纳米铜立方体颗粒的制备方法技术

纳米铜立方体颗粒的制备方法，包括：提供金属基底作为阴极并提供紫铜片作为阳极；配制电镀液，所述电镀液中Cu2+含量为0.02～0.10mol/L、有机弱酸含量为0.2～0.4mol/L、表面活性剂含量为电镀液总质量的1%～4%，电镀液pH值为5.0～7.5；以及利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极，采用电沉积法在所述金属基底上制备纳米铜立方体颗粒。根据本发明专利技术方法所制备的纳米铜立方体纯度高、形状规则、颗粒大小均匀并且抗氧化性优良。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种，属于纳米功能材料的制备

技术介绍
铜纳米颗粒因其特异的物理化学性质，在润滑油添加剤、导电涂料、高效催化剂、电极材料等领域有广阔的应用前景。目前，铜纳米颗粒常用的制备方法有液相还原法、气相沉积法、溶胶-凝胶法、电化学方法等。其中液相还原法制备的纳米粒子具有表面活性高、颗粒形状和粒度易控制等优点，是制备金属纳米颗粒的重要途径。Guangjun Zhou等(Guangjun Zhou, MengkaiLu, Zhongsen Yang.Langmuir.2006, 22, 5900-5903)以水合餅为还原剂，十二烧基苯横酸钠作为表面活性剤，通过液相还原法制备了分散 性好、粒度均匀、边长尺寸为50±6nm的铜立方体。文谨等(一种纳米铜颗粒的制备方法，中国专利技术专利，CN102198513A,2011.09.28)采用液相两步还原法，以葡萄糖和亚磷酸钠分别作为两步反应过程中的还原剂，在温度范围为50 80°C下，反应30 120分钟制备了具有良好抗氧化的球状纳米铜颗粒，但该方法制备的颗粒易团聚、均匀性较差，且制备过程较繁琐。于三三等(一种纳米金属铜粉体的制备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米铜立方体颗粒的制备方法，包括：提供金属基底作为阴极并提供紫铜片作为阳极；配制电镀液，所述电镀液中Cu2+含量为0.02～0.10mol/L、有机弱酸含量为0.2～0.4mol/L、表面活性剂含量为电镀液总质量的1%～4%，电镀液pH值为5.0～7.5；以及利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极，采用电沉积法在所述金属基底上制备纳米铜立方体颗粒。

【技术特征摘要】
1.一种纳米铜立方体颗粒的制备方法，包括: 提供金属基底作为阴极并提供紫铜片作为阳极； 配制电镀液，所述电镀液中Cu2+含量为0.02 0.lOmol/L、有机弱酸含量为0.2 .0.4mol/L、表面活性剂含量为电镀液总质量的1% 4%，电镀液pH值为5.0 7.5 ;以及 利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极，采用电沉积法在所述金属基底上制备纳米铜立方体颗粒。2.权利要求1的方法，其中所述金属基底为紫铜片、铜锌合金片或钛片。3.权利要求1的方法， 其中所述金属基底在作为阴极之前和/或所述紫铜片在作为阳极之前经过相应的前处理。4.权利要求3的方法，其中所述前处理依次包括打磨、去离子水洗、碱洗、去离子水洗、酸洗和去离子水洗。5.权利要求4的方法，其中碱洗条件为:洗涤溶液0.5 ImoVLNa2CO3 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：黎学明，罗彬彬，李先丽，李晓林，李武林，
申请(专利权)人：重庆大学，
类型：发明
国别省市：