【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及产生和使用带电粒子的多个小波束(beamlet)的带电粒子系统。本专利技术尤其涉及一种带电粒子检查系统,诸如显微镜系统,以及涉及带电粒子修改(modification)系统,例如电子光刻或选择性材料沉积/去除系统。本专利技术可应用于任何类型的带电粒子,例如电子、离子(带电原子或分子)、正电子、U介子等。
技术介绍
对更小和更复杂的微结构化器件的日益增加的需求,以及对增加它的制造和检查过程的吞吐量的需求已经称为粒子光学系统的发展的动机,所述粒子光学系统使用多个带电粒子小波束来取代单个带电粒子束,因此明显改善这种系统的吞吐量。多个带电粒子小波束可由例如使用多孔径阵列的单个柱(CoIumn),或由多个单独的柱,或二者的组合来提供,如下文将更详细说明的。多小波束的使用关系到对粒子光学组件、布置和系统(例如显微镜、光刻系统和掩模修复系 统)的全范围的新挑战。从US6,252,412B1可知传统的多带电粒子多小波束系统。那里公开的电子显微镜设备用于检查物体,例如半导体晶片。多个一次电子束彼此并行地聚焦在物体上,以在物体上形成多个一次电子束斑点(spot)。检测 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:D蔡德勒,T凯曼,P安格,A卡萨里斯,C里德赛尔,
申请(专利权)人:以色列实用材料有限公司,卡尔蔡司SMT有限责任公司,
类型:
国别省市:
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