硬涂薄膜制造技术

本发明专利技术提供一种硬涂薄膜，其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上)，且具有加工适应性，并且透射清晰度优异，适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件。在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，(1)前述硬涂层表面依照JIS?B?0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS?B?0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度为450以上，其依照JIS?K?7374：2007测定，以针对5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及硬涂薄膜，更具体涉及铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件的硬涂薄膜。
技术介绍
硬涂薄膜主要用于显示器表面，但是近年越来越广泛用于触摸面板等移动设备。触摸面板用的显示器要求与一般的显示器不同的要求性能。特别是，由于时常携带并且接触于硬涂表面而操作，因此强烈期望提高表面硬度。提高表面硬度的技术正在比以前更多地被研究。例如在专利文献1、2的技术中，在硬涂层的底层设置缓冲层或低硬度的硬涂层而实现高的铅笔硬度。但是，由于该技术中为多层结构，因此干涉条纹等外观缺点的产生、制造成本的提高令人担忧。另外，虽然仅通过使硬涂层变厚也可获得高的铅笔硬度，但是在此情况下产生弯曲性降低、裁剪加工适应性和/或冲压加工适应性降低的问题。·现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开平11-300873号公报专利文献2 :日本特开2007-219013号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术在这样的状况下被开发，其目的在于提供一种硬涂薄膜，其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硬涂薄膜，其特征在于，在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，(1)前述硬涂层表面依照JIS?B?0601?1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS?B?0601?1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度为450以上，其依照JISK?7374：2007测定，以针对狭缝宽度为0.125mm、0.25mm、0....

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：本乡有记，江嶋由多加，那须健司，
申请(专利权)人：琳得科株式会社，
类型：发明
国别省市：