镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种镀膜装置，其构造成可以减少靶材间的污染的发生。该镀膜装置包括：多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件；其中，所述第一挡板构件及所述遮蔽构件之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向外周侧扩大。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】镀膜装置
本专利技术涉及镀膜装置，尤其涉及用于减少多靶材溅射镀膜装置中的污染，所述镀膜装置例如包括在单一室内的由不同材质制成的多个靶材电极，且利用旋转挡板装置通过溅射形成多层式膜。
技术介绍
多靶材溅射镀膜装置(例如专利文献I)可以在单个镀膜室内通过没有中断的连续溅射、从最下层至最上层在基板上形成必要的多层式膜。在专利文献I的镀膜装置中，为了在单个室内通过溅射形成多层式膜，将多个不同材质的靶材布置于室顶部上，即布置于待要在其上镀膜的基板的上方的空间中，且设有对在溅射镀膜中使用的靶材进行选择的挡板装置。此挡板装置具有包括彼此独立旋转的挡板的双层挡板结构。这两个挡板中的每一个都在预定位置形成有所需数量的开口，从而从基板侧可以看见所选择的靶材。借助该旋转挡板装置，由在镀膜过程中不使用的材质制成的靶材被遮蔽，并且由在溅射镀膜过程中使用的材质制成的靶材能够从基板通过开口看到。该旋转挡板装置具备从基板观察为基本圆形形状的两个挡板，此两个挡板板构造成彼此独立旋转。为了选择在溅射镀膜过程中所使用的靶材，借助旋转挡板装置将各挡板旋转，使得由在镀膜过程中需要使用的材质制成的靶材通过开口面向基板。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜装置，包括：多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件；其中，所述第一挡板构件及所述遮蔽构件之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向外周侧扩大。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.30 JP 2011-1451521.一种镀膜装置，包括: 多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面； 用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架； 在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及 与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件； 其中，所述第一挡板构件及所述遮蔽构件之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向外周侧扩大。2.如权利要求1所述的镀膜装置，其中， 所述遮蔽构件布置于所述靶材电极及所述第一挡板构件之间。3.如权利要求2所述的镀膜装置，其中， 在相邻的所述靶材电极的最靠近部中，所述遮蔽构件具有比所述第一挡板构件更大的曲率半径。4.如权利要求2或3所述的镀膜装置，还包括第二挡板构件，第二挡板构件可旋转地设于所述第一挡板构件及所述基板支架之间，且具有数量与所述第一挡板构件的开口的数量相等或更多的开口， 其中，所述第二挡板构件的开口能够定位成与所述第一挡板构件的开口相对。`5.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：梶原雄二，安松保志，小长和也，
申请(专利权)人：佳能安内华股份有限公司，
类型：
国别省市：