阵列基板与彩膜基板成盒对位的方法技术

技术编号:8489147 阅读:294 留言:0更新日期:2013-03-28 07:42
本发明专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法包括:步骤一、设置多个基准点,多个基准点的连线在基准平面内形成一基准图形;步骤二、设置多个检测点,多个检测点的连线形成在第一基板上的第一图形;步骤三、在第二基板上设置多个检验点,检验点的连线形成在第二基板上的第二图形;步骤四、检测第一基板上的第一图形与基准图形是否重合;步骤五、检测第二基板上的第二图形向基准平面的垂直投影与第一图形是否重合;步骤六、进行对盒。本发明专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法可以消除对盒工序中的对盒偏差,保证TFT-LCD产品质量;同时避免使用加大黑矩阵遮挡面积的方法,可以增大单位像素的开口率,同时,也可以避免对位偏差造成的漏光现象。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种专门适用于制造半导体的方法,特别是涉及一种。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显不装置(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、无辐射、制造成本相对较低等特点,在当前的平板显示装置市场占据了主导地位。TFT-LCD是由阵列基板和彩膜基板(彩色滤光片)对盒并在其中注入液晶而形成的,阵列基板和彩膜基板之间通常设置柱状隔垫物来维持盒厚。现有技术TFT-1XD的制备工艺中,由于阵列基板与彩膜基板对盒工序中无法避免地会存在一定范围的对盒偏差,因此在一定程度上影响TFT-LCD产品质量。当对盒偏差超出标准规格时,不仅黑矩阵不能起到遮挡作用,而且彩色树脂会发生错位,因此导致画面不良。按照现有技术的工艺条件,对盒偏差只能控制在7um左右,所以为了防止对盒偏差引起的黑矩阵遮挡不良,现有技术一般采用适当加大黑矩阵遮挡面积的方法,但因此减少了单位像素的开口率。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种保证阵列基板与彩膜基板对盒准确的。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,包括步骤一、设置多个基准点,所述多个基准点的连线在基准平面内形成一基准图形;步骤二、在第一基板上设置多个检测点,所述多个检测点的连线形成在第一基板上的第一图形,所述第一图形的形状与所述基准图形的形状一致,所述多个检测点在所述第一图形中的位置与所述多个基准点在所述基准图形中的位置一一对应;步骤三、在第二基板上设置多个检验点,所述检验点的连线形成在第二基板上的第二图形,所述第二图形的形状与所述基准图形的形状一致,所述多个检验点在所述第二图形中的位置与所述多个基准点在所述基准图形中的位置一一对应;步骤四、将所述第一基板上置于所述基准平面内,检测所述第一基板上的第一图形与所述基准图形是否重合,如果不重合,则调整第一基板的位置,直至所述第一图形与所述基准图形重合;步骤五、将所述第二基板置于所述基准平面的正上方,检测所述第二基板上的所述第二图形向所述基准平面的垂直投影与所述第一图形是否重合,如果不重合,则调整所述第二基板的位置,直至所述第二图形向所述基准平面的垂直投影与所述第一图形重合;步骤六、进行第一基板与第二基板的对盒。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其中所述步骤二包括分别在所述第一基板的检测点上涂覆感应物质,以形成多个第一感应物质点,所述多个第一感应物质点的连线在所述在第一基板上形成所述第一图形;所述步骤三包括在所述第二基板的检验点上涂覆感应物质,以形成多个第二感应物质点,所述多个第二感应物质点的连线在所述在第二基板上形成所述第二图形;所述步骤四包括分别在所述基准图形的每一条直边的延长线上设置第一探测器,利用所述第一探测器分别检测所述第一图形上每一直边上的所有所述第一感应物质点的数量,以此检测所述第一图形与所述基准图形是否重合;所述步骤五包括分别在所述基准平面的上方或下方设置多个第二探测器,所述多个第二探测器向所述基准平面的垂直投影分别与所述多个基准点一一重合,利用所述第二探测器分别检测所述第一图形上的每一所述第一感应物质点与所述第二图形上的相对应的第二感应物质点是否在一条直线上,以此检测所述第二基板上的第二图形向所述基准平面的垂直投影与所述第一图形是否重合。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其中,所述第一探测器与所述第二探测器均为X射线荧光光谱仪,通过第一探测器探测所述第一图形的每一直角边上的第一感应物质点的材料,检测所述第一图形上每一直边上的所述第一感应物质点的数量,通过第二探测器探测所述第一图形上的每一第一感应物质点与所述第二图形上的相对应的第二感应物质点的材料,检测所述第一图形上的每一所述第一感应物质点与所述第二图形上的相对应的第二感应物质点是否在一条直线上。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其中,所述步骤二还包括在所述第一基板上涂覆多个第三感应物质点,所述第三感应物质点分别位于所述第一图形的每一直边的中点上;所述步骤四包括利用所述第一探测器分别检测所述第一图形上每一直边上的所述第一感应物质点以及第三感应物质点的数量,以此检测所述第一图形与所述基准图形是否重合。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其中,所述第一探测器与所述第二探测器均为X射线荧光光谱仪,所述第一图形的每一直边上的两个第一感应物质点与同在所述直边的一个第三感应物质点三者的材料各不相同,通过第一探测器探测所述第一图形的每一直角边上的两个第一感应物质点的材料与同在所述直边的一个第三感应物质点的材料,检测所述第一图形上每一直边上的所述第一感应物质点以及第三感应物质点的数量,所述第一图形上的每一第一感应物质点与所述第二图形上的相对应的第二感应物质点的材料不相同,通过第二探测器探测所述第一图形上的每一第一感应物质点与所述第二图形上的相对应的第二感应物质点的材料,检测所述第一图形上的每一所述第一感应物质点与所述第二图形上的相对应的第二感应物质点是否在一条直线上。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其中,所述第一图形、所述第二图形均为矩形,所述第一感应物质点、所述第二感应物质点分别为四个,所述第一感应物质点分别位于所述第一图形的四个顶角上,所述第二感应物质点分别位于所述第二图形的四个顶角上,所述第三感应物质点为四个,所述第至感应物质点分别位于所述第一图形的四个直边的中点。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其中,所述步骤五还包括如果所述第一图形上的一个所述第一感应物质点与所述第二图形上的相对应的一个第二感应物质点在一条直线上,则检查所述直线是否与所述基准平面垂直,如果不垂直,则调整第二基板的位置,直至所述第一感应物质点与所述第二图形上的相对应的一个第二感应物质点在一条直线上且所述直线与所述基准平面垂直。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其中,所述第一基板阵列基板,所述第二基板是彩膜基板。本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,可以消除对盒工序中的对盒偏差,保证TFT-LCD产品质量;同时避免使用加大黑矩阵遮挡面积的方法,可以增大单位像素的开口率,同时,也可以避免对位偏差造成的漏光现象。附图说明图1为本专利技术的的实施例中步骤一的示意图,并示出了步骤五中第二探测器的安放位置;图2、图3、图4为本专利技术的的实施例中步骤二的示意图;图5、图6为本专利技术的的实施例中步骤三的示意图;图7为本专利技术的的实施例中步骤四的示意图;图8、图9为本专利技术的的实施例中步骤五的示意图。具体实施例方式本专利技术的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,包括步骤一、设置多个基准点,所述多个基准点的连线在基准平面内形成一基准图形;步骤二、在第一基板上设置多个检测点,所述多个检测点的连线形成在第一基板上的第一图形,所述第一图形的形状与所述基准图形的形状一致,所述多个检测点在所述第一图形中的位置与所述多个基准点在所述基准图形中的位置一一对应;步骤三、在第二基板上设置多个检验点,所述检验点的连线形成在第二基板上的第二图形,所述第二图形的形状与所述基准图形的形状一致,所述多个检验点在所述第二图形中的位置与所述多个基准点在所述基准图形中的位置一一对应;步骤四、将所述第一基板上置于所述基准平面内,检测所述第一基板上的第一图形与所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其特征在于,包括:步骤一、设置多个基准点,所述多个基准点的连线在基准平面内形成一基准图形;步骤二、在第一基板上设置多个检测点,所述多个检测点的连线形成在第一基板上的第一图形,所述第一图形的形状与所述基准图形的形状一致,所述多个检测点在所述第一图形中的位置与所述多个基准点在所述基准图形中的位置一一对应;步骤三、在第二基板上设置多个检验点,所述检验点的连线形成在第二基板上的第二图形,所述第二图形的形状与所述基准图形的形状一致,所述多个检验点在所述第二图形中的位置与所述多个基准点在所述基准图形中的位置一一对应;步骤四、将所述第一基板上置于所述基准平面内,检测所述第一基板上的第一图形与所述基准图形是否重合,如果不重合,则调整第一基板的位置,直至所述第一图形与所述基准图形重合;步骤五、将所述第二基板置于所述基准平面的正上方,检测所述第二基板上的所述第二图形向所述基准平面的垂直投影与所述第一图形是否重合,如果不重合,则调整所述第二基板的位置,直至所述第二图形向所述基准平面的垂直投影与所述第一图形重合;步骤六、进行第一基板与第二基板的对盒。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴海龙陈维涛
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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