述在一个特定实施方式中，本说明书涉及包括第一层和第二层的聚合物膜。所述第一层包含第一含氟聚合物，第二层包含第二含氟聚合物。所述第二层的熔点高于第一层的熔点。第二层通常覆盖第一层，根据一个实施方式，第二层与下面的层直接接触。在其它实施方式中，在第一层和第二层之间可包括中间层。在将所述膜用作所制造的制品的层叠体的时候，通常将膜至少加热至第一层的熔点，但是低于第二层熔点的温度。将膜辊轧或压在制品上，使得第一层接触制品。示例性的层叠制品包括光电池、光传感器和显示器。所述聚合物膜可用于间歇式层叠和连续层叠过程。例如，可以将膜施加在预先涂过胶的光电片材上，并以间歇压制法进行压制。在另一实施例中，以连续压制法将膜辊轧在连续的光电片材上。所述第一层和第二层的第一含氟聚合物和第二含氟聚合物可分别由氟化单体的聚合物和共聚物形成。共聚物包括接枝共聚物、交替共聚物、无规共聚物和嵌段共聚物。示例性的含氟聚合物可以由包括以下物质的单体形成四氟乙烯(TFE)、六氟丙烯(HFP)、全氟丙基或全氟甲基乙烯基醚、三氟氯乙烯(CTFE)、偏二氟乙烯(VF2或VDF)和氟乙烯(VF)。所述含氟聚合物可包括含有一种或多种上述单体的聚合物、聚合物混合物和共聚物，例如氟代乙烯丙烯(FEP)、乙烯-四氟乙烯(ETFE)、聚四氟乙烯-全氟丙基醚(PFA)、聚四氟乙烯-全氟甲基乙烯基醚(MFA)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、乙烯-三氟氯乙烯(ECTFE)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)以及四氟乙烯-六氟丙烯-偏二氟乙烯(THV)。在另外的示例性实施方式中，含氟聚合物可以是烯烃单体与氟代单体的共聚物，例如购自Daikin America，Inc.的DaikinTMEFEP。通常所述第一层和第二层主要由各自的含氟聚合物形成，使得对于聚合物混合物的情况下，非氟化聚合物在聚合物总量中的含量限制在小于15重量％，例如小于10重量％，小于5重量％或小于2重量％。在某些实施方式中，第一层和第二层的聚合物基本是100％的含氟聚合物。在一些实施方式中，所述层基本分别由上述含氟聚合物组成。在本文中，短语“基本由……组成”用来描述含氟聚合物的时候，表示排除了影响含氟聚合物的基本特性和新颖特性的非氟化聚合物的存在，但是在聚合物层中可以使用通常应用的处理试剂和添加剂，例如抗氧化剂、填料、UV剂、染料和抗老化剂。在一个具体实施例方式中，所述第一和第二含氟聚合物可以是由单体TFE、HFP和VDF形成的共聚物，例如THV共聚物。所述THV共聚物可包括DyneonTMTHV 220，DyneonTMTHV 2030GX，DyneonTMTHV 500G，DyneonTMTHV X815G或DyneonTMTHV X610G。例如，所述共聚物可包含约20-70重量％的VDF单体，例如约35-65重量％的VDF单体。所述共聚物可包含约15-80重量％的TFE单体，例如约20-55重量％的TFE单体。另外，共聚物可包含约15-75重量％的HFP单体，例如约20-65重量％。在一实施方式中，较低熔点的共聚物包含至少50重量％的VDF单体，例如约55重量％的VDF单体，或约60重量％的VDF单体。在另一实施方式中，较高熔点的共聚物包含不少于约50重量％的VDF单体，例如不超过大约45重量％的VDF单体，或不超过大约40重量％的VDF单体。图1示例性地显示了膜102，其包括层104和层106.层104由含氟聚合物形成，层106由含氟聚合物组成。层104的熔点高于层106。在所示的实施方式中，层104和层106可以被共挤出。如图所示，层104和层106可以共挤出成互相直接接触的形式，使得层104和层106之间无中间层。在一个具体实施例中，聚合物膜的厚度大于2密耳，例如大于3密耳，大于4密耳，或大于5密耳。层104的厚度不超过所述多层膜厚度的大约95％。例如，层104的厚度可不超过多层膜厚度的大约35％，不超过大约30％，不超过大约25％，不超过大约20％，或不超过大约15％。层106的厚度可以至少约为多层膜厚度的5％，例如至少约50％，至少约65％，至少约75％，至少约80％，或至少约85％。在一个具体实施方式中，层104的厚度与层106的厚度之比可约为5∶95至95∶5，例如约为10∶90至50∶50，约为10∶90至30∶70。在一个具体实施方式中，该比例约为20∶80。在一示例性实施方式中，层104的熔点高于135℃。层106的熔点约低于135℃。例如，层104的熔点至少约为160℃，至少约为180℃，或至少约为220℃。层106的熔点可为(例如)低于135℃，例如不高于约125℃，不高于约120℃，不高于约115℃，或不高于约110℃。层104和层106的熔点之差通常至少约为10℃。例如本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚合物膜，该聚合物膜包括：包含第一含氟聚合物、且熔点低于１３５℃的第一层；覆盖着所述第一层，且包含第二含氟聚合物的第二层，所述第二层的熔点高于１３５℃。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：KG赫茨勒，A图卡希斯基，BM弗里德曼，PW奥蒂兹，
申请(专利权)人：圣戈本操作塑料有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]