离子源、重粒子线照射装置及方法、离子源的驱动方法制造方法及图纸

技术编号:9174503 阅读:144 留言:0更新日期:2013-09-19 23:43
本发明专利技术涉及能够在使用激光的离子源中始终监视真空容器内的离子中的与目标离子不同的非目标离子的离子源、重粒子线照射装置、离子源的驱动方法以及重粒子线照射方法。激光烧蚀等离子体产生装置(27)使得从真空容器(1)内的包含有元素的靶(2)产生激光烧蚀等离子体(4)。离子束引出部(18)通过将激光烧蚀等离子体(4)中包含的离子从真空容器(1)内引出来生成离子束(5)。离子检测器(9)检测真空容器(1)内的离子中的与元素被离子化后的目标离子不同的非目标离子,作为检测结果而输出检测信号(14),该检测信号(14)表示非目标离子的数量,或者表示作为非目标离子相对于目标离子的混合比的值。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种离子源,其特征在于,具备:激光烧蚀等离子体产生装置,使得从真空容器内的靶产生激光烧蚀等离子体;离子束引出部,将所述激光烧蚀等离子体中包含的离子从所述真空容器内引出而生成离子束;以及离子检测器,检测所述真空容器内的所述离子中的、与构成所述靶的元素被离子化后的目标离子不同的非目标离子,作为检测结果输出检测信号,该检测信号表示所述非目标离子的数量,或者表示作为所述非目标离子相对于所述目标离子的混合比的值。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:角谷晶子桥本清佐藤洁和吉行健来栖努
申请(专利权)人:株式会社东芝
类型:发明
国别省市:

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