包括能原位缩合的化合物和遮挡UV辐射的试剂的化妆处理方法。本发明专利技术涉及皮肤的化妆处理的方法，其包括将以下施加至皮肤：一种化合物或一组化合物A，其能够原位缩合并且显示出至少一种反应性官能团FA，其在缩合后是游离的；和遮挡UV辐射的遮蔽剂C，其包括能通过与官能团FA反应形成共价键或物理(离子，氢)键的反应性官能团FC。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：H萨迈因，G卡辛，D坎道，A罗多特，F拉洛雷特，
申请(专利权)人：莱雅公司，
类型：
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。