【技术实现步骤摘要】
一种高性能ZAO旋转靶材的制备方法
本专利技术涉及一种含氧化锌掺铝的陶瓷靶材成型的制备方法。
技术介绍
ΖΑ0是ZnO掺A1203陶瓷,掺杂比一般为98:2~90:10,ZnO是一种具有六角纤锌矿结构的直接带隙宽禁带η型半导体材料,ZnO基薄膜具有压敏性、压电性、透明导电性、光电性等优良性质。在ZnO体系中掺杂A1203制成ΖΑ0透明导电薄膜,其薄膜导电性能大幅提高,而且具有可同ΙΤ0相比拟的光电特性。ΖΑ0薄膜的制备简便,元素资源丰富无毒,逐渐成为ΙΤ0薄膜最佳替代者。目前市场多为平面靶材,但是平面靶材利用率较低,仅为20%-30%,随着技术的不断更新,人们发现旋转靶材360°靶面可被均匀溅射,利用率高达80%。现在薄膜太阳能电池的度电成本仍然较高,社会迫切需要技术的进步来降低光伏发电的成本,因此,旋转靶镀膜技术会成为今后生产薄膜电池的重要发展方向。目前,ΖΑ0旋转靶材主要是喷涂技术,但是传统的喷涂方法的最大缺陷是靶材密度低,只有理论密度的80%,导致溅射时容易打火、掉渣,影响溅射质量和降低成品率,同时设备的投入也比较大。
技术实现思路
本专利技术的目的 ...
【技术保护点】
一种高性能ZAO旋转靶材的制备方法,其特征在于它是按以下步骤进行的:一、粉体初压成型:将模具置于压力机上,在ZAO粉体与模具接触面涂上二硫化钼粉末,装入ZAO粉体后,在2~10MPa压强下压制成粗坯;二、真空热压烧结:将步骤一中压制成的粗坯连同模具一起移入真空热压炉内,抽真空至真空度为5~50Pa;加压至15~40MPa后,均匀升温至1100~1400℃,保温保压2~6小时;然后降温至100℃以下出炉,得到ZAO旋转靶材粗品。
【技术特征摘要】
1.一种高性能ZAO旋转靶材的制备方法,其特征在于它是按以下步骤进行的:一、粉体初压成型:将模具置于压力机上,在ZA0粉体与模具接触面涂上二硫化钥粉末,装入ZA0粉体后,在2~lOMPa压强下压制成粗坯;二、真空热压烧结:将步骤一中压制成的粗坯连同模具一起移入真空热压炉内,抽真空至真空度为5~50Pa ;加压至15~40MPa后,均匀升温至1100~1400°C,保温保压2~6小时;然后降温至100°C以下出炉,得到ZA0旋转靶材粗品。2.根据权利要求1所述的一种高性能ZA0旋转靶材的制备方法,其特征在于步骤一中所述的压制成粗坯的压强为3~9MPa。3.根据权利要求1所述的一种高性能ZA0旋转靶材的制备方法,其特征在于步骤二中所述的将粗坯连同模具一起移入真空热压炉内后,抽真空至...
【专利技术属性】
技术研发人员:康明生,崔娜,齐梦强,朱辉,吴洁,岳子云,
申请(专利权)人:河北东同光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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