具有纳米图案的透明衬底及其制造方法技术

提供了具有纳米图案的透明衬底及其制造方法，使得能够在所述透明衬底上容易地形成所述纳米图案，并且通过下述方式而具有适用于大型衬底的所述纳米图案：在透明衬底上形成由透明材料构成的树脂层；在所述树脂层上形成至少一个或多个单元图案部分，所述至少一个或多个单元图案部分由第一图案区域和第二图案区域以及在所述第一图案区域与所述第二图案区域之间形成的突出图案构成，在所述第一图案区域和所述第二图案区域中形成有多个网格图案；以及在所述突出图案上形成纳米级金属层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有纳米图案的透明衬底及其制造方法本申请要求在2011年12月19日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2011-0137217的优先权，其整体内容通过引用被包含在此。
本专利技术涉及形成纳米图案的
，并且更具体地涉及具有纳米图案的透明衬底。
技术介绍
当制造半导体器件、字线时，必然需要实现各种精细图案，诸如数位线和接触等。已经普遍应用光刻技术来形成这些精细图案。传统上广泛使用的接触光刻使得能够在宽区域上形成图案。然而，因为光的衍射的限制，有问题的是，可以形成的精细图案的间距受限(1～2μm)。因此，为了解决该问题，开发了步进方法、扫描方法和全息光刻方法等。然而，这些方法需要复杂且繁复的设备，并且引发高的费用。而且，可以形成图案的区域受限，由此看来该等方法受到限制。也就是说，由于诸如设备限制或工艺特性的问题，传统的光刻方法在实施纳米级的精细图案方面基本上受到限制。更具体地，在使用传统光刻技术时，难以实现在大于8英寸的大区域上均匀形成的纳米级图案。针对上述问题，提出了使用由金属材料构成的多孔模板来形成多孔金属薄膜(如在韩国公开专利公告No.2011-0024892所公开)，并且使用该多孔金属薄膜作为催化剂来形成纳米图案的方法。该方法在下述方面有问题：因为应当预先制备多孔模板，所以使用该方法不方便，并且因为使用了催化剂生长方法，所以仅可以在期望的区域形成纳米图案。而且，有问题的是，不能在透明衬底上形成纳米图案。(现有技术参考文献)(专利参考文献1)韩国公开专利公告No.10-2011-0024892
技术实现思路
技术问题因此，本专利技术旨在解决现有技术中的上述问题。本专利技术的一个方面提供了一种具有纳米图案的透明衬底及其制造方法，其使得能够在透明衬底上容易地形成纳米图案，并且通过在透明衬底上形成由透明材料构成的树脂层来具有适用于大型衬底的纳米图案；在树脂层上形成由第一图案区域和第二图案区域以及在第一图案区域与第二图案区域之间形成的突出图案组成的至少一个或多个单元图案部分，在该第一图案区域和第二图案区域中形成有多个网格图案；并且，在突出图案上形成纳米级金属层。对于问题的解决方案根据本专利技术的一个方面，提供了一种制造具有纳米图案的透明衬底的方法，包括：在透明衬底上形成由透明材料构成的树脂层；在所述树脂层上形成第一图案区域和第二图案区域，在第一图案区域和第二图案区域中分别形成有多个网格图案，并形成由在所述第一图案区域和所述第二图案区域之间形成的突出图案构成的至少一个或多个单元图案部分；以及，在所述突出图案上形成纳米级金属层。根据本专利技术的另一个方面，提供了根据本专利技术的一种具有纳米图案的透明衬底，包括：透明衬底；在所述透明衬底上形成并且由透明材料形成的树脂层；在所述树脂层上形成的至少一个或多个单元图案层；在所述单元图案层上形成的纳米级金属层，其中，所述单元图案层由下述部分构成：第一和第二图案区域，其中形成有多个网格图案，以及在所述第一图案区域和所述第二图案区域之间形成的突出图案，其中所述金属层被形成在所述突出图案上。本专利技术的有益效果根据本专利技术，有益的是，可以在透明衬底的宽区域上来均匀地形成纳米级网格图案。而且，根据本专利技术，有益的是，也可以在透明衬底上均匀地形成纳米级金属层以及上述的网格图案，由此，使得能够以低成本来提供具有与ITO相同的导电率的透明衬底。另外，在本专利技术中使用的主模是可循环使用的直到它被损坏为止，具有诸如原材料费用和生产成本的降低的经济优势。附图说明附图被包括来进一步理解本专利技术，并且被包含在本说明书中并且构成其一部分。附图图示了本专利技术的示例性实施例，并且与说明书一起用于解释本专利技术的原理。在附图中：图1和图2是示出根据本专利技术的具有纳米图案的透明衬底的制造方法的顺序的流程图。