本发明专利技术的课题是提供处于透明且均匀的清漆的形态，形成在评价涂膜的密合性的划格测试试验中没有剥离，并且脱模力能够达到小于等于0.5g/cm的膜的压印材料。作为解决本发明专利技术课题的手段涉及一种压印材料，其包含：(A)成分：具有至少1个碳原子数2、3或4的氧化烯单元，且具有至少2个聚合性基团的化合物，(B)成分：光聚合引发剂，(C)成分：使膜基材的表面部膨润或溶解的溶剂，和(D)成分：有机硅化合物。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术的课题是提供处于透明且均匀的清漆的形态，形成在评价涂膜的密合性的划格测试试验中没有剥离，并且脱模力能够达到小于等于0.5g/cm的膜的压印材料。作为解决本专利技术课题的手段涉及一种压印材料，其包含：(A)成分：具有至少1个碳原子数2、3或4的氧化烯单元，且具有至少2个聚合性基团的化合物，(B)成分：光聚合引发剂，(C)成分：使膜基材的表面部膨润或溶解的溶剂，和(D)成分：有机硅化合物。【专利说明】压印材料
本专利技术涉及压印材料(压印用膜形成组合物)和由该材料制作且转印有图案的膜。更详细地说涉及所形成的膜相对于膜基材具有高密合性，且具有低脱模力性的压印材料，以及由该材料制作且转印有图案的膜。
技术介绍
1995年，现普林斯顿大学的★ 3々教授等提倡纳米压印光刻这样的新的技术(专利文献I)。纳米压印光刻为使具有任意图案的模具与形成有树脂膜的基材接触，对该树脂膜加压，并且使用热或光作为外部刺激，在被固化了的该树脂膜上形成目标图案的技术，该纳米压印光刻与以往的半导体器件制造中的光刻等相比，具有能够简便、廉价地进行纳米规模的加工这样的优点。因此，纳米压印光刻为代替光刻技术而期待适用于半导体器件、光学器件、显示器、存储介质、生物芯片等的制造的技术，因此对于纳米压印光刻所用的光纳米压印光刻用固化性组合物有各种报告(专利文献2、专利文献3)。此外，在光纳米压印光刻中，作为以高效率大量生产转印有图案的膜的方法，提倡卷对卷(roll to roll)方式。以往光纳米压印光刻中所提出的卷对卷方式使用柔性的膜作为基材，作为压印材料，为了使图案尺寸不易变化，使用不添加溶剂的无溶剂类型的材料的方法成为主流。另一方面，在与光纳米压印光刻不同的
中，报告了添加溶剂而获得与膜(基材)的充分密合的方法(专利文献4、专利文献5)。 然而，指出了光纳米压印光刻中，在压印后压印材料附着于作为金属模的模具，有时得不到目标图案形状的情况。因此报告了，为了获得目标图案形状，在压印材料中添加有机硅化合物作为脱模性改进剂，使脱模性良好的技术(专利文献6)。在该文献中，作为表现良好的压印性的因素之一，可举出涂膜与模具的优异的剥离性，在实施例中，通过利用显微镜观察来评价模具形状的图案转印率，从而评价压印性。此外，有以使膜表面的擦伤性提高为目的而添加有机硅化合物的技术相关的报告(专利文献7)。现有技术文献专利文献专利文献1:美国专利第5772905号说明书专利文献2:日本特开2008 - 105414号公报专利文献3:日本特开2008 - 202022号公报专利文献4:日本特开平11 - 209717号公报专利文献5:日本特开2005 - 248173号公报专利文献6:日本特开2011 - 66370号公报专利文献7:W02007/040159号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题如上所述，迄今为止，虽然公开了各种材料作为纳米压印光刻所用的材料(以下，本说明书中简称为“压印材料”。)，但是关于对膜基材具有充分的密合性，且脱模力小的材料，即可以从固化了的树脂膜容易地剥离模具的特性的材料，具体的研究、报告还没有进行。此外作为上述脱模性改进剂的有机硅化合物与一般压印材料所使用的各种成分的相容性低成为障碍。这样，关于具有与脱模性改进剂的相容性，而且不是通过所得的图案形状的显微镜观察对脱模性进行定性评价，而是作为定量化了的脱模力(脱模时的拉剥力)进行了评价的材料的报告，迄今为止完全没有。本专利技术是基于上述情况而作出的，其所要解决的课题是提供构成压印材料的各成分彼此充分地相容而处于均匀的形态，此外使用该材料来形成树脂膜时，相对于膜基材具有充分的密合性，并且脱模时可以从模具容易地剥离树脂膜的压印材料，即可以形成具有低脱模力性的膜的压印材料，并提供由该材料制作且转印有图案的膜。