本发明专利技术涉及一种纳米压印用复制模制作装置，包括：转印部，其在从一侧供应的薄膜形成复制模；薄膜供应部，其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜；薄膜回收部，其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜，并且所述转印部包括：载台部，其供安放形成有用于涂布树脂的图案的母模；压辊部，其向水平方向移动以形成所述复制模；以及转印部驱动单元，其为了使所述压辊部从一侧的待机位置移动至另一侧并再返回至所述待机位置而进行驱动。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种纳米压印用复制模制作装置。
技术介绍
1、近来，在显示工艺和半导体工艺中采用纳米压印(nano imprint)工艺，以在基板(例如，显示面板和晶片(wafer)等)的表面形成图案(例如，用于结构化的成型图案和蚀刻或蒸镀的掩模图案等)。
2、在利用模(mold)以压印(imprint)形式在基板的表面形成纳米至微米大小的微细图案的纳米压印工艺中，虽然也可以利用母模10在基板的表面直接形成图案，但近来主要采用一种从母模10制作复制模20并利用所制作的复制模20在基板的表面形成图案的方法。
3、此时，可以制作从由母模10制作的一次复制模20复制的二次复制模20。这种制作二次复制模20的一次复制模20也可以称为母模10。即，母模10可以指统称制作复制模20的模。此外，复制模20可以指统称从母模10制作的模。
4、作为这种制作复制模20的多种方法之一，有一种通过使压辊部120从薄膜60的上侧前进(模制工序)及后退(脱模工序)来将复制模20形成于薄膜60的辊转印方法。
5、另一方面，执行辊转印方法的复制模20的制作装置存在装置的大小与压辊部120前进的长度成比例地变大的问题。
6、此外，复制模20的制作装置存在为了使薄膜60进入压辊部120的角度恒定而致使装置的大小变大的问题。
7、此外，复制模20的制作装置存在着在将树脂70涂布于母模10的图案时发生涂布容量的偏差的问题。
技术实现思路
1、技术问题</p>2、本专利技术的目的在于，提供一种纳米压印用复制模制作装置。
3、技术方案
4、本专利技术的实施例的纳米压印用复制模制作装置包括：转印部，其在从一侧供应的薄膜形成复制模；薄膜供应部，其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜；以及薄膜回收部，其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜，并且所述转印部包括：载台部，其供安放形成有用于涂布树脂的图案的母模；压辊部，其向水平方向移动以形成所述复制模；转印部驱动单元，其为了使所述压辊部从一侧的待机位置移动至另一侧并再返回至所述待机位置而进行驱动；光照射部，其向所述树脂照射光；以及结合移动部，其与所述光照射部和所述压辊部结合以一同通过所述驱动单元移动，所述光照射部的照射方向以与所述载台部垂直的下侧方向为基准朝向所述压辊部倾斜。
5、根据实施例，所述光照射部包括照射方向导向部，该照射方向导向部以使照射方向在10度至80度内倾斜的方式进行导向。
6、根据实施例，所述光照射部还包括遮光部，该遮光部从所述光照射部凸出地配置，以遮蔽照射至所述树脂的光被扩散而重叠地照射至所述树脂。
7、根据实施例，还包括：导辊，其在所述薄膜回收部与所述转印部之间配置一个以上，以调整薄膜的进入角度，并且所述转印部还包括薄膜角度维持辊部，该薄膜角度维持辊部以改变所述薄膜进入所述压辊部的角度的方式与所述压辊部在垂直及水平方向上间隔开，所述薄膜角度维持辊部被配置为相较于所述压辊部使从所述薄膜供应部供应的薄膜先进入，所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部之间的薄膜的长度对应于所述压辊部为了形成所述复制模而在水平方向上移动的长度，以使所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜的两个面中形成所述复制模的面接触，但在进行所述脱模工序的过程中所述薄膜角度维持辊部不与所述复制模接触，所述导辊与所述薄膜的两个面中不同于形成所述复制模的面的面接触，以防止所述导辊与沿回收至所述薄膜回收部的所述薄膜移动的所述复制模接触。
8、根据实施例，所述纳米压印用复制模制作装置还包括：分配器部，其以不与所述母模的图案重叠的方式将所述树脂涂布于涂布区域，该涂布区域是位于一侧的待机位置的所述压辊部与所述母模的图案之间的空间；以及压辊驱动单元，其以移动所述压辊部的垂直位置以在所述载台部与所述压辊部之间形成间距的方式进行驱动，并且在所述压辊部通过所述载台部与所述压辊部之间的间距使所述树脂从一侧的待机位置向另一侧的移动的水平方向上扩散以涂布于所述母模的图案。
9、根据实施例，所述的纳米压印用复制模制作装置还包括：载台驱动单元，其使所述载台部升降；以及分配器驱动单元，其将所述分配器部引入为了涂布所述树脂而通过所述载台驱动单元下降的载台部并再引出所述分配器部。
