纳米压印用复制模制作装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种纳米压印用复制模制作装置，包括：转印部，其在从一侧供应的薄膜形成复制模；薄膜供应部，其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜；薄膜回收部，其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜，并且所述转印部包括：载台部，其供安放形成有用于涂布树脂的图案的母模；压辊部，其向水平方向移动以形成所述复制模；以及转印部驱动单元，其为了使所述压辊部从一侧的待机位置移动至另一侧并再返回至所述待机位置而进行驱动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种纳米压印用复制模制作装置。

技术介绍

1、近来，在显示工艺和半导体工艺中采用纳米压印(nano imprint)工艺，以在基板(例如，显示面板和晶片(wafer)等)的表面形成图案(例如，用于结构化的成型图案和蚀刻或蒸镀的掩模图案等)。

2、在利用模(mold)以压印(imprint)形式在基板的表面形成纳米至微米大小的微细图案的纳米压印工艺中，虽然也可以利用母模10在基板的表面直接形成图案，但近来主要采用一种从母模10制作复制模20并利用所制作的复制模20在基板的表面形成图案的方法。

3、此时，可以制作从由母模10制作的一次复制模20复制的二次复制模20。这种制作二次复制模20的一次复制模20也可以称为母模10。即，母模10可以指统称制作复制模20的模。此外，复制模20可以指统称从母模10制作的模。

4、作为这种制作复制模20的多种方法之一，有一种通过使压辊部120从薄膜60的上侧前进(模制工序)及后退(脱模工序)来将复制模20形成于薄膜60的辊转印方法。

5、另一方面，执行辊转印方法的复本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，

3.一种纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，包括：

4.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，

5.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，

6.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，

7.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，

8.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，

9.根...

【技术特征摘要】

1.一种纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，

3.一种纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，包括：

4.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置，其特征在于，

5.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装...

【专利技术属性】
技术研发人员：金泰完，郑明教，金准基，朴惠贞，郑熙锡，
申请(专利权)人：吉佳蓝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：