一种真空测量系统及晶体炉技术方案

本实用新型专利技术涉及晶体生产设备技术领域，公开了一种真空测量系统及晶体炉，所述真空测量系统包括电阻规管、电离规管以及抽真空管路，所述抽真空管路与炉体连通，还包括检测管路和第三阀门，所述电阻规管和电离规管均设置于检测管路上，所述检测管路与炉体之间设置有第三阀门，解决了现有的真空测量系统中更换电阻规管或电离规管的步骤复杂，会导致设备停机处理，不但耽误正常的晶体生长周期，同时造成经济损失的问题。本实用新型专利技术将真空测量系统与炉体隔离开来，从而使得更换电阻规管或电离规管时不需要降温停机处理，大大缩短了更换操作的时间，保证设备的稳定运行。保证设备的稳定运行。保证设备的稳定运行。

【技术实现步骤摘要】
一种真空测量系统及晶体炉


[0001]本技术涉及晶体生产设备
，尤其涉及一种真空测量系统，以及应用该真空测量系统的晶体炉。

技术介绍

[0002]现有的晶体生长工艺中，当晶体原料被投入炉体后，在晶体生长的前期，炉体内需要满足的工艺条件是：真空度为10
‑3pa以下，温度约为300
‑
400℃。
[0003]如附图1所示，为满足上述真空度和温度的需求，加热器的温度需要达到约800℃，并由加热器来将炉体1内的温度加热至所需温度；为满足真空度需求，需要组合使用机械泵2和扩散泵3来对炉体1以及与炉体1连通的管道进行抽真空操作。由于晶体生长周期比较长（约2周），在晶体生长过程中，对环境以及设备的稳定性要求比较高。在晶体生长的期间，需要随时监测炉体1内的真空度，除了设置于炉体1上的真空压力表11外还需要用到电阻规管4和电离规管5。
[0004]在实际的晶体生长过程中，一方面在抽真空的过程以及在低温加热的过程中会挥发出少量的氧化性气体，氧化性气体容易导致电阻规管4和电离规管5损坏；另一方面，由于设备需要长时间在高温的工作环境下进行工作，特别容易引起电阻规管4和电离规管5的损坏。
[0005]电阻规管4或电离规管5损坏后都需要马上更换，但在现有的真空测量系统中更换规管的步骤比较复杂，需要对设备进行降温处理，甚至在更换电阻规管4时还需要将氩气通入炉体1才能进行更换操作。这样的更换操作会导致设备停机处理，不但耽误正常的晶体生长周期，同时对电力资源和人力也造成了不必要的浪费，造成经济损失，故现有的真空测量系统亟待改进。

