一种储液罐加液装置制造方法及图纸

一种涉及半导体生产领域的储液罐加液装置，所述的装置包含储液罐、液位传感器、控制器及相关管路；所述的储液罐的顶端设有辅助管路，储液罐罐壁的一侧上部设有排气管路，储液罐的底端设有供液管路和加液管路；所述的供液管路与加液管路各自靠近储液罐的一端端部均设有隔膜阀，且隔膜阀均与设在储液罐外部的控制器连接；所述的液位传感器设置在储液罐的顶端中部，且与控制器连接；所述的装置能够稳定可靠的对清洗槽进行精准的补液，从而确保了清洗槽内的清洗液得到精准的补充，进而有效的保障了清洗的效果。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种储液罐加液装置
本技术涉及半导体生产领域，尤其是涉及一种在半导体生产过程中的清洗工序中应用的储液罐的加液装置。
技术介绍
公知的，在半导体的生产过程中，不但需要使用清洗设备对液显的玻璃基板进行清洗，而且在硅片的制绒、刻蚀工艺过程中也都需要应用到清洗设备，因而清洗工序是半导体生产中十分重要的工序之一；但是，由于在清洗过程中，硅片与清洗液之间会发生化学反应，进而导致清洗槽内清洗液中的相关化学成份不可避免的被消耗掉，因此，若不能及时补充清洗液就势必会直接影响到硅片的清洗效果；目前，为了保障清洗效果，基本是在清洗工序进行到一定时间时通过添加适量清洗液的方式来保持清洗液中相关化学成份的含量，而现有的加液方式是利用恒压供液原理加液，即利用恒压罐定流量的方式通过控制阀门的打开时间来控制加液量，但实施这种方式的加液装置在应用中受管路阻力、阀门开度及罐内压力波动等因素的影响较大，其除了需要定期对管路、阀门进行检查外，还需要频繁对流量进行校正，因此这种加液装置的稳定性和可靠性都相对较差；为了克服上述加液方式中存在的不足，一些厂家采用通过与浮标对应的传感器来检测液面下降的高度从而达到控制加液量的加液装置，还有一些厂家则采用通过称重方式来达到控制加液量的加液装置，这些加液装置虽然可以实现较高精度的加液控制，但是却均存在有结构复杂、部件较多及价格较贵等问题。
技术实现思路
为了克服
技术介绍
中的不足，本技术公开了一种储液罐加液装置，所述的装置能够稳定可靠的对清洗槽进行精准的补液，从而确保了清洗槽内的清洗液得到精准的补充，进而有效的保障了清洗的效果。为实现上述专利技术目的，本技术采用如下技术方案:一种储液罐加液装置，所述的装置包含储液罐、液位传感器、控制器及相关管路；所述的储液罐的顶端设有用于注入辅助气体的辅助管路，储液罐罐壁的一侧上部设有用于释放罐内压力的排气管路，储液罐的底端设有用于注入清洗液的供液管路和加液管路；所述的供液管路与加液管路各自靠近储液罐的一端端部均设有隔膜阀，且隔膜阀均与设在储液罐外部的控制器连接；所述的液位传感器设置在储液罐的顶端中部，且与控制器连接；所述的辅助管路设有与控制器连接的电磁阀。所述的储液罐加液装置，所述的储液罐罐体外部一侧设有旁通管。所述的储液罐加液装置，所述的旁通管为具备透明度的玻璃管或PFA管。所述的储液罐加液装置，所述的储液罐罐体为方柱形或圆柱形。所述的储液罐加液装置，所述的辅助管路设有低流速管和高流速管，且低流速管设有节流阀，高流速管设有电磁阀。所述的储液罐加液装置，所述的电磁阀与控制器连接。所述的储液罐加液装置，所述的排气管路设有与控制器连接的漏液传感器。所述的储液罐加液装置，所述的加液管路设有低速加液管和高速加液管，且低速加液管与高速加液管各自靠近储液罐的一端端部均设有与控制器连接的隔膜阀。所述的储液罐加液装置，所述的液位传感器为连续测量式液位传感器。所述的储液罐加液装置，所述的液位传感器为超声波液位传感器、导波雷达液位传感器、电位式液位传感器、连续浮球液位传感器或磁致伸缩液位传感器。由于采用如上所述的技术方案，本技术具有如下有益效果:本技术所述的储液罐加液装置采用定容积原理，以定容补液的方式提高了自动加液的精准度和装置的可靠性，在有效减少维护次数和流量校正次数的同时使清洗槽内的清洗液得到精准的补充，从而通过控制清洗液的液量达到了有效保障清洗效果的目的；此外，所述的装置还通过采用非接触式传感器达到了适用于强腐蚀性、浓酸或浓碱等液体的定量添加的目的。附图说明图1是本技术的示意图；图2是本技术的另一结构示意图。图中:1、储液罐；2、液位传感器；3、控制器；4、辅助管路；5、排气管路；6、供液管路；7、加液管路；8、隔膜阀；9、旁通管；10、低流速管；11、高流速管；12、节流阀；13、电磁阀；14、漏液传感器；15、低速加液管；16、高速加液管。