【技术实现步骤摘要】
本技术涉及液晶显示器的生产设备，尤其涉及清洁装置。
技术介绍
给基板镀膜的工序在液晶显示器制造中是很重要的一道工序。通常会使用镀膜设备给基板镀膜，该镀膜设备包括密闭的镀膜腔体，基板置于该镀膜腔体内。对基板进行镀膜的过程中薄膜除了会附着在基板表面上外，还会附着在镀膜腔体内壁表面，随着薄膜厚度的不断增大，镀膜腔体内壁表面的附着力会降低，从而使薄膜脱落，脱落的薄膜如果落到基板上，会导致基板出现质量问题，所以必须使用清洁装置定期对镀膜腔体进行清洁，以去除薄膜。现有的清洁装置如图1所示，通常包括进气管11，等离子源单元12，输气管13及泵体15，进气管11气密性连接等离子源单元12，等离子源单元12又通过输气管13气密性连接镀膜腔体14，镀膜腔体14气密性连接泵体15。使用该清洗装置对镀膜腔体14内壁表面沉积的薄膜进行清洁时，清洗气体通过进气管11流入等离子源单元12，与等离子源单元12中的物质反应产生氟离子后，氟离子流经输气管13进入镀膜腔体14，与镀膜腔体14内壁表面沉积的薄膜发生反应生成气体，最终该气体会被与镀膜腔体14连接的泵体15泵出。现有的镀膜设备通常包括多个...
【技术保护点】
一种清洁装置，其特征在于，包括一进气管，一输气管，一等离子源单元，至少一个镀膜腔体以及与所述镀膜腔体对应的至少一个泵体；所述进气管气密性连接所述等离子源单元；所述输气管的一端气密性连接所述等离子源单元；每一个所述镀膜腔体与所述输气管的另一端气密性连接，且每一个所述镀膜腔体气密性连接一个所述泵体。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：罗阳，贺雄，韩乔楠，孟健，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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