【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于沉积外延材料层的外延沉积设备，其包括腔体，设置在所述腔体底部的衬底支承座和设置在所述腔体顶部的喷淋头，所述喷淋头与所述衬底支承座相对设置，并限定位于所述喷淋头与所述衬底支承座之间的反应区域，其特征在于：所述喷淋头面向所述反应区域的出气面具有一涂层，所述涂层使得外延层材料在所述表面沉积生长。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：梁秉文，
申请(专利权)人：光达光电设备科技嘉兴有限公司，
类型：发明
国别省市：
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