具体实施方式通过下面的实施例可以更详细的解释本技术，公开本技术的目的旨在保护本技术范围内的一切变化和改进，本技术并不局限于下面的实施例；结合附图1 2所述的储液罐加液装置，所述的装置包含罐体为方柱形或圆柱形的储液罐1、液位传感器2、控制器3及相关管路；所述的储液罐I的顶端设有用于向储液罐I罐内注入辅助气体，如压缩空气或氮气的辅助管路4，该辅助管路4设有与控制器3连接的电磁阀13 ;在更便于操作，能够在辅助管路4中设置低流速管10和高流速管11，且在低流速管10中设置可调节的节流阀12，在高流速管11中设置电磁阀13，即在辅助管路4中设置出两条不同气流量的管道，其中，通过低流速管10不断的以低流量向储液罐I罐内注入相应气体，使罐内的压力始终保持正压，从而避免外部空气进入储液罐I罐内污染到罐内的清洗液；另一方面，通过高流速管11在需要快速加液时将大流量的气体注入至储液罐I罐内，使罐内压力增高，从而实现快速加液的目的；在储液罐I罐壁的一侧上部设有用于释放储液罐I罐内压力的排气管路5，即通过排气管路5来排出罐内的多余气体；此外，所述的排气管路5还能够在设置相应的漏液传感器14后作为安全排放管路使用，即在储液罐I罐内的液位过高时起到溢流排放的作用；在储液罐I的底端设有用于向储液罐I罐内注入清洗液的供液管路6和向清洗槽内添加清洗液的加液管路7，为便于通过设在储液罐I外部的控制器3集中控制操作，供液管路6与加液管路7各自靠近储液罐I的一端端部均设有与控制器3连接的隔膜阀8 ;为进一步优化加液效果，所述的加液管路7中能够包含一条用于精准加液的低速加液管15和一条用于快速加液的高速加液管16，且低速加液管15与高速加液管16各自靠近储液罐I的一端端部均安装有与控制器3连接的隔膜阀8 ；为便于连续测量储液罐I罐内的液位变化，将相应的信息反馈给控制器3，以通过控制器3控制相应的阀门做出相关动作，所述的装置在储液罐I的顶端中部安装有与控制器3连接的超声波液位传感器、导波雷达液位传感器、电位式液位传感器、连续浮球液位传感器或磁致伸缩液位传感器等连续测量式液位传感器2 ;为便于及时准确的观察储液罐I罐内的液面高度，能够在储液罐I罐体外部的一侧设置一具备透明度的玻璃管或PFA管做为旁通管9来观察罐内的液面高度。实施所述的储液罐加液装置进行加液操作时，只须将所述的装置固定在相应的位置，然后根据需求的加液量计算出液面下降的高度，然后再通过加液管路7进行加液，同时利用液位传感器2将储液罐I罐内的液位信息传输至控制器3，最后由控制器3控制相应的阀门做出相关动作直至完成加液操作；如采用低速加液管15与高速加液管16构成的加液管路7时，则先利用高速加液管16来达到快速加液的效果，并在即将结束加液时再换至低速加液管15来进行缓慢而精准的添加，从而在加液操作中实现快速与精准的结合。本技术未详述部分为现有技术，故本技术未对其进行详述。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种储液罐加液装置，其特征是：所述的装置包含储液罐(1)、液位传感器(2)、控制器(3)及相关管路；所述的储液罐(1)的顶端设有用于注入辅助气体的辅助管路(4)，储液罐(1)罐壁的一侧上部设有用于释放罐内压力的排气管路(5)，储液罐(1)的底端设有用于注入清洗液的供液管路(6)和加液管路(7)；所述的供液管路(6)与加液管路(7)各自靠近储液罐(1)的一端端部均设有隔膜阀(8)，且隔膜阀(8)均与设在储液罐(1)外部的控制器(3)连接；所述的液位传感器(2)设置在储液罐(1)的顶端中部，且与控制器(3)连接；所述的辅助管路(4)设有与控制器(3)连接的电磁阀(13)。

【技术特征摘要】
1.一种储液罐加液装置，其特征是:所述的装置包含储液罐(I)、液位传感器(2)、控制器(3)及相关管路；所述的储液罐(I)的顶端设有用于注入辅助气体的辅助管路(4)，储液罐(I)罐壁的一侧上部设有用于释放罐内压力的排气管路(5)，储液罐(I)的底端设有用于注入清洗液的供液管路(6)和加液管路(7);所述的供液管路(6)与加液管路(7)各自靠近储液罐(I)的一端端部均设有隔膜阀(8)，且隔膜阀(8)均与设在储液罐(I)外部的控制器(3)连接；所述的液位传感器(2)设置在储液罐(I)的顶端中部，且与控制器(3)连接；所述的辅助管路(4)设有与控制器(3)连接的电磁阀(13)。2.根据权利要求1所述的储液罐加液装置，其特征是:所述的储液罐(I)罐体外部一侧设有旁通管(9)。3.根据权利要求2所述的储液罐加液装置，其特征是:所述的旁通管(9)为具备透明度的玻璃管或PFA管。4.根据权利要求1或2所述的储液罐加液装置，其特征是:所述的储液罐(I)罐体为方柱形或圆柱形。5...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟峰，霍得生，蔺晓琳，李军峰，张磊，
申请(专利权)人：上海超日洛阳太阳能有限公司，
类型：实用新型
国别省市：