物理气相沉积的反应室腔体零件的清洁方法技术

一种物理气相沉积的反应室腔体零件的清洁方法。该方法包括下列步骤：清洗该反应室腔体零件；对该反应室腔体零件进行涂膜以形成一中介层；以及当所述中介层表面累积一特定厚度的金属镀膜发生破裂或剥落后，去除所述中介层。通过本发明专利技术能增加该反应室腔体零件的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种物理气相沉积的反应室腔体零件的清洁方法，其特征在于，包括：清洗所述反应室腔体零件；对所述反应室腔体零件进行涂膜以形成一中介层；以及当所述中介层表面累积的金属镀膜发生破裂或剥落后，去除所述中介层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苏金种，刘芳钰，朴炳俊，
申请(专利权)人：金文焕，
类型：发明
国别省市：