具体而言，本专利技术的目的在于，提供一种处于透明且均匀的清漆的形态，形成在评价涂膜的密合性的划格测试试验中不会剥离，并且脱模力能够达到小于等于0.5g/cm的膜的压印材料。用于解决课题的方法本专利技术人等为了解决上述课题而进行了深入研究，结果获得了以下这样令人震惊的认识:通过使用下述材料作为压印材料，从而该材料处于透明且均匀的清漆的形态，可以形成均质的涂膜，通过将该材料涂布于膜基材并进行光固化来转印模具的图案形状，将所得的固化被膜从模具的具有图案形状的面剥离时测量的脱模力显著地变小，所述材料含有:具有碳原子数2、3或4的氧化烯单元，且具有至少2个聚合性基团的化合物；光聚合引发剂；迄今为止被指出相容性差的有机硅化合物；以及以往由于易于发生图案尺寸的变化而被控制使用的溶剂，基于上述认识从而完成本专利技术。即本专利技术中，作为第I观点，涉及一种压印材料，其包含下述(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分，(A)成分:具有至少I个碳原子数2、3或4的氧化烯单元，且具有至少2个聚合性基团的化合物，(B)成分:光聚合引发剂，(C)成分:使应用压印材料的膜基材的表面部膨润或溶解的溶剂，(D)成分:有机硅化合物。作为第2观点，涉及第I观点所述的压印材料，上述㈧成分的化合物是，作为上述聚合性基团，具有至少2个选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基和烯丙基中的至少I种基团的化合物。作为第3观点，涉及第I观点所述的压印材料，上述㈧成分的化合物是，作为氧化烯单元，具有至少I个选自氧化乙烯、氧化丙烯和氧化丁烯中的至少I种的化合物。作为第4观点，涉及第I观点?第3观点中的任一观点所述的压印材料，上述(B)成分包含2，4, 6 一三甲基苯甲酰一二苯基一氧化膦、I 一轻基一环己基一苯基一酮或2 —轻基一2 —甲基一I —苯基一丙烧一I —酮。作为第5观点，涉及第I观点?第4观点中的任一观点所述的压印材料，其特征在于，上述(C)成分含有选自甲基乙基酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、环己酮和丙二醇单甲基醚中的至少I种。作为第6观点，涉及第I观点?第5观点中的任一观点所述的压印材料，其特征在于，被定义为从上述压印材料的全部成分中除去了(C)成分后的其它成分的固体成分的比例是，相对于上述压印材料的总质量为10质量％?80质量％。作为第7观点，涉及第I观点?第6观点中的任一观点所述的压印材料，上述膜基材包含三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯或环烯烃(共)聚合物。作为第8观点，涉及第I观点?第7观点中的任一观点所述的压印材料，在将上述压印材料涂布在上述膜基材上使其光固化了的情况下，所得的固化膜与上述膜基材的密合性在依照JIS K5400进行的试验的评价中为100/100，并且，在下述试验中测量的脱模力大于Og/cm且小于等于0.5g/cm，所述试验是，将上述压印材料涂布在上述膜基材上，使该膜基材上的涂膜粘接于模具的具有图案形状的面，接着使该涂膜光固化，然后将膜基材上的固化被膜从模具的具有图案形状的面进行90°剥离的试验，所述脱模力是将该膜基材上的固化被膜从模具的具有图案形状的面剥离时的荷重换算成该膜基材的每Icm横宽而得的值。作为第9观点，涉及一种压印方法，其具有下述工序:将第I观点?第8观点中的任一观点所述的压印材料涂布于膜基材，获得涂膜的工序，使上述涂膜干燥的工序，在上述干燥了的涂膜上按压模具并本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：加藤拓，小林淳平，首藤圭介，铃木正睦，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：
国别省市：
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