一种多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置制造方法及图纸

技术编号:8346667 阅读:195 留言:0更新日期:2013-02-20 22:31
本发明专利技术涉及薄膜与涂层制备技术领域,具体地说是一种多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置,解决现有技术中大颗粒、靶材刻蚀与涂层均匀性差、沉积效率低等问题。该旋转弧离子镀装置采用特种多功能多结构适应型离子镀枪配合结构优化的水冷法兰套作为整体弧源结构,离子镀枪的靶材底座后设有轴向辅助磁场装置,法兰套的外侧设有二极旋转横向磁场发生装置、聚焦导引磁场装置。通过三套磁场装置的耦合作用形成二极旋转横向磁场为主的其他磁场耦合的多型复合磁场。本发明专利技术既满足靶面附近的旋转磁场状态,改善弧斑放电形式,降低功率密度、减少大颗粒发射,又保证等离子体传输空间的磁场分布,提高等离子体的传输效率和传输均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜与涂层制备
,具体地说是一种多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置
技术介绍
表面防护涂层技术是提高工模具及机械部件质量和使用寿命的重要途径,作为材料表面防护技术之一的离子镀膜技术,由于由于结构简单、离化率高、入射粒子能量高,可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层,应用在工具、模具上面,可以使寿命成倍提高,较好地实现了低成本、高收益的效果;此外,离子镀涂层技术具有低温、高能两个特点,几乎可以在任何基材上成膜,应用范围十分广阔,展示出很大的经济效益和工业应用前景。电弧离子镀所用的弧源结构是冷阴极弧源,电弧的行为被阴极表面许多快速游动,高度明亮的阴极斑点所控制,阴极斑点的运动对电弧等离子体的物理特性以及随后的镀膜特性有很大的影响。而离子镀弧源是电弧等离子体放电的源头,是离子镀技术的核心部件。为了更好的提高沉积薄膜的质量和有效的利用靶材,提高放电稳定性,必须对弧斑的运动进行合理的控制,而弧斑的有效控制必须有合理的机械结构与磁场结构配合。同时,由于电弧离子镀阴极斑点的尺寸很小,功率密度非常高(1016W/m2),如果阴极斑点在一个位置停留本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置,其特征在于:该多结构耦合磁场适应型旋转弧离子镀装置采用特种多功能多结构适应型离子镀枪配合结构优化的水冷法兰套作为整体弧源结构,法兰套的外侧设有法兰套绝缘套,法兰套绝缘套的外侧设有二极旋转横向磁场发生装置;或者,法兰套绝缘套的外侧设有二极旋转横向磁场发生装置和聚焦导引磁场装置;或者,在上述两种情况的同时,离子镀枪的靶材底座后设有轴向辅助磁场装置;通过所述磁场装置的耦合作用形成二极旋转横向磁场为主的其他磁场耦合的多型复合磁场;法兰套中设有法兰套冷却水通道,法兰套底部开有与冷却水通道相通的法兰套出水口、法兰套进水口,法兰套冷却水通道的一端设置环形法兰盘,法兰...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郎文昌王向红李明霞
申请(专利权)人:温州职业技术学院
类型:发明
国别省市:

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