10、根据实施例，转印部，其在从一侧供应的薄膜形成复制模；薄膜供应部，其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜；薄膜回收部，其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜；以及导辊，其在所述薄膜回收部与所述转印部之间配置一个以上，以将所述薄膜引导至所述薄膜回收部，并且为了使所述导辊仅与所述薄膜的两个面中不形成所述复制模的面接触，而不与形成所述复制模的面接触，所述转印部包括：压辊部，其以向水平方向移动以形成所述复制模的方式，相较于所述薄膜回收部位于下侧，并且相较于所述导辊位于供应所述薄膜的一侧；转印部驱动单元，其为了使所述压辊部从待机位置朝向供应所述薄膜的一侧移动以进行模制工序并再返回至所述待机位置以进行脱模工序而进行驱动；薄膜角度维持辊部，其以改变所述薄膜进入所述压辊部的角度的方式相较于所述压辊部位于供应所述薄膜的一侧，从而隔着所述压辊部位于所述导辊的相对侧，并且相较于所述压辊部位于上侧；以及结合移动部，其使以所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部一同移动的方式结合，并且通过所述转印部驱动单元移动，在从所述薄膜供应部向所述转印部供应所述薄膜，并进行所述模制工序，并进行所述脱模工序，并从所述转印部向所述薄膜回收部回收所述薄膜的过程中，所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部的相互位置不变，在所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部移动的过程中，所述导辊的位置不移动，在进行所述模制工序的过程中，所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部从所述导辊的间隔距离增大，在进行所述脱模工序的过程中，所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部从所述导辊的间隔距离减小。
11、根据实施例，所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜供应部之间的距离比所述压辊部与所述薄膜供应部之间的距离短，所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部之间的薄膜的长度对应于所述压辊部为了形成所述复制模而在水平方向上移动的长度，以使所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜的两个面中形成所述复制模的面接触，但在进行所述脱模工序的过程中使所述薄膜角度维持辊部不与所述复制模接触。
12、根据实施例，提供一种纳米压印用复制模制作装置，包括：转印部，其在从一侧供应的薄膜形成复制模；以及分配器部，所述转印部包括：载台部，其供安放在上表面形成有图案的母模；压辊部，其向水平方向移动以形成所述复制模；以及转印部驱动单元，其为了使所述压辊部从待机位置向水平方向移动并再返回至所述待机位置而进行驱动，所述分配器部以不与所述母模的图案重叠的方式将所述树脂涂布于所述载台部的上表面的涂布区域，该涂布区域是位于所述待机位置的所述压辊部与所述母模的图案之间的空间，所述压辊部在从所述待机位置向水平方向移动时使所述树脂从所述涂布区域向所述水平方本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，
3.一种纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，包括：
4.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，
5.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，
6.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，
7.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，
8.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，
9.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，还包括：
【技术特征摘要】
1.一种纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，
3.一种纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，包括：
4.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，
5.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装...
【专利技术属性】
技术研发人员：金泰完，郑明教，金准基，朴惠贞，郑熙锡，
申请(专利权)人：吉佳蓝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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