一种防泄露液态源扩散炉制造技术

一种涉及扩散炉领域的防泄露液态源扩散炉，所述的扩散炉包含扩散炉本体，扩散炉本体中的运载N2气路、O2气路以及吹扫N2气路均安装有对应的流量计和隔膜阀；运载N2气路中位于N2隔膜阀与源瓶进气阀之间设有源瓶压力传感器；扩散炉本体内的反应炉设置有温度传感器，反应炉的炉门设有炉门传感器，反应炉的尾气排放管路中设有尾气管压力传感器；所述的N2流量计、O2流量计、N2隔膜阀、源瓶压力传感器、尾气管压力传感器以及温度传感器均连接至相应的控制装置；应用所述的扩散炉能够及时有效的避免源瓶在掺杂过程中发生泄露，从而保障了掺杂过程的操作安全。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种防泄露液态源扩散炉
本技术涉及扩散炉领域，尤其是涉及一种能够防止炉内气体泄露的液态源扩散炉。
技术介绍
公知的，在半导体器件及太阳能电池片生产过程中，扩散工序就是对P型或N型衬底进行掺杂以形成PN结，目前最主要也最普遍使用的掺杂设备就是以P0Cl3、BBr3和C3H9O3B等作为液态杂质源进行掺杂的液态源扩散炉；在实际操作时，为了在掺杂过程中保证液态杂质源的温度恒定，一般均采用将盛放液态杂质源的石英源瓶放置于恒温装置内进行掺杂操作，然而，由于目前的干式恒温装置价格十分昂贵，因此，一般在掺杂操作时对源瓶都是采用水浴恒温；但是，由于POCl3属无色透明有刺激性气味的毒性液体，其遇水会产生剧烈反应生成HC1，且其在掺杂的过程中还会生成有毒的Cl2、PCl5, HPO3和P2O5，同时，BBr3和C3H9BO3及在掺杂时的化学反应中生成的Br2和B2O3也有毒性，再加上BBr3遇水及受热后分解释放出的有毒气体HBr还可能会引起爆炸，故鉴于这些液态杂质源本身的危险性，及其一旦泄露就极易与源瓶外用于恒温的水份发生危险的化学反应，因此，如何在掺杂过程中避免液态杂质源发生泄露及保证操作安本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防泄露液态源扩散炉，所述的扩散炉包含扩散炉本体，其特征是：所述的扩散炉本体中的运载N2气路(1)、O2气路(2)以及吹扫N2气路(3)均安装有对应的流量计和隔膜阀；所述的运载N2气路(1)中位于N2流量计(4)和源瓶进气阀(5)之间的管路设有N2隔膜阀(6)，且位于N2隔膜阀(6)与源瓶进气阀(5)之间设有源瓶压力传感器(7)；所述的O2气路(2)设有O2流量计(8)和O2隔膜阀(9)；所述的扩散炉本体内的反应炉(10)设置有温度传感器(11)，反应炉(10)的炉门设有炉门传感器(12)，反应炉(10)的尾气排放管路(13)中设有尾气管压力传感器(14)；所述的N2流量计(4)、O2流量计...

【技术特征摘要】
1.一种防泄露液态源扩散炉，所述的扩散炉包含扩散炉本体，其特征是所述的扩散炉本体中的运载N2气路(1)、02气路⑵以及吹扫N2气路(3)均安装有对应的流量计和隔膜阀；所述的运载N2气路(I)中位于N2流量计(4)和源瓶进气阀(5)之间的管路设有N2隔膜阀(6)，且位于N2隔膜阀(6)与源瓶进气阀(5)之间设有源瓶压力传感器(7);所述的O2气路(2)设有O2流量计(8)和O2隔膜阀(9);所述的扩散炉本体内的反应炉(10)设置有温度传感器(11)，反应炉(10)的炉门设有炉门传感器(12)，反应炉(10)的尾气排放管路(13)中设有尾气管压力传感器(14);所述的N2流量计(4)、O2流量计⑶、N2隔膜阀(6)、源瓶压力传感器(7)、尾气管压力传感器(14)以及温度传感器(11)均连接至相应的控制装置(15)。2.根据权利要求1所述的防泄露液态源扩散炉，其特征是所述的O2流量计(8)的流量波动范围为±15%。3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍得生，张磊，彭贵峰，樊是昱，
申请(专利权)人：上海超日洛阳太阳能有限公司，
类型：实用新型
国别省市：