一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法技术

本发明专利技术公开了一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法，方法是将起偏臂产生的调制光线投射到待测样件表面，检偏臂将待测样件反射(或透射)的光线解调并接收，通过对测量光谱进行谐波分析，计算获得待测样件的全穆勒矩阵信息，并通过非线性回归，库匹配等算法拟合提取待测样件的光学常数，特征形貌尺寸等信息。椭偏仪包括起偏臂(包括光源，透镜组，起偏器和伺服电机驱动的补偿器)，待测样件和检偏臂(包括伺服电机驱动的补偿器，检偏器，透镜组和光谱仪)。本发明专利技术可实现各种信息光电子功能材料和器件，以及纳米制造中各种纳米结构的在线测量，具有非破坏性，快速和低成本的特点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪，其特征在于，它包括起偏臂和检偏臂；所述起偏臂包括光源、第一透镜组、起偏器和第一旋转补偿器；光源、第一透镜组、起偏器和第一旋转补偿器依次位于同一光路上，且光源位于第一透镜组的焦点上；所述检偏臂包括检偏器、第二透镜组、光谱仪和第二旋转补偿器；第二旋转补偿器、检偏器和第二透镜组和光谱仪依次位于同一光路上，且光谱仪位于第二消色差透镜组的焦点处；第一旋转补偿器和第二旋转补偿器的相位延迟量均在60°?140°范围内；所述起偏臂与所述检偏臂工作时沿样品台的轴线方向对称放置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘世元，李伟奇，张传维，陈修国，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：