【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及粘着层组合物,通过纳米压印形成膜的方法,光学组件、电路板和电子设备的制造方法。
技术介绍
在半导体器件和微机电系统(MEMS)的领域中,越来越需要小型化。因此,除了常规的光蚀刻技术之外,在基板(晶片)上使用具有特定形状的抗蚀剂(光固化性组合物)图案作为模具的微制造技术近来受到关注。也称为光纳米压印技术的微制造技术能够在基板上形成数纳米量级的微细结构(例如,PTL1)。光纳米压印技术中,首先,将抗蚀剂施加至基板上将要形成图案的区域(施加步骤)。随后,将抗蚀剂在模具中形成为图案(模具接触步骤)。然后,抗蚀剂通过用光照射来固化(照射步骤),并且从模具中分离(脱模步骤)。通过这些步骤,具有特定形状的树脂图案(光固化产物)形成于基板上。另外,通过在基板上的其它区域重复上述步骤的顺序,微细结构形成于基板的整个表面上。不幸的是,通过将光固化性组合物用光固化而形成的光固化产物与基板之间的粘合性在一些情况下不足。当在光纳米压印过程的脱模步骤中从光固化产物移除模具时,光固化产物因此与基板分离,并且附着至模具,导致图案分离的缺陷。为了处理该问题,设计了用于通过在光固化性组合物与基板之间形成粘着层而增加光固化性组合物与基板之间的粘合性的技术(PTL2)。PTL2中,粘着层由以下组合物形成:所述组合物包含具有结合至含氮和不饱和键的杂环的反应性官能团且能够与硫醇基形成化学键的化合物、以及有机化合物。然而,即使在使用包含此类化合物的组合物的情况下,光固化性组合物与基板之间的粘合性在一些情况下也未充分地增加,并且会发生造成缺陷的图案分离。[引文列表][专利文献][PTL1 ...
【技术保护点】
一种用于在基板与光固化性组合物之间形成粘着层的粘着层组合物,其特征在于,所述粘着层组合物包括:含有至少两个结合性官能团的化合物(A),所述结合性官能团包括至少一个直接结合至烃或芳族烃且能够结合至所述基板的官能团,和至少一个直接结合至烃或芳族烃且能够结合至所述光固化性组合物的官能团;和溶剂(B),其中所述能够结合至所述基板的官能团是选自由羟基、羧基、硫醇基、氨基、环氧基、和(封端的)异氰酸酯基组成的组的至少之一,并且所述能够结合至所述光固化性组合物的官能团是氢供给性官能团。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.08 JP 2014-1409071.一种用于在基板与光固化性组合物之间形成粘着层的粘着层组合物,其特征在于,所述粘着层组合物包括:含有至少两个结合性官能团的化合物(A),所述结合性官能团包括至少一个直接结合至烃或芳族烃且能够结合至所述基板的官能团,和至少一个直接结合至烃或芳族烃且能够结合至所述光固化性组合物的官能团;和溶剂(B),其中所述能够结合至所述基板的官能团是选自由羟基、羧基、硫醇基、氨基、环氧基、和(封端的)异氰酸酯基组成的组的至少之一,并且所述能够结合至所述光固化性组合物的官能团是氢供给性官能团。2.根据权利要求1所述的粘着层组合物,其中所述氢供给性官能团是硫醇基或烷氨基。3.根据权利要求1或2所述的粘着层组合物,其中所述化合物(A)在其分子中包含至少三个氢供给性官能团。4.根据权利要求1-3任一项所述的粘着层,其中所述能够结合至所述基板的官能团是羟基和硫醇基中的至少之一。5.根据权利要求1-4任一项所述的粘着层组合物,其中所述化合物(A)不具有杂环结构。6.根据权利要求1所述的粘着层组合物,其中所述化合物(A)具有沿四个方向延伸的直链,所述直链的各末端结合至所述能够结合至所述基板的官能团或所述能够结合至所述光固化性组合物的官能团。7.根据权利要求1-6任一项所述的粘着层组合物,其中所述化合物(A)在其分子中包含至少四个硫醇基。8.根据权利要求1-4任一项所述的粘着层组合物,其中所述化合物(A)是选自由1,3,5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、季戊四醇三(3-巯基丁酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、N-苯基甘氨酸和N,N,N',N\,N\-五(2-羟丙基)二亚乙基三胺组成的组的至少之一。9.根据权利要求1-5任一项所述的粘着层组合物,其中所述溶剂(B)是丙二醇单甲基醚乙酸酯,或者包含丙二醇单甲基醚乙酸酯。10.根据权利要求1-6任一项所述的粘着层组合物,其中所述光固化性组合物包含聚合性化合物和光聚合引发剂。11.根据权利要求10所述的粘着层组合物,其中所述聚合性化合物是(甲基)丙烯酸酯单体。12.根据权利要求1-11任一项所述的粘着层组合物,其中所述粘着层组合物用于压印。13.根据权利要求1-12任一项所述的粘着层组合物,其中所述粘着层组合物用于UV纳米压印。14.一种光固化产物图案的...
【专利技术属性】
技术研发人员:本间猛,伊藤俊树,大谷智教,岩下和美,
申请(专利权)人:佳能株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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