涂膜物及其制造方法和制造装置、非水系二次电池极板及移动体制造方法及图纸

技术编号:13090689 阅读:101 留言:0更新日期:2016-03-30 19:08
本发明专利技术的目的在于在将涂料在辊间轧制而形成涂膜且使所述涂膜向被涂布物转印的方法中,抑制辊与涂料之间的磨损。本发明专利技术提供一种涂膜物及其制造方法和制造装置、非水系二次电池极板及移动体。在将涂料(22)在辊(11、12)间轧制而形成涂膜状的涂料(25)、且使涂膜状的涂料(25)向被涂布物(21)转印时,首先在辊(11、12)的表面上由残留涂料形成残留涂料层(24),在将残留涂料层(24)保持于辊(11、12)表面的状态下进行涂料(22)的供给、涂膜状的涂料(25)的转印,从而能够抑制辊(11、12)与涂料(22)之间的磨损。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术设及一种向被涂布物转印涂料来制造涂膜物的制造方法、制造装置、涂膜 物、非水系二次电池极板、W及移动体。
技术介绍
伴随着近年来的电子设备、通信设备W及车载用等用途的多功能化,需要对裡离 子电池/铅蓄电池/电容器等电化学元件进行进一步的高输出化、高容量化、W及机械特性 的提高等进一步的特性的改善。在此之中,为了提高电化学元件的性能,谋求电化学元件用 电极的性能提高。 电化学元件用电极例如通过将含有电极活性物质等的电极材料形成为片状,并将 该片材(电极组成物层)作为涂料向集电体压接而形成。专利文献1中记载了如下方法: 将由活性物质、导电材料、粘结材料构成的复合粒子粉末作为涂料向一对反方向旋转的漉 间供给并压缩而使之附着在一方的漉的表面上,将该涂料向集电体转印,由此制造电化学 元件用电极。 专利文献1 :日本特开2013-77560号公报 阳〇化]然而,在专利文献1所记载的技术中,如图5所示,为了从第一漉31向第二漉32 使作为涂料的混合剂涂料33完全地转印到被涂布物上,在漉隙34中,持续将混合剂涂料33 直接向第一漉31表面供给,由于第一漉31表面与混合剂涂料33之间的摩擦,而使第一漉 31表面变得容易磨损。 若第一漉31表面磨损,则会从第一漉31表面产生残留异物。在电化学元件制作 时、电化学反应时,W残留异物为媒介使得正极与负极发生短路,容易产生不良,因此存在 导致电化学元件用电极的品质降低,生产效率变差运样的课题。
技术实现思路
本专利技术考虑上述现有的课题而作成,其目的在于,在将涂料在漉间社制而形成涂 膜且使所述涂膜向被涂布物转印的方法中,抑制漉与涂料之间的磨损。 为了达成上述目的,本专利技术提供的涂膜物的制造方法使涂料进入第一漉与第二漉 之间的间隙并在所述第二漉的表面上形成为涂膜状,使在所述第二漉的表面上形成为涂膜 状的涂膜状的所述涂料向在第=漉的周面上行进的被涂布物呈涂膜状地转印,其中所述第 二漉向与所述第一漉相反的方向旋转,所述第=漉向与所述第二漉相反的方向旋转,所述 涂膜物的制造方法的特征在于,通过在移动到所述间隙之前的所述第一漉和所述第二漉的 周面上残留所述涂料,而使所述第一漉和所述第二漉的周面上存在残留涂料。 本专利技术提供的涂膜物的制造装置将含有涂料粒子的涂料涂敷在被涂布物上,所述 涂膜物的制造装置的特征在于,具有:至少对供给的所述涂料进行社制而使之成为涂膜状 的涂料的第一漉W及第二漉;W及残留在所述第一漉W及所述第二漉的表面上的残留涂 料,向所述第一漉与所述第二漉之间的间隙供给所述涂料,所述残留涂料通过供给的所述 涂料在所述第一漉W及所述第二漉的表面上残留而成,从所述第二漉向行进的所述被涂布 物转印所述涂膜状的涂料。 专利技术效果 本专利技术在将涂料在漉间社制而形成涂膜且使涂膜向被涂布物转印时,首先在漉的 表面上由残留涂料形成残留涂料层,在将残留涂料层保持于漉表面的状态下进行涂料的供 给、涂膜的转印,从而能够抑制漉与涂料之间的磨损。【附图说明】 图1是对本专利技术的涂膜物的制造装置的简要结构进行例示的图。 图2是对本专利技术的涂膜物的制造方法的各工序进行说明的简图。 图3是对本专利技术的在两面上转印涂料的涂膜物的制造装置的简要结构进行例示 的图。 图4是对本专利技术的涂膜物的制造装置的整体结构进行例示的图。 图5是示出专利文献1的涂膜物的制造装置的结构的图。 图6是示出通过本专利技术制造出的非水系二次电池的纵剖面的示意图。 