技术实现思路

[0006]针对现有技术中电阻规管或电离规管损坏后更换步骤复杂、费时费力且会导致设备停机的问题，本技术的目的在于提供一种真空测量系统，使得真空测量系统与炉体隔离开来，从而在更换电阻规管或电离规管时不需要进行降温停机处理，简化了更换电阻规管或电离规管的步骤，降低了操作难度，大大缩短了更换所需的时间，保证设备的稳定运行，避免了资源的浪费，降低生产成本。
[0007]为达到上述目的，本技术的技术方案为：
[0008]一种真空测量系统，用于测量炉体内的真空度，包括电阻规管、电离规管以及抽真空管路，所述抽真空管路与炉体连通，还包括检测管路和第三阀门，所述电阻规管和电离规管均设置于检测管路上，所述检测管路与炉体之间设置有第三阀门。
[0009]通过采用上述技术方案，检测炉体真空度的电阻规管和电离规管单独设置于与炉体连通的检测管路上，且检测管路与炉体连通的管道上还设置了第三阀门，将电阻规管和电离规管与炉体和抽真空管路隔离开来，使得检测管路并不与抽真空管路或炉体直接连
通。在抽真空管路按照工作流程将炉体内抽真空后需要检测炉体内的真空度时，只需打开第三阀门，检测管路即可与炉体内部连通。在获得炉体内真空度数据以及其他不需要测量真空度时，可以通过关闭第三阀门来避免电阻规管和电离规管长时间暴露于炉体内的高温环境下，同时降低了炉体内氧化性气体对电阻规管和电离规管造成损坏的可能性，延长了电阻规管和电离规管的使用寿命；另一方面，当电阻规管和电离规管需要更换时，由于检测管路与炉体以及抽真空管路隔离开来，因此关闭第三阀门后即可迅速更换损坏的电阻规管或电离规管，实现了在炉体不停炉、抽真空管路上的设备不停机的情况下快速更换损坏的电阻规管或电离规管，更换操作简单、耗时短，不影响晶体的正常生长周期，在提高晶体产量和晶体质量的同时节约了成本。
[0010]本技术进一步设置为：还包括第四阀门，所述检测管路通过第四阀门与抽真空管路连通，且所述第四阀门与检测管路的连通处设置于第三阀门背离炉体的一侧。
[0011]通过采用上述技术方案，检测管路通过第四阀门与抽真空管路连通，使得抽真空管路可根据实际需要对检测管路进行抽真空操作。在更换电阻规管或电离规管后，检测管路中漏入空气，真空度不足，此时可在打开第三阀门将炉体与检测管路连通之前，先打开第四阀门，由抽真空管路预先对检测管路抽真空后再打开第三阀门进行检测，避免更换电阻规管或电离规管后检测管路中的空气进入炉体内造成气体污染，影响晶体生长。
[0012]本技术进一步设置为：还包括放气阀门，所述放气阀门一端与检测管路连通且另一端与大气连通，所述放气阀门与检测管路的连通处设置于第三阀门背离炉体的一侧。
[0013]通过采用上述技术方案，放气阀门用于在更换电阻规管或电离规管前平衡检测管路内气压与外界大气气压，放气阀门通过自身开启的程度来控制外界大气进入检测管路的速度，避免外界大气过快进入检测管路中对电阻规管或电离规管造成进一步的损坏。
[0014]本技术进一步设置为：所述抽真空管路上设置有机械泵和扩散泵，所述扩散泵与炉体之间设置有第二阀门，所述机械泵与扩散泵的连通管路上设置有第一阀门，所述第一阀门与扩散泵的连通处设置于第二阀门背离炉体的一侧。
[0015]本技术进一步设置为：第四阀门与抽真空管路的连通处位于第二阀门靠近炉体的一侧。
[0016]本技术进一步设置为：所述放气阀门与检测管路的连通处设置于电阻规管与检测管路的连通处和电离规管与检测管路的连通处之间。
[0017]本技术的另一个目的在于提供一种晶体炉，应用上述真空测量系统。
[0018]通过采用上述技术方案，该晶体炉由于采用了上述真空测量系统，因此该晶体炉具有上述真空测量系统的所有技术效果。
[0019]综上所述，本技术实现的有益效果如下：
[0020]（1）第三阀门将检测管路上的电阻规管和电离规管与炉体隔离开来，需要检测炉体内的真空度时打开第三阀门；不需要测量真空度时，可以通过关闭第三阀门来避免电阻规管和电离规管长时间暴露于炉体内的高温环境下，同时降低了炉体内氧化性气体对电阻规管和电离规管造成损坏的可能性，延长了电阻规管和电离规管的使用寿命；
[0021]（2）检测管路与炉体隔离，关闭第三阀门后即可迅速更换损坏的电阻规管或电离规管，不仅维修方便，而且实现了在炉体不停炉、抽真空管路上的设备不停机的情况下快速
更换损坏的电阻规管或电离规管，更换操作简单、耗时短，不影响晶体的正常生长周期，在提高晶体产量和晶体质量的同时节约了成本；
[0022]（3）更换电阻规管或电离规管后，检测管路中漏入空气，抽真空管路可通过第四阀门对检测管路进行抽真空后再打开第三阀门进行检测，避免更换电阻规管或电离规管后检测管路中的空气进入炉体内造成气体污染，影响晶体生长和晶体质量；
[0023]（4）放气阀的设置让电阻规管或电离规管的安装和拆卸更加方便，同时放气阀门通过自身开启的程度来控制外界大气进入检测管路的速度，避免外界大气过快进入检测管路中对电阻规管或电离规管造成进一步的损坏。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空测量系统，用于测量炉体内的真空度，包括电阻规管、电离规管以及抽真空管路，所述抽真空管路与炉体连通，其特征在于，还包括检测管路和第三阀门，所述电阻规管和电离规管均设置于检测管路上，所述检测管路与炉体之间设置有第三阀门。2.根据权利要求1所述的一种真空测量系统，其特征在于，还包括第四阀门，所述检测管路通过第四阀门与抽真空管路连通，且所述第四阀门与检测管路的连通处设置于第三阀门背离炉体的一侧。3.根据权利要求2所述的一种真空测量系统，其特征在于，还包括放气阀门，所述放气阀门一端与检测管路连通且另一端与大气连通，所述放气阀门与检测管路的连通处设置于第三阀门背离炉体的一侧。4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘景峰，
申请(专利权)人：北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：