【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及材料制备
，具体来说是涉及。
技术介绍
氧化铌由于其独特的物理和化学性质而被广泛地应用于现代技术的许多领域。利用其较强的紫外吸收能力，可用作紫外敏感材料的保护膜；利用其薄膜折射率较高的特性，与SiO2等配合可制备具有不同折射率的薄膜。由于氧化铌具有以上的特点而被用于光学薄膜干涉滤波器和气体传感器等；通过磁控溅射法制备等离子显示器彩色滤光膜，用来提高等离子显示器的亮度和可视角度，是等离子显示器重要的镀膜材料之一。制备氧化铌薄膜的方法还有电子束蒸发、离子束反应溅射法、溶胶凝胶法和磁控溅射法等。不同的沉积方法和制备过程参数对制备薄膜的结构形貌和光学质量等有很大的影响。旋转靶材相对于平面靶材具有很多的优点，I)利用率高(70%以上)，甚至可以达到90%;2)溅射速度快，为平面靶的2-3倍；3)有效地减少打弧和表面掉渣，工艺稳定性好坐寸ο对于旋转镀膜靶材，要求旋转靶`材为单根整体，或分段焊接在同一衬管上。以目前技术条件，旋转靶材的制备方法主要包括热等静压法、热压烧结法和浇铸法，以上工艺各有优缺点，但是对不同尺寸的灵活控制难以满足，尤其是热压烧结法只能生...
【技术保护点】
一种氧化铌旋转靶材，其特征在于该氧化铌旋转靶材成分为Nb2O4.3?4.9，密度为4.6—5.2g/cm3，厚度可达到12mm。
【技术特征摘要】
1.一种氧化铌旋转靶材，其特征在于该氧化铌旋转靶材成分为Nb204.3_4.9，密度为4. 6—5.2g/cm3,厚度可达到12mm。2.一种如权利要求1所述的氧化铌旋转靶材的制备方法，其特征在于采用等离子喷涂法，其工艺包括氧化铌喷涂粉的制备，喷涂基体的处理，喷涂打底层，用等离子喷涂工艺在基体管上喷涂氧化铌喷涂粉。3.按照权利要求2所述的氧化铌旋转靶材的制备方法，其特征在于上述氧化铌喷涂粉的制备工艺为在氧化铌粉中掺入其重量的2-10%的铌粉，经机械混合后在1100-1350°C温度下真空烧结6 —10小时团聚长大，然后经球磨、过筛得到150-300目的喷涂粉。4.按照权利要求3所述的氧化铌旋转靶材的制备方法，其特征在于上述氧化铌粉的纯度不低于99. 95wt%，粒径在l-5Mm。5.按照权利要求2所述的氧化铌旋转靶材的制备方法，其特征在于所述喷涂基体的处理包括清洗、打磨去除基体表面污垢和氧化层，然后采用喷砂粗化基体表面。6.按照权利要求2所述的氧化铌旋转靶材的制备方法，其特征在于所述打底层是指在基体表面喷涂厚O. 05-0. 3mm的合金涂层。7.按照权利要求6所述的氧化铌旋转靶材的制备方法，其特征在于所述合金涂层为采用等离子喷涂法喷涂镍包铝、镍铬、镍铬铝、镍钴铬铝钇粉末、或采用电弧法喷涂铝青铜或镍铝合金丝。8.按照权利要求2所述的氧化铌旋转靶材的制备方法，其特征在于上述用等离子喷涂工艺在基体管上喷涂氧化铌喷涂粉过程中，控制基体管以30— 80r/min的转速绕中心轴旋转，喷枪与基体管保持120— 200mm的距离并沿基体管方向以300— 800mm/min的速度往复来回匀速移动。9...
【专利技术属性】
技术研发人员：扈百直，胥小勇，刘孝宁，张红梅，赵清慧，马文卫，马建保，杨小林，胡海霞，
申请(专利权)人：西北稀有金属材料研究院，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。