一种光学元件光谱测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光学元件光谱测量装置，包括底座，所述底座一侧设置有发出光线的光源，沿光源照射方向设置有色散光线的光栅，在光栅后方设置有放置待测基片的角度架，在角度架后方设置有光谱探测器，所述角度架通过夹具固定样片或待测基片。该装置通过测量样片校正测试基线，在此基础上再更换待测基片进行测量，即可达到光路偏折一致的条件，测得基片的透过率后乘以样片的理论值即可得到准确结果，该理论值是样片在待测基片所镀角度膜层的角度下的理论透过率。该装置角度架的夹具角度可调，能够测试多种带角度膜层的光学元件。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光学元件光谱测量装置，具体涉及一种带角度膜层的光学元件光谱测量装置。技术背景 随着激光技术的快速发展，激光技术得以广泛应用，所需的光学元件也多种多样，而且对光学元件光谱透过率的准确性要求也越来越高，这其中就需要用到带角度膜层的光学元件。对带角度膜层的光学元件的光谱测量，传统的方法是对空气校基线后，再放入待测基片测量，由于没有考虑光路的偏折问题，导致光谱透过率不准确。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种光学元件光谱测量装置，该装置通过测量样片校正测试基线，再测量待测基片，然后将基片测量结果乘以样片的理论值即得出准确结果，该理论值是样片在待测基片所镀角度膜层的角度下的理论透过率。为了达到上述目的，本技术一种光学元件光谱测量装置，包括底座，所述底座一侧设置有发出光线的光源，沿光源照射方向设置有色散光线的光栅，在光栅后方设置有放置待测基片的角度架，在角度架后方设置有光谱探测器，所述角度架通过夹具固定样片或待测基片。进一步，该装置设置有两个所述角度架，角度架的夹具角度可调。进一步，所述待测基片由所述样片镀有角度膜层构成。待测基片与样片同等厚度，同等材质，最好为同一冷加工中的同盘基片。本技术一种光学元件光谱测量装置，通过测量样片校正测试基线，在此基础上再更换待测基片进行测量，即可达到光路偏折一致的条件，测得基片的透过率后乘以样片的理论值即可得到准确结果，该理论值是样片在待测基片所镀角度膜层的角度下的理论透过率。该装置角度架的夹具角度可调，能够测试多种带角度膜层的光学元件。附图说明附图为本技术的结构视图；图中1.底座、2.光谱探测器、3.角度架、4.样片、5.夹具、6.光栅、7.光源。具体实施方式为更进一步阐述本技术为达到预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图和较佳实施例，对本技术的结构、特征以及功效详细说明如后。如附图所示，本技术包括底座1，底座I 一侧设置有发出光线的光源7，沿光源7照射方向设置有色散光线的光栅6，在光栅6后方设置有放置待测基片的角度架3，在角度架3后方设置有光谱探测器2，角度架3通过夹具固定样片4或待测基片。角度架3的夹具采用不易变形的金属薄片，角度可调，根据待测量基片的角度膜层参数做调整。待测基片与样片的材质、厚度一致，最好为同一冷加工中的同盘基片，样片不带角度膜层。 本技术使用时，首先两个角度架3均固定有样片4，通过光谱探测器2测量样片4校正测试基线，其次将其中外侧样片4取下，如附图中所示的下侧样片4，更换成待测基片进行测量，取得基片透过率，最后乘以样片的理论值即得出准确结果。计算方法如下这其中需要用到基片的透过率测量值，样片在待测基片所镀角度膜层的角度下的理论透过率，还需要将最终计算结果和基片参数值做比较以鉴定待测基片是否合格，下面提及的“参数值”是该角度膜层设计要达到的透过率参数。I)若用此装置测k9基片45° 1064nmT=50% (参数值)，测量结果为55%，那实际结果应为55%*0. 90568 (样片理论值)=49. 8%。2)若用此装置测k9基片22. 5° 1064nmT=20% (参数值)，测量结果为2L 7%，那实际结果应为21. 7%*0. 92076 (样片理论值)=19. 98%。3)若用此装置测k9基片30° 1064nmTs=40% (参数值)，测量结果为45%，那实际结果应为45%*0. 8886 (样片理论值)=39. 987%。上面所述只是为了说明本技术，应该理解为本技术并不局限于以上实施例，符合本技术思想的各种变通形式均在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种光学元件光谱测量装置，其特征在于，包括底座，所述底座一侧设置有发出光线的光源，沿光源照射方向设置有色散光线的光栅，在光栅后方设置有放置待测基片的角度架，在角度架后方设置有光谱探测器，所述角度架通过夹具固定样片或待测基片。2.如权利要求I所述的测量装置，其特征在于，该装置设置有两个所述角度架，角度架的夹具角度可调。3.如权利要求I所述的测量装置，其特征在于，所述待测基片由所述样片镀有角度膜层构成。专利摘要本技术公开了一种光学元件光谱测量装置，包括底座，所述底座一侧设置有发出光线的光源，沿光源照射方向设置有色散光线的光栅，在光栅后方设置有放置待测基片的角度架，在角度架后方设置有光谱探测器，所述角度架通过夹具固定样片或待测基片。该装置通过测量样片校正测试基线，在此基础上再更换待测基片进行测量，即可达到光路偏折一致的条件，测得基片的透过率后乘以样片的理论值即可得到准确结果，该理论值是样片在待测基片所镀角度膜层的角度下的理论透过率。该装置角度架的夹具角度可调，能够测试多种带角度膜层的光学元件。文档编号G01M11/02GK202793742SQ20122042389公开日2013年3月13日 申请日期2012年8月24日 优先权日2012年8月24日专利技术者刘景峰 申请人:北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学元件光谱测量装置，其特征在于，包括底座，所述底座一侧设置有发出光线的光源，沿光源照射方向设置有色散光线的光栅，在光栅后方设置有放置待测基片的角度架，在角度架后方设置有光谱探测器，所述角度架通过夹具固定样片或待测基片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘景峰，
申请(专利权)人：北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司，
类型：实用新型
国别省市：