压印材料制造技术

本发明专利技术提供新的压印材料以及由该材料制作的转印有图案的膜。作为解决本发明专利技术课题的方法为一种压印材料，其含有下述(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分。(A)：下述式(1)、式(2)或式(3)所示的化合物(式中，X表示碳原子数1～5的直链亚烷基，R1表示氢原子或甲基，R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、甲基或乙基，R2、R3和R4的碳原子数的和为0～2。)(B)：具有下述式(4)所示的重复单元，且具有2个以上式中Y所示的聚合性基团的倍半硅氧烷化合物(C)：具有下述式(5)所示的重复单元，且末端具有2个聚合性基团的有机硅化合物(式中，R6和R7各自独立地表示碳原子数1～3的烷基，R5表示碳原子数1～3的亚烷基，k表示0～3的整数。)(D)：光聚合引发剂。

Impression material

The present invention provides a new impression material and a film with a pattern which is made of the material. The method for solving the subject of the invention is an imprint material containing the following (A) component, (B) component, (C) component and (D) component. (A): the following formula (1), (2) or (3) a compound shown in the formula, X (the number of carbon atoms 1 ~ 5 straight chain alkylene, R1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R2, R3 and R4 independently represent a hydrogen atom, methyl or ethyl. R2, R3 and R4 of the number of carbon atoms and 0 ~ 2. ) (B) with the following formula: (4) a repeating unit, and having a polymerizable group silsesquioxane compound more than 2 in the formula shown in the Y (C) with the following formula: (5) a repeating unit, and end with 2 polymerizable group (organosilicon compounds in the formula, R6 and R7 independently represent the number of carbon atoms of 1 ~ 3 alkyl, R5 said the number of carbon atoms of 1 ~ 3 alkylene, K represents an integer of 0 to 3. (D): photopolymerization initiator.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及压印材料(压印用膜形成用组合物)和由该材料制作且转印有图案的膜。更详细地说涉及能够在固化后脱模时将上述转印有图案的膜从模具容易地剥离，并且形成对超过200℃的温度的加热工序具备耐热性的固化膜的压印材料，以及由该材料制作且转印有图案的膜。
技术介绍
1995年，现普林斯顿大学的チョウ教授等提倡纳米压印光刻这样的新的技术(专利文献1)。纳米压印光刻为使具有任意图案的模具与形成有树脂膜的基材接触，对该树脂膜加压，并且使用热或光作为外部刺激，在被固化了的该树脂膜上形成目标图案的技术，该纳米压印光刻与以往的半导体器件制造中的光刻等相比，具有能够简便、廉价地进行纳米规模的加工这样的优点。因此，纳米压印光刻为代替光刻技术而期待适用于半导体器件、光学器件、显示器、存储介质、生物芯片等的制造的技术，因此对于纳米压印光刻所用的光纳米压印光刻用固化性组合物有各种报告(专利文献2、专利文献3)。进一步，专利文献4中公开了包含具有有机硅骨架的化合物和光聚合引发剂的光压印材料；专利文献5中公开了包含具有倍半硅氧烷骨架的化合物及聚合引发剂的、用于通过压印法形成微细图案的转印材料用固化性树脂组合物。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种压印材料，其含有下述(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分，基于所述(A)成分、(B)成分和(C)成分的合计100质量份，所述(A)成分的含量为35质量份～90质量份，所述(B)成分的含量为5质量份～60质量份，所述(C)成分的含量为5质量份～30质量份，所述(D)成分的含量为0.1phr～30phr，(A)：下述式(1)、式(2)或式(3)所示的化合物，式中，X表示碳原子数1～5的直链亚烷基，R1表示氢原子或甲基，R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、甲基或乙基，R2、R3和R4的碳原子数的和为0～2的整数，(B)：具有下述式(4)所示的重复单元，且具有2个以上式中Y所示的聚合性...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.21 JP 2014-1684251.一种压印材料，其含有下述(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分，基于所述(A)成分、(B)成分和(C)成分的合计100质量份，所述(A)成分的含量为35质量份～90质量份，所述(B)成分的含量为5质量份～60质量份，所述(C)成分的含量为5质量份～30质量份，所述(D)成分的含量为0.1phr～30phr，(A)：下述式(1)、式(2)或式(3)所示的化合物，式中，X表示碳原子数1～5的直链亚烷基，R1表示氢原子或甲基，R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、甲基或乙基，R2、R3和R4的碳原子数的和为0～2的整数，(B)：具有下述式(4)所示的重复单元，且具有2个以上式中Y所示的聚合性基团的倍半硅氧烷化合物，(C)：具有下述式(5)所示的重复单元，且末端具有2个聚合性基团的有机硅化合物，式中，R6和R7各自独立地表示碳原子数1～3的烷基，R5表示碳原子数1～3的亚烷基，k表示0～3的整数，(D)：光聚合引发剂。2.根据权利要求1所述的压印材料，所述(B)成分包含完全笼型结构和/或不完全笼型结构、...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林淳平，加藤拓，首藤圭介，铃木正睦，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP