膜的生产方法、光学组件的生产方法、电路板的生产方法、电子组件的生产方法、和光固化性组合物技术

一种膜的生产方法，其包括：将光固化性组合物配置在基板上的配置步骤；使所述光固化性组合物和模具彼此接触的模具接触步骤；用光照射所述光固化性组合物从而形成固化产物的光照射步骤；和使所述固化产物和所述模具彼此脱离的脱模步骤，其中所述方法进一步包括在所述光照射步骤之前将所述模具与所述基板彼此对准的对准步骤，其中所述光固化性组合物至少包含作为组分(A)的聚合性化合物和作为组分(B)的光聚合引发剂，并且其中当所述聚合性化合物在0.12mW/cm2的照度和11.0秒的曝光时间的条件下曝光时，所述聚合性化合物具有50％以上的聚合转化率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包括使用光固化性组合物的膜的生产方法、各自包括使用所述膜的生产方法的光学组件的生产方法、电路板的生产方法、和电子组件的生产方法、以及光固化性组合物。
技术介绍
在半导体器件和MEMS等中，存在对微细化日益增加的需求。因此，近年来，除了现有技术的光刻技术之外，包括使用具有在基板(晶片)上形成的预定形状的抗蚀剂(光固化性组合物)的图案作为模具的微细加工技术已引起关注。微细加工技术也称为光纳米压印技术，并且能够在基板上形成几纳米量级的微细结构体(参见，例如，PTL1)。在光纳米压印技术中，首先，将抗蚀剂涂布至在基板上的图案形成区域上(配置步骤)。接下来，将抗蚀剂通过使用形成有图案的模具来成形(模具接触步骤)。然后，将抗蚀剂用光照射而固化(光照射步骤)且脱离(脱模步骤)。具有预定形状的树脂图案(光固化产物)通过进行上述各步骤形成于基板上。此外，可以通过在基板上的其他位置处重复所有步骤而在整个基板上形成微细结构体。特别地，在半导体器件和MEMS等的生产中，在一些情况下通过对于已加工过的基板使用光纳米压印技术来进一步进行微细加工。在该情况下，必要的是模具的位置与已形成于基板上的图案精确对准。在该情况下进行的步骤称为对准步骤，并且在模具接触步骤与光照射步骤之间进行。此外，在光纳米压印技术中，从配置步骤到脱模步骤的一系列步骤(一轮(shot))在大多数情况下在同一基板上进行多次。引文列表专利文献PTL1：日本专利申请特开No.2010-073811
技术实现思路
专利技术要解决的问题同时，在光照射步骤中，一部分照射光被基板吸收，因而在基板中产生热(曝光热)。在产生曝光热的区域中，由曝光热引起的基板的热应变局部地发生。此外，由曝光热引起的基板的热应变延伸到与曝光区域相邻的部分以及曝光区域。因此，显现出以下问题：对准精度在相邻区域的一轮中低。作为在减少曝光热的同时提高对准精度的方法，考虑到包括减少照射用曝光量的方法。然而，另一个问题也同时显现出：当使用包括减少曝光量的方法时，光固化性组合物未充分地固化(固化不良)，结果是在脱模步骤中图案倾斜。已完成本专利技术来解决上述问题，并且本专利技术的目的是提供在光纳米压印方法中具有高对准精度且具有较少的图案倾斜缺陷的膜的生产方法。用于解决问题的方案根据本专利技术一方面的膜的生产方法包括：将光固化性组合物配置在基板上的配置步骤；使所述光固化性组合物和模具彼此接触的模具接触步骤；用光照射所述光固化性组合物从而形成固化产物的光照射步骤；和使所述固化产物和所述模具彼此脱离的脱模步骤，其中所述方法进一步包括在所述光照射步骤之前将所述模具与所述基板彼此对准的对准步骤，其中所述光固化性组合物至少包含聚合性化合物作为组分(A)和光聚合引发剂作为组分(B)，并且其中当所述聚合性化合物在0.12mW/cm2的照度和11.0秒的曝光时间的条件下曝光时，所述聚合性化合物具有50％以上的聚合转化率。根据本专利技术的另一方面，可以提供在光纳米压印方法中具有高对准精度且具有较少的图案倾斜缺陷的膜的生产方法。参考附图，从下述示例性实施方案的描述中本专利技术的进一步特征将变得显而易见。附图说明图1是具有光照射机构的衰减全反射红外光谱测量装置的示意图。图2A、2B、2C、2D、2E、2F和2G是示出本专利技术的膜的生产方法中包括的各步骤的示意性截面图。图3是示出本专利技术的膜的生产方法中包括的各步骤的流程的流程图。具体实施方式以下参考附图详细地描述本专利技术的实施方案。然而，本专利技术不局限于下述的实施方案。换言之，本专利技术涵盖通过例如，基于本领域熟练技术人员的公知常识在此类改变或改良不偏离本专利技术的主旨的程度下适当地改变或改良下述的实施方案而得到的实施方案。本专利技术的膜的生产方法包括以下步骤[1]至[5]：[1]将光固化性组合物配置在基板(被加工基板)上的步骤(配置步骤)；[2]使光固化性组合物和模具彼此接触的步骤(模具接触步骤)；[3]将模具与基板彼此对准的步骤(对准步骤)；[4]用光照射光固化性组合物从而形成固化产物的步骤(光照射步骤)；和[5]在光照射步骤之后使固化产物和模具彼此脱离的步骤(脱模步骤)。本专利技术中，光固化性组合物至少包含聚合性化合物作为组分(A)和光聚合引发剂作为组分(B)。此外，本专利技术中，当聚合性化合物在0.12mW/cm2的照度和11.0秒的曝光时间的条件下曝光时具有50％以上的聚合转化率。[光固化性组合物]首先，描述光固化性组合物。将要用于本专利技术中的光固化性组合物是含有以下组分(A)和组分(B)的光固化性组合物。(A)聚合性化合物(B)光聚合引发剂下文中详细地描述各组分。<组分(A)：聚合性化合物>组分(A)是聚合性化合物。在本实施方案和本专利技术中使用的聚合性化合物是与由光聚合引发剂(组分(B))产生的聚合因子(自由基等)反应从而通过链反应(聚合反应)形成由高分子化合物制成的膜的化合物。作为上述聚合性化合物，例如，给出自由基聚合性化合物。