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本发明涉及一种用于沉积外延材料层的外延沉积设备，用于所述外延沉积设备的喷淋头和制造所述喷淋头的方法。所述于沉积外延材料层的外延沉积设备包括腔体，设置在所述腔体底部的衬底支承座和设置在所述腔体顶部的喷淋头，所述喷淋头与所述衬底支承座相对设置，...
该专利属于光达光电设备科技（嘉兴）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光达光电设备科技（嘉兴）有限公司授权不得商用。

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