近垂直入射宽带偏振光谱仪和光学测量系统技术方案

技术编号:8763972 阅读:162 留言:0更新日期:2013-06-07 18:08
本发明专利技术涉及一种易于调节聚焦的、无色差的、保持偏振特性的、信噪比优化的、且结构简单的近垂直入射宽带光谱仪。该宽带光谱仪通过一对曲面反射元件和平面反射元件实现聚焦和调焦,包含至少一个偏振器,能够高精度地测量样品材料的光学常数、薄膜厚度和/或用于分析周期性结构的样品的临界尺度(CD)或三维形貌;特别地,该宽带光谱仪通过采用近垂直入射,避免了分束结构的使用,提高光通量一倍以上。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种近垂直入射宽带偏振光谱仪,其特征在于,该近垂直入射宽带偏振光谱仪包括光源、第一聚光单元、第一偏振器、第一曲面反射元件、第一平面反射元件、第二平面反射元件、第二曲面反射元件、第二偏振器、第二聚光单元和探测单元,其中:所述第一聚光单元用于将来自所述光源的光束会聚成平行光束;所述第一偏振器用于使所述平行光束变成偏振光束;所述第一曲面反射元件用于将所述偏振光束会聚并反射至所述第一平面反射元件;所述第一平面反射元件用于将来自所述第一曲面反射元件的偏振光束近似垂直地聚焦到样品上;所述第二平面反射元件用于将从样品上反射的光束反射至所述第二曲面反射元件;所述第二曲面反射元件用于接收来自所述第二平面反射元件的反射光束并将该反射光束会聚成平行光束;所述第二偏振器用于使来自所述第二曲面反射元件的平行光束变成偏振光束;所述第二聚光单元用于使来自所述第二偏振器的偏振光束会聚并入射到所述探测单元;所述第一平面反射元件和所述第一曲面反射元件具有相同的反射材料和镀膜结构,并满足光束的入射角相同或相差不超过5°且入射平面相互垂直的条件;所述第二平面反射元件和所述第二曲面反射元件具有相同的反射材料和镀膜结构并满足光束的入射角相同或相差不超过5°且入射平面相互垂直的条件。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李国光吴文镜赵江艳刘涛王林梓马铁中
申请(专利权)人:北京智朗芯光科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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