【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及薄膜与涂层制备
，具体地说是一种紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源。
技术介绍
电弧离子镀膜技术是当今一种先进的离子镀膜技术，由于其结构简单，离化率高，入射粒子能量高，绕射性好，可实现低温沉积等一系列优点，使电弧离子镀技术得到快速发展并获得广泛应用，展示出很大的经济效益和工业应用前景，特别是在装饰镀和工模具镀 市场领域到处可以看到电弧离子镀的踪影。但是大颗粒的喷射造成了薄膜表面污染，导致表面的粗糙度增大而降低薄膜的光泽，对装饰及抗磨应用带来不利影响，严重影响薄膜的质量，导致镀层附着力降低并出现剥落现象，镀层严重不均匀等。电弧离子镀高离化率，低温沉积的突出优点使其在工模具镀上展现出其他镀膜方式所不具备的优势，但是电弧放电的特点使得大颗粒的存在成为工模具镀的阻碍，也成为阻碍电弧离子镀技术更深入广泛应用的瓶颈问题。目前，应用比较多而且效果比较好的措施是磁过滤，磁过滤技术的采用，虽然有效地消除了大颗粒的污染，但由于等离子体在传输过程的损失，沉积速率也大幅度降低，目前等离子体的传输效率最高也仅有25%，导致了原材料的浪费和生产效率降低，电弧离子镀的优点就是沉...
【技术保护点】
一种紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源，其特征在于：所述紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源设有二极径向旋转磁场发生装置、聚焦导引磁场发生装置、靶材、靶材底座、靶材底座屏蔽罩、法兰套、法兰套屏蔽罩、靶材底盘、永久磁体装置、引弧装置；靶材、靶材底座、靶材底座屏蔽罩、靶材底盘和永久磁体装置形成弧源头；法兰套、法兰套绝缘套、二极径向旋转磁场发生装置、轴向聚焦导引磁场发生装置、同轴聚焦磁场磁轭和法兰套屏蔽罩形成控制磁场组；弧源头通过靶材底盘与法兰套底部进行连接，形成整体弧源结构，通过法兰套前部的法兰盘与炉体进行连接；法兰套的外侧设有法兰套绝缘套，法兰套绝缘套的外侧设有二极旋转横向磁场发生装置、轴...
【技术特征摘要】
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。