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包括能原位缩合的化合物和遮挡UV辐射的试剂的化妆处理方法。本发明涉及皮肤的化妆处理的方法，其包括将以下施加至皮肤：一种化合物或一组化合物A，其能够原位缩合并且显示出至少一种反应性官能团FA，其在缩合后是游离的；和遮挡UV辐射的遮蔽剂C，其包...
该专利属于莱雅公司所有，仅供学习研究参考，未经过莱雅公司授权不得商用。

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