【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种衬底支撑设备以及衬底处理设备，包括：底板，经配置以将衬底支撑在所述底板上，且具有冷却气体流动通过的多个供应管；顶板，经配置以可卸除地耦接到所述底板，且具有空穴以使支撑在所述底板上的所述衬底的顶表面暴露；以及密封构件，经配置以耦接到所述底板，且在所述顶板与所述底板之间以及所述衬底与所述底板之间形成冷却空间。根据本专利技术的所述设备将热传导气体供应到多个衬底以提高热传递效率。【专利说明】衬底支撑设备以及衬底处理设备
本专利技术涉及衬底支撑设备以及衬底处理设备，尤其涉及可将热传导气体应用于多个衬底以改进热传递效率的衬底支撑设备以及衬底处理设备。
技术介绍
一般来说，用于制造例如半导体、LED以及平板显示器等装置的等离子体处理设备通过在反应室中形成电场以及磁场而产生等离子体，且使用所述等离子体来执行各种处理。常规等离子体处理设备包括衬底支撑设备，用于将衬底固持在衬底支撑设备上，且明确地说，此衬底支撑设备可具有同时固持以及处理多个衬底以实现生产改进的配置。在执行此等离子体处理工艺时，安装在衬底支撑设备上的衬底的温度因为等离子体的温度而提...
【技术保护点】
一种衬底支撑设备，其特征在于，包括：底板，经配置以将衬底支撑在所述底板上，且具有冷却气体流动通过的多个供应管；顶板，经配置以可卸除地耦接到所述底板，且具有空穴以使支撑在所述底板上的所述衬底的顶表面暴露；以及密封构件，经配置以耦接到所述底板，且在所述顶板与所述底板之间以及所述衬底与所述底板之间形成冷却空间。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑相坤，金亨源，申裕植，
申请(专利权)人：吉佳蓝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。