一种调节真空磁控辉光均匀性的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种调节真空磁控辉光均匀性装置，该装置包括长度调节机构、辉光均匀控制机构、辉光均匀机构，所述长度调节机构与所述辉光均匀控制机构配合以控制所述辉光均匀机构调节所述辉光的均匀性。本实用新型专利技术的有益效果包括可以在真空环境下操作，不用回气操作，降低了成本，并节约人力物力；可以精确调节辉光均匀性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及玻璃深加工
，尤其涉及一种调节真空磁控辉光均匀性装置。
技术介绍
上世纪90年代至今，磁控溅射技术的应用日趋广泛，在工业化生产和科学研究领域发挥巨大作用。磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法，被普遍和成功的应用在许多方面，特别是光学薄膜、微电子、材料表面处理领域中，用于薄膜沉积和表面覆盖层制备。磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标，在溅射镀膜中， 由于靶内磁场分布，溅射气体分部以及溅射源特有的性质等原因，使得所镀膜层厚度不能理想的均匀分布。专利号CN201120282981. 5的中国专利公开了一种可改善磁控溅射镀膜均匀性的镀膜装置，其方法是镀膜腔体内安装一组可调节长度的挡板，通过在大气下控制开口大小来控制均匀程度。该方法的局限性有以下几点。一、调节目的性差，靠多次操作经验来完成。二、调节针对性不强，不能针对某个腔体时时调节。三、调节精度差，没有定量调节装置，所以其实用性不良。四、操作性能不好，该技术只能在大气环境下操作，严重影响正常工业化生产。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的不足，本技术的目的是提供一种调节真空磁控辉光均匀性装置，能够在真本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调节真空磁控辉光均匀性装置，包括长度调节机构、辉光均匀控制机构、辉光均匀机构，所述长度调节机构与所述辉光均匀控制机构配合以控制所述辉光均匀机构调节所述辉光的均匀性。

【技术特征摘要】
1.一种调节真空磁控辉光均匀性装置，包括长度调节机构、辉光均匀控制机构、辉光均匀机构，所述长度调节机构与所述辉光均匀控制机构配合以控制所述辉光均匀机构调节所述辉光的均匀性。2.根据权利要求I所述的装置，其特征在于所述长度调节机构是长度可调的调节杆。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于所述辉光均匀控制机构包括圆环形调节套和固定于套外的倒V型调节板。4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于所述调节套包括调节内套和调节外套，所述调节内套套接固定于所述调节杆顶端，所述调节内套设有若干调节内套磁铁，所述调节外套相应位置设有相同数量的调节外套磁铁。5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于所述调节内套可随着调节杆的转动而转动，同吋，由于所述调节内套磁铁和所述调节外套磁铁的磁力作用，所述调节外套随着所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王旭升，王烁，童帅，
申请(专利权)人：天津南玻节能玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：