3-氨基哌啶及其光学异构体的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种3-氨基哌啶及其光学异构体的制备方法，包括步骤：式(I)化合物和R2NH2反应得到式(II)或式(III)化合物；式(II)化合物在金属催化剂作用下脱胺基保护基，得到式(III)或式(IV)化合物；式(III)化合物脱伯胺保护基，得到式(IV)化合物或相应的盐。该方法的起始原料价格便宜，简单易得，各步反应收率高，副产物少，且反应条件温和，只要改变起始原料中碳原子的旋光性，就可以同样的方法得到消旋或单一异构体的3-氨基哌啶，且所得光学异构体可以达到较高的光学纯度。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
3?氨基哌啶及其光学异构体的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)式(I)化合物和R2NH2反应：当R2为烯丙基或至少有一个取代基的苄基时，式(I)化合物和R2NH2以1∶3～1∶10的摩尔比在20℃～溶剂回流温度下反应1～8小时，得到式(II)化合物；转到步骤2)；当R2为羟基或苄氧基时，式(I)化合物和R2NH2在碱存在的条件下以1∶1～1∶10的摩尔比在20℃～溶剂回流温度下反应1～24小时，得到式(II)化合物；转到步骤2)；当R2为氢时，式(I)化合物和R2NH2以1∶1～1∶30的摩尔比在20℃～溶剂回流温度下反应1～24小时，得到式(III)化合物；转到步骤3)；2)将式(II)化合物加入到溶剂中，在钯碳作用下反应，脱除R2基团：当R2为烯丙基时，式(II)化合物和钯碳的质量比为1∶0.02～1∶2，反应温度为20℃～溶剂回流温度，反应时间为1～12小时；转到步骤3)；当R2为羟基、苄氧基或至少有一个取代基的苄基时，式(II)化合物和钯碳的质量比为1∶0.02～1∶2，反应温度为10℃～溶剂回流温度，反应时间为1～48小时；若R1为苄氧羰基，则本步反应结束后，得到式(IV)化合物；若R1为除苄氧羰基外的其他取代基，则本步反应得到式(III)化合物，并在本步反应结束后继续进行步骤3)的反应；3)式(III)化合物脱除R1基团：当R1为苄氧羰基时，将式(III)化合物溶于溶剂中，在钯碳作用下，按照步骤2)中R2为非烯丙基时的催化脱保护基反应的条件，脱除R1基团，得到式(IV)化合物；当R1为除苄氧羰基外的其他取代基时，将式(III)化合物溶于溶剂中，按照式(III)化合物与酸的摩尔比1∶4～1∶30的比例，将式(III)化合物加入到酸溶液中，在0℃～100℃下反应1～12小时，脱除R1基团，得到式(IV)化合物或相应的盐；上述各化学式中，标记*的碳原子为R?构型、S?构型或消旋体；R1为乙氧羰基、甲氧羰基、叔丁氧羰基、苄氧羰基、乙酰基或苯甲酰基；R2为氢、烯丙基、羟基、苄氧基或至少有一个取代基的苄基；R为芳基磺酸酯基、烷基磺酸酯基、氯原子、溴原子或碘原子。FDA0000157521360000011.tif...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵传生，吕辉，陆成樑，刘文中，张锐，
申请(专利权)人：上海阳帆医药科技有限公司，
类型：发明
国别省市：