作为组分(A)的聚合性化合物可以由一种聚合性化合物或多种聚合性化合物形成。这里，优选的是自由基聚合性化合物是具有一个以上的丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物。即，本专利技术中，光固化性组合物的组分(A)(聚合性化合物)优选包括(甲基)丙烯酸系化合物。本专利技术中，更优选地，90wt％以上的组分(A)是(甲基)丙烯酸系化合物。具有一个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的单官能(甲基)丙烯酸系化合物的实例包括，但不限于，(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基-2-甲基乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-苯氧基-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸4-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-(2-联苯基)-2-羟基丙酯、EO改性的(甲基)丙烯酸对枯基苯酯、(甲基)丙烯酸2-溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2,4-二溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2,4,6-三溴苯氧基乙酯、EO改性的(甲基)丙烯酸苯氧酯、PO改性的(甲基)丙烯酸苯氧酯、聚氧乙烯壬基苯基醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸1-金刚烷酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金刚烷酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金刚烷酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸三环癸酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸4-丁基环己酯、丙烯酰吗啉、(甲基)丙烯酸2-羟本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种膜的生产方法，其包括：将光固化性组合物配置在基板上的配置步骤；使所述光固化性组合物和模具彼此接触的模具接触步骤；用光照射所述光固化性组合物从而形成固化产物的光照射步骤；和使所述固化产物和所述模具彼此脱离的脱模步骤，其中所述方法进一步包括在所述光照射步骤之前将所述模具与所述基板彼此对准的对准步骤，其特征在于，所述光固化性组合物至少包含作为组分A的聚合性化合物和作为组分B的光聚合引发剂，并且其中当所述聚合性化合物在0.12mW/cm2的照度和11.0秒的曝光时间的条件下曝光时，所述聚合性化合物具有50％以上的聚合转化率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.09.18 JP 2013-192965;2014.02.26 JP 2014-035121.一种膜的生产方法，其包括：
将光固化性组合物配置在基板上的配置步骤；
使所述光固化性组合物和模具彼此接触的模具接触步骤；
用光照射所述光固化性组合物从而形成固化产物的光照射步骤；和
使所述固化产物和所述模具彼此脱离的脱模步骤，
其中所述方法进一步包括在所述光照射步骤之前将所述模具与所述基板彼此对准的
对准步骤，
其特征在于，所述光固化性组合物至少包含作为组分A的聚合性化合物和作为组分B的
光聚合引发剂，并且
其中当所述聚合性化合物在0.12mW/cm2的照度和11.0秒的曝光时间的条件下曝光时，
所述聚合性化合物具有50％以上的聚合转化率。
2.根据权利要求1所述的膜的生产方法，其在所述模具接触步骤与所述光照射步骤之
间包括所述对准步骤。
3.根据权利要求1或2所述的膜的生产方法，其中在所述光照射步骤中，所述光固化性
组合物的曝光量是30mJ/cm2以下。
4.根据权利要求2所述的膜的生产方法，其中当将所述配置步骤、所述模具接触步骤、
所述对准步骤、所述光照射步骤和所述脱模步骤定义为一轮时，从在一轮中的脱模步骤到
下一轮中的对准步骤所需的时间是1.2秒以下。
5.根据权利要求1-4任一项所述的膜的生产方法，其中所述光固化性组合物包含作为
所述组分A的(甲基)丙烯酸系化合物。
6.根据权利要求1-5任一项所述的膜的生产方法，其中所述光固化性组合物中包含的
所述组分A包括90wt％以上的(甲基)丙烯酸系化合物。
7.根据权利要求1-6任一项所述的膜的生产方法，其中所述组分A包括至少任意的丙烯
酸异冰片酯、丙烯酸苄酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二羟甲基三环癸
烷二丙烯酸酯、苯基乙二醇二丙烯酸酯、间苯二亚甲基二丙烯酸酯和丙烯酸2-萘基甲酯。
8.根据权利要求1-7任一项所述的膜的生产方法，其中所述光固化性组合物包含作为
所述组分B的芳族酮衍生物和氧化膦衍生物的之一。
9.根据权利要求1-8任一项所述的膜的生...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤俊树，本间猛，米泽诗织，川崎阳司，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP