【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。关于承认通过文献的参照而编入的指定国,通过参照于2010年7月16日在日本国申请的特愿2010-161743号、以及于2010年7月16日在日本国申请的特愿2010-161776号中所记载的内容而编入本说明书,并作为本说明书的记载的一部分。
技术介绍
为了实现伴随着电子设备的小型化以及高功能化的高密度配线,已知一种如下的压印法使用模具在绝缘性薄片转印凹形状,并在该凹形状中填充导电材料来形成微小的图案(配线图案、导通孔图案)。在该压印法中,已知一种如下的手法将模具从绝缘性薄片脱模之后,若在通过该模具形成、并成为导通孔图案的连接部的开口部残留树脂,则引起导通孔图案的导通不良等,所以通过等离子体蚀刻、激光削磨来除去该开口部的树脂的残渣(专利文献I)。专利文献I:美国专利第7351660号然而,存在如下的问题若为了除去树脂的残渣而向形成有配线图案的基板照射等离子体、激光,则配线图案产生损伤或者配线图案部分被削去。
技术实现思路
本专利技术要解决的课题是提供一种在压印法中,在将模具从绝缘性薄片脱模时,在绝缘性薄片上形成的开口部的底部不残留树脂的。本申请的第I专 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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