防断电保护的硅片清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种防断电保护的硅片清洗机，包括：工艺腔室和位于工艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括：常开N2管路和常闭N2管路，所述常开N2管路与常闭N2管路并联设置，所述常开N2管路上设有常开波纹密封阀，所述常闭N2管路上设有常闭波纹密封阀。本实用新型专利技术提供的防断电保护的硅片清洗机，采用双通道互锁并联设计，当设备主电源发生断电时候，两个互锁的波纹密封阀通过相反控制动作，使N2通路不会因为断电而发生中断，保证清洗机环境清洁。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体清洗
，特别涉及一种防断电保护的硅片清洗机。 
技术介绍
在半导体行业，需要对硅片后道工艺铜互连阶段后，多孔性介质材料进行超精细清洗，Chuck（卡盘）夹持的硅片高速旋转进行清洗时在工艺腔室内完成，清洗包括药液漂洗、超纯水冲洗和N2甩干等工艺。在清洗的过程为了实现对化学药液的回收利用，工艺腔室采用分层设计，Up/down单元带动Chuck至各工艺位置，由伺服电机带动Chuck做高速旋转运动，通过离心力将化学药液甩到专用的回收槽里面。为了防止化学液向下发生滴漏，需要在工艺腔室底背部向上吹N2，从而在硅片底部形成一层自下而上的气体保护膜。一般情况下，如果设备突然发生断电，化学液将会残留在硅片上面，此时如果硅片底部N2保护气发生中断，液体将可能通过硅片边缘滴漏到工艺腔室里面，严重污染清洗环境的清洁度。整个设备如果采用UPS断电保护，成本较高。 
技术实现思路
（一）要解决的技术问题 本技术要解决的技术问题是，针对现有技术的不足，提供一种防断电保护的硅片清洗机，对N2管路进行双通道设计，从而保证整个清洗过程N2通道始终处于畅通状态。 （二）技术方案 本技术提供一种防断电保护的硅片清洗机，包括：工艺腔室和位于工艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括：常开N2管路和常闭 N2管路，所述常开N2管路与常闭N2管路并联设置，所述常开N2管路上设有常开波纹密封阀，所述常闭N2管路上设有常闭波纹密封阀。 其中，当所述常开波纹密封阀打开时，所述常闭波纹密封阀关闭；当所述常开波纹密封阀关闭时，所述常闭波纹密封阀打开。 其中，所述常开波纹密封阀和常闭波纹密封阀通过电磁阀岛气动控制。 其中，防断电保护的硅片清洗机还包括：位于常闭波纹密封阀前端管路上的压力针阀。 其中，防断电保护的硅片清洗机还包括：位于常闭波纹密封阀后端管路上的单向阀。 其中，防断电保护的硅片清洗机还包括：位于常开波纹密封阀后端管路上的超声波流量计和过滤器，所述超声波流量计位于所述过滤器的前端管路上。 （三）有益效果 本技术提供的防断电保护的硅片清洗机，采用双通道互锁并联设计，当设备主电源发生断电时候，两个互锁的波纹密封阀通过相反控制动作，使N2通路不会因为断电而发生中断，保证清洗机环境清洁。 附图说明图1为本技术防断电保护的硅片清洗机管路结构示意图； 图2为本技术防断电保护的硅片清洗机的工艺腔室结构示意图。 具体实施方式下面结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。 如图1所示，本技术提供一种防断电保护的硅片清洗机，包 括：工艺腔室8和位于工艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括：常开N2管路9和常闭N2管路10，所述常开N2管路9与常闭N2管路10并联设置，所述常开N2管路9上设有常开波纹密封阀4，所述常闭N2管路10上设有常闭波纹密封阀3。当所述常开波纹密封阀4打开时，所述闭波纹密封阀3关闭，当所述常开波纹密封阀4关闭时，所述闭波纹密封阀3打开。所述常开波纹密封阀4和常闭波纹密封阀3通过电磁阀岛气动控制。 防断电保护的硅片清洗机还包括：位于常闭波纹密封阀3前端管路上的压力针阀2、位于常闭波纹密封阀3后端管路上的单向阀7以及位于常开波纹密封阀4后端管路上的超声波流量计5和过滤器6，所述超声波流量计5位于所述过滤器6的前端管路上。 工作原理： 设备启动后，通过高清度数字压力开关1，将系统设定到所需要的气体压力，通过电磁阀岛控制的干洁气源（CDA）气体对常开波纹密封阀4和常闭波纹密封阀3进行气动控制，常开波纹密封阀4打开构成常开N2管路9；常闭波纹密封阀3打开构成常闭N2管路10，在常闭波纹密封阀3前端的管路上设置一个可以手动调节的压力针阀2，设备启动后手动打开压力针阀2，保证断电时候N2能够顺利通过。所述常闭波纹密封阀3由开放切换到关闭状态，常闭N2管路10断开；常开波纹密封阀4则由关闭状态切换到打开状态，常开N2管路9保持畅通，N2经过超声波流量计5和过滤器6，进入工艺腔室8。如图2所示，所述工艺腔室内气道采用变径、流线型设计，在工艺腔室8顶部硅片正下方边缘地方开设有均匀间隔的斜圆孔，保证气流有足够的压力从斜孔喷出，在硅片底部形成一层自底向上流动的N2保护膜。 以上实施方式仅用于说明本技术，而并非对本技术的限制，有关
的普通技术人员，在不脱离本技术的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案 也属于本技术的范畴，本技术的专利保护范围应由权利要求限定。 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防断电保护的硅片清洗机，其特征在于，包括：工艺腔室和位于工艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括：常开N2管路和常闭N2管路，所述常开N2管路与常闭N2管路并联设置，所述常开N2管路上设有常开波纹密封阀，所述常闭N2管路上设有常闭波纹密封阀。

【技术特征摘要】
1.一种防断电保护的硅片清洗机，其特征在于，包括：工艺腔室和位于工艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括：常开N2管路和常闭N2管路，所述常开N2管路与常闭N2管路并联设置，所述常开N2管路上设有常开波纹密封阀，所述常闭N2管路上设有常闭波纹密封阀。
2.如权利要求1所述的硅片清洗机，其特征在于，当所述常开波纹密封阀打开时，所述常闭波纹密封阀关闭；当所述常开波纹密封阀关闭时，所述常闭波纹密封阀打开。
3.如权利要求1或2所述的硅片清洗机，其特征在于，所述常开波纹...

【专利技术属性】
技术研发人员：张绍国，何金群，裴立坤，吴仪，王好肖，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：