抗蚀剂膜形成用装置和方法以及模具原版制造用方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了抗蚀剂膜形成用装置和方法以及模具原版制造用方法。所述装置包括：涂布部，其被设置成在让基板旋转的同时使抗蚀剂滴落、旋转并铺开；加热部，其被设置用于加热样品，所述样品中在所述基板上涂布有所述抗蚀剂；计量部，其被设置用于测量正在被加热的所述样品的重量；以及控制部，其被设置成通过如下方式来控制多个抗蚀剂层在所述样品上的层叠：基于所测量到的所述样品的重量，执行所述加热部的加热操作直到从涂布于所述样品上的抗蚀剂中蒸发掉预定量的溶剂，由此实现在所述基板上形成抗蚀剂层的工序，并且通过对所述涂布部和所述加热部进行同样的控制，使在形成于所述样品上的抗蚀剂层上形成新的抗蚀剂层的工序重复预定的次数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及抗蚀剂膜形成用装置、抗蚀剂膜形成用方法和模具原版制造用方法， 并且具体地涉及一种技术，其通过采用光刻技术对抗蚀剂膜进行三维图形化处理，并基于所得到的图形来加工模具原版。
技术介绍
在典型的光刻步骤中，首先,通过旋转涂布机(spin coater)使基板旋转(例如， 以3000rpm的转速进行20秒)，从而将抗蚀剂均匀地涂布在基板上。接着，利用已经经过表面处理的平坦金属板(加热板)进行预烘(pre-baking),从而蒸发掉抗蚀剂层中的溶剂。 然后，让光通过掩模照射在抗蚀剂层上，在所述掩模中通过安装有数字微镜器件(digital mirror device ;DMD)等的曝光装置形成有预定图形。接着,涂布有抗蚀剂层的基板被浸入显影液中以除去抗蚀剂层上的未被曝光的部分。最后，进行后烘(post-baking),从而蒸发掉已经渗入到抗蚀剂层中的显影液。然而，在三维光刻技术中，为了增大目标物品的高度(例如，增大至100 μ m)，需要在基板上涂布厚的抗蚀剂。在此情况下，如图1中所示，在让旋转涂布机Iio旋转的同时将抗蚀剂103涂布在基板102上，并且利用加热了的平坦金属板(加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂膜形成用装置，其包括：涂布部，所述涂布部被设置成在让基板旋转的同时使抗蚀剂滴落、旋转并铺开；加热部，所述加热部被设置用于加热样品，所述样品中在所述基板上涂布有所述抗蚀剂；计量部，所述计量部被设置用于测量正在被所述加热部加热的所述样品的重量；以及控制部，所述控制部被设置成通过如下方式来控制多个抗蚀剂层在所述样品上的层叠：基于由所述计量部测量到的所述样品的重量，执行所述加热部的加热操作直到从涂布于所述样品上的抗蚀剂中蒸发掉预定量的溶剂，以此实现在所述基板上形成抗蚀剂层的工序，并且通过对所述涂布部和所述加热部进行同样的控制，使在形成于所述样品上的抗蚀剂层上形成新的抗蚀剂层的工序重复预定的次...

【技术特征摘要】
2011.09.30 JP 2011-2184681.一种抗蚀剂膜形成用装置，其包括 涂布部，所述涂布部被设置成在让基板旋转的同时使抗蚀剂滴落、旋转并铺开； 加热部，所述加热部被设置用于加热样品，所述样品中在所述基板上涂布有所述抗蚀剂； 计量部，所述计量部被设置用于测量正在被所述加热部加热的所述样品的重量；以及控制部，所述控制部被设置成通过如下方式来控制多个抗蚀剂层在所述样品上的层叠基于由所述计量部测量到的所述样品的重量，执行所述加热部的加热操作直到从涂布于所述样品上的抗蚀剂中蒸发掉预定量的溶剂，以此实现在所述基板上形成抗蚀剂层的工序，并且通过对所述涂布部和所述加热部进行同样的控制，使在形成于所述样品上的抗蚀剂层上形成新的抗蚀剂层的工序重复预定的次数。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂膜形成用装置，其中， 在所要形成的所述抗蚀剂膜中，将所述溶剂的蒸发量的阈值设定成使得所述阈值从最下层的抗蚀剂层到最上层的抗蚀剂层是增大的， 并且，所述控制部被设置成进行如下控制执行所述加热部的加热操作直到从各个抗蚀剂层中蒸发掉的溶剂量达到对应的阈值。3.根据权利要求2所述的抗蚀剂膜形成用装置，还包括水平度保持部，所述水平保持部被设置用来当所述样品正在被所述加热部加热时保持所述样品的水平度。4.根据权利要求3所述的抗蚀剂膜形成用装置，其中，所述加热部被设置成将所述样品封闭在密闭的空间内进行加热。5.根据权利要求4所述的抗蚀剂膜形成用装置，还包括 传送托盘，所述传送托盘布置于所述涂布部的旋转平台上，在所述涂布部中，所述样品被放置于所述传送托盘的上表面上；以及 传送部，所述传送部被设置用于在所述涂布部与所述加热部之间传送处于放置有所述样品的状态下的所述传送托盘。6.根据权利要求5所述的抗蚀剂膜形成用装置，其中，在所述基板的上表...

【专利技术属性】
技术研发人员：城崎友秀，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：