阳〇1引符号说明 1 正极板 2 间隔件 阳OW 3 负极板 阳0巧 4 电池壳体 阳〇2引 5 极板组 6 封口板 阳0巧]7 衬垫 11 第一漉 12 第二漉 阳02引 13第立漉 15卷出机 16卷取机 17涂料供给料斗 阳0巧 21被涂布物 22湿润混合剂涂料 阳〇34] 23涂膜物 24残留混合剂涂料 25湿润混合剂涂料 阳037] 31第一漉 阳03引 32第二漉 33混合剂涂料 阳040] 34漉隙【具体实施方式】 W下,参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。需要说明的是,在W下的说明中, 对相同的结构部分采用相同的符号,并适当地省略说明。 阳0创(实施方式)图1是对本专利技术的涂膜物的制造装置的简要结构进行例示的图。 图1示出如下形态:进入到第一漉11与第二漉12之间的间隙中的作为涂膜用的 涂料的示例的湿润混合剂涂料22先在第二漉12的表面上形成为涂膜状,然后该涂膜状的 湿润混合剂涂料22从第二漉12向在第=漉13上行进的被涂布物21转印,对得到的涂膜 物23进行输送。作为涂膜用的涂料的示例的湿润混合剂涂料22是在溶剂中含有涂料粒子 作为溶质的溶液。 如图1所示,第一漉11、第二漉12W及第=漉13是圆筒形的漉,并W该顺序隔开 一定的间隔而配置。湿润混合剂涂料22向第一漉11与第二漉12之间的间隙供给。供给 的湿润混合剂涂料22由第一漉11和第二漉12通过剪切力W薄薄地延展的方式进行社制, 从而作为湿润混合剂涂料25在第二漉12上呈涂膜状地形成并向第=漉13输送。第=漉 13用于被涂布物21的供给。被涂布物21沿着第=漉13的表面行进,并向第二漉12与第 =漉13之间的间隙供给。在第二漉12与第=漉13之间的间隙处,形成为涂膜状的湿润混 合剂涂料25向被涂布物21的表面转印而形成涂膜物23。 在该情况下,第=漉13向与第二漉12相反的方向旋转,被涂布物21在第二漉12 与第S漉13之间,W与第S漉13的周向速度相等的速度向与第S漉13的旋转方向相同的 方向行进。 在图1示出的结构中,如后所述,也可W使相邻的第一漉11与第二漉12的周向速 度比不同于第二漉12与第S漉13的周向速度比。 需要说明的是,根据需要,在第二漉12与第=漉13之间还可W存在其他漉。 优选将第一漉11、第二漉12、第=漉13平行地配置,使第一漉11与第二漉12之 间的间隙、第二漉12与第S漉13之间的间隙在漉间的整个宽度范围内均匀。由此,在第二 漉12上形成的涂膜状的湿润混合剂涂料25的厚度变得均匀。其结果是,在被涂布物21上, 形成在与被涂布物21的行进方向正交的方向即宽度方向上厚度均匀的涂膜。另外,通过改 变漉间间隙值,从而能够使涂膜的厚度自由地变化。 在该涂布工序中,优选第一漉11、第二漉12W及第S漉13的材质为例如SUS等那 样的不受湿润混合剂涂料22的硬度影响的表面硬度高的材质。 本专利技术的特征在于:在供给湿润混合剂涂料22时,先使湿润混合剂涂料22薄且 均匀地残留在第一漉11和第二漉12的周面上而形成残留混合剂涂料24,在残留有残留混 合剂涂料24的状态下进行涂膜物的制造。更具体而言,例如,在进入到第一漉11与第二漉 12之间的湿润混合剂涂料22形成为涂膜状并向第二漉12的周面上转印时,残留混合剂涂 料24薄薄地残留在第一漉的周面上。另外,在第二漉12的周面上的涂膜状的湿润混合剂 涂料22向被涂布物21转印时,残留混合剂涂料24薄薄地残留在第二漉12的周面上。 通过使残留在第一漉11或第二漉12上的较薄的残留混合剂涂料24均匀且与在 被涂布物21上形成的膜厚相比足够薄,由此几乎不会对向被涂布物21转印的湿润混合剂 涂料25的膜厚、重量产生影响。 通过将残留混合剂涂料24薄薄本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂膜物的制造方法,使涂料进入第一辊与第二辊之间的间隙并在所述第二辊的表面上形成为涂膜状,使在所述第二辊的表面上形成为涂膜状的涂膜状的所述涂料向在第三辊的周面上行进的被涂布物呈涂膜状地转印,其中所述第二辊向与所述第一辊相反的方向旋转,所述第三辊向与所述第二辊相反的方向旋转,所述涂膜物的制造方法的特征在于,通过在移动到所述间隙之前的所述第一辊和所述第二辊的周面上残留所述涂料,而使所述第一辊和所述第二辊的周面上存在残留涂料。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:三上正晃浜边理史黑宫孝雄
申请(专利权)人:松下知识产权经营株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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