真空排气装置和真空处理装置以及真空排气方法制造方法及图纸

本发明专利技术在第一真空泵（53）产生问题的情况下，通过由控制构件（66）对分隔阀（58）、开闭阀（59）、第一入口开闭阀（61）以及第二入口开闭阀（62）进行开闭控制，由第二真空泵（55a）维持第一真空处理室（51）的真空状态，且由第二真空泵（55b）维持第二真空处理室（52）的真空状态。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使处理室成为真空状态进行排气的真空排气装置以及真空排气方法。另外，本专利技术涉及连接了真空排气装置的真空处理装置。
技术介绍
在制造以液晶显示器为代表的平板显示器的过程中，在真空氛围的基板处理室(处理室)中，对玻璃基板实施配线用金属膜的成膜处理等规定的处理。基板处理装置具备切换为大气状态和真空状态并运送玻璃基板的加载锁定室(处理室)、多个处理室，加载锁定室以及多个处理室由真空泵排气，产生真空环境(例如，参见专利文献I)。伴随着半导体的制造工艺流程的复合化，在使多个处理室独立的状态下，对处理室进行真空排气的真空处理装置逐渐占据设备的主流。为此，为了在每个处理室得到所希望的真空状态，例如，逐渐使用下述的真空排气装置:对于加载锁定室并列连接多台真空泵，由多台真空泵进行真空排气，且在多个处理室上分别具备真空排气构件(例如，涡轮分子泵)，在各自的真空排气构件上连接辅助的真空泵，进行真空排气。在上述的真空处理装置中，例如，在相对于设置在多个处理室的真空排气构件分别连接的辅助的真空泵产生问题的情况下，存在难以对多个处理室进行排气，给处理装置中的制造工艺流程造成障碍的可能性。另外，在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：桥本建治，山本昌弘，井上俊哉，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：
国别省市：