图3至图9是大体图示根据本专利技术的具有纳米图案的透明衬底的制造方法的过程的示例性视图。具体实施方式现在参考附图更全面地描述根据本专利技术的示例性实施例。然而，本专利技术的示例性实施例可以以许多不同的形式被体现，并且不应当被解释为限于在此阐述的实施例。而是，这些示例实施例被提供使得本专利技术是彻底和完整的，并且将向本领域内的技术人员全面地传达本专利技术的范围。而且，当确定关于公知的相关功能或配置的具体说明并非必需因而可以不被包括在本专利技术的主要点中时，则省略对应的描述。可以进一步明白，在此使用的术语应当被解释为具有与它们在本说明书的上下文中的含义一致的含义。对于执行类似功能和操作的元件，在说明书全文中，相似的标号指示相似的元件。图1和图2是示出根据本专利技术的具有纳米图案的透明衬底的制造方法的顺序的流程图。参见图1和图2，根据本专利技术的具有纳米图案的透明衬底的制造方法可以包括：在透明衬底上形成由透明材料构成的树脂层(S1)；在树脂层上形成至少一个或多个单元图案部分，该至少一个或多个单元图案部分由第一图案区域和第二图案区域以及在第一图案区域与第二图案区域之间形成的突出图案组成，在第一图案区域和第二图案区域中形成有多个网格图案(S3)；并且，在突出图案上形成纳米级金属层(S5)。在步骤S1中使用的透明衬底的材料可以使用玻璃、石英、由透明材料构成的聚合物，例如公知的聚合物材料，诸如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PC(聚碳酸酯)、PI(聚酰亚胺)。除此之外，还可以使用各种柔性衬底。该材料不受限。在制备好透明衬底之后，通过向透明衬底涂覆由透明材料构成的树脂来形成树脂层。此时，树脂层可以使用热固性聚合物或光固化聚合物。同时，为了改善在树脂层和透明衬底之间的结合能力，也可以通过下述方式形成树脂层：在涂覆树脂之前使用粘结剂来涂敷透明衬底，并且其后，向透明衬底涂覆树脂。在步骤S1后，在树脂层上形成至少一个或多个单元图案部分，该至少一个或多个单元图案部分由第一和第二图案区域以及在第一图案区域与第二图案区域之间的突出图案组成，在该第一和第二图案区域中形成有多个网格图案(S3)。具体地说，可以如下所述的方式执行步骤S3。首先，制造主模(S31)，该主模具有至少一个或多个单元模图案部分，该至少一个或多个单元模图案部分由第一模图案区域和第二模图案区域以及在第一模图案区域与第二模图案区域之间形成的内凹模图案组成，在第一模图案区域和第二模图案区域中分别形成有多个网格模图案。首先，使用空间光刻工艺(spacelithographyprocess)在主模的原始材料上形成多个纳米级网格模图案，例如在韩国专利申请No.10-2010-0129255中所描述的“大面积的纳米级图案的制造方法”(amethodofmanufacturingananoscalepatternhavingalargearea)中所描述的那样。本专利技术的主模也可以通过以下方式来形成：形成内凹模图案以划分出第一模图案区域和第二模图案区域，然后再形成一个或多个单元模图案部分。此时，具体来说，内凹模图案的形成方法可以通过电子束光刻工艺来进行。但是，本专利技术不限于此。同时，第一模图案区域或第二模图案区域的宽度可以形成在50至100nm的范围中。内凹模图案的宽度可以形成在200至1000nm的范围中。通过该方法生产的主模不是一次性用品，而是能够继续使用直到它被损坏为止。而且，主模可以继续在压印工艺中使用，具有诸如降低原材料费用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.19 KR 10-2011-01372171.一种图案衬底，包括：衬底；形成在所述衬底上的一个或多个单元图案，其中，每个所述单元图案由两个窄图案和形成在所述两个窄图案之间的一个宽图案组成，其中，金属层设置在所述宽图案上而不设置在所述窄图案上，其中，所述窄图案形成有多个网格图案，所述窄图案比所述宽图案要窄，其中，所述宽图案为突出图案，其中，所述图案衬底进一步包括位于所述窄图案或所述宽图案与所述衬底之间的透明层，其中，所述金属层的高度大于所述网格图案之间的间距。2.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：李俊，刘庆钟，李领宰，金镇秀，
申请(专利权)人：LG伊诺特有限公司，
类型